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合作及其他品牌 | TRUMPF

合作及其他品牌

TRUMPF是一家研發及製造機床和雷射應用技術領域生產解決方案的高科技公司。此外，與該企業關聯的其他企業則專門致力於客戶群體的客製化需求。例如，除了用於材料加工的傳統雷射器系列之外，TRUMPF旗下的多家子公司同時研發並生產專為科研應用量身定製的雷射系統。

TRUMPF Scientific Lasers

TRUMPF Scientific Lasers雷射系統是產生高功率、高能量皮秒和飛秒雷射脈衝不可或缺的工具。堅固耐用的新一代光源可提供能量超200 mJ或僅出現少量電場振蕩的雷射脈衝。得益於多種版本和選項，客戶總能得到量身定制的系統。

產品系列

Dira 200-1，產品圖片

Dira系列

Dira系列雷射器提供脈衝長度為皮秒且脈衝能量高達200 mJ的脈衝——這是目前藉助再生放大器可以產生的最高脈衝能量率。

光參量放大器

光參量放大器已成為產生具有短週期寬頻脈衝的強大工具。目前它們是產生此類多mJ級別脈衝的唯一方法。

雷射附件

無論是飛秒脈衝同步、定制雷射頭控制系統、延遲發生器還是光學組件——TRUMPF Scientific Laser為客戶提供各種工具以集成和優化雷射系統。

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Amphos

AMPHOS(「Amplifying Photonicsquot」)是由著名的弗勞恩霍夫雷射技術研究所和亞琛工大孵化的公司，自2018年起隸屬於TRUMPF集團。AMPHOS開發並生產適合科學與工業應用的高功率超短脈衝雷射器。

產品系列

玻璃切割

超短雷射脈衝非常適用於去除電介質。AMPHOS雷射系統的高輸出功率直接導致高燒蝕速率。研究表明，燒蝕速率與輸出功率成線性關係。

透明介質的3D加工——ISLE

透明零件的3D結構創新製程就是通常所說的「選擇性雷射蝕刻」（ISLE——體內選擇性雷射蝕刻）。在第一步中，用飛秒雷射射線使材料改性。第二步，透過標準蝕刻工藝去除已改性的體積。

複合材料

AMPHOS雷射系統是加工複合材料的理想選擇。由於吸收過程非線性，能以相同的高品質去除不同品種的材料。因此CFRP或GFRP材料可在150 W功率下以最高2至3mm²/s的燒蝕速率進行加工。

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Access Laser

Access Laser Co.製造低功率範圍CO2雷射器。最重要的應用領域是用於製造微晶片的EUV光刻技術的雷射器。低功率CO2雷射器及其雷射光用作束源，與EUV設備中的TRUMPF雷射放大器結合使用。

產品系列

工業雷射

Access Laser的工業高功率雷射產品在全球範圍內用於工業切割、焊接、標註和編碼。雷射在牙科手術和皮膚重建領域也證明了其價值。

高功率雷射

我們行業領先的穩定化雷射器系列能夠在提供高功率的同時保持2%的波長精度——在風冷和水冷配置中都是如此。Access Laser在半切割（選擇性深度）、薄膜燒蝕和玻璃纖維生產方面具有無可比擬的出色性質。

科學應用

穩定化Access Laser適合廣泛的科學應用。對於光譜學、示蹤氣體分析和呼吸分析或環境監測等領域，雷射在研發方面開闢了廣泛的可能性。

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