新一代高频电源
表面的涂层或结构化的关键在于稳定和可重复的等离子体电源。采用现代电力电子技术的 TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列高频电源为此提供最佳前提条件：得益于其稳定的输出功率与高调节精度，实现高生产效率的同时可确保最佳结果。
CombineLine 技术：凭借 50 欧姆的真实输出阻抗获得最佳工艺流程功率。
无需适配电缆长度——高频范围内绝无仅有的创举！
CombineLine 技术：失调情况下可靠避免反射功率影响。
高达 80 % 的能量转换率能够缩减最多 50 % 的能源成本。
外界空气既不会升温也不会受到污染，因此可实现无尘室内运行。
纯平显示屏镀膜的理想之选
TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列高频电源理想适用于 RIE（反应离子刻蚀）、ALD（原子层沉积）、PECVD（等离子体增强化学气相沉积）和射频溅镀法等等离子体工艺流程。这些工艺主要应用于制造半导体元件和微机械系统 (MEMS) 以及平板显示器和太阳能电池的涂层。
典型应用领域：太阳能行业
TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列的典型应用领域是太阳能行业中要求严苛的 PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、刻蚀及高频溅射等工艺。
半导体制造
在半导体制造中，使用不同等离子体工艺，包括通过干法刻蚀的材料去除工艺和用于制备纯硅的区熔法。TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列电源为最佳适配相应工艺的稳定供电系统提供一切前提条件，从而取得出色的可再现结果。
优化适配您的进程
最高效率与灵活性
通快 SystemPort
各种选项可以实现高频电源根据应用进行最佳适配。
已获专利的自动频率调谐解决方案能够快速同步适配频率，确保电源与阻抗匹配器之间的最佳协作。凭借已获专利的该项技术，局部最小化已非阻碍：RF 系统达到最佳状态，从而实现最佳工艺流程结果和高度可重复性。
精湛的电弧管理是适用于最佳等离子体工艺流程控制的理想模块。有针对性的电弧识别确保高生产效率，同时保护产品与设备。
通快 RF 系统的所有组件相互最佳协调。
彼此完美协调：通快 RF 系统
等离子体工艺就像一个复杂可变的负载，必须通过发生器为其不断供电。这项工作由有源匹配网络（所谓的阻抗匹配器）来完成，确保随时精确匹配 50 Ω 的最佳阻抗。由此形成相互完美协调的系统解决方案——通快 RF 系统。通过不同接口（如 EtherCAT）可十分轻松地将电源和阻抗匹配器集成至现有工艺环境之中，并通过电源与阻抗匹配器的智能连接（即所谓的 SystemPort）形成经优化的系统解决方案。
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