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Whitepaper Power Electronics

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Regulación de tensión innovadora para sistemas de almacenamiento C&I que permite una transición fluida entre la conexión a la red y el funcionamiento autónomo.
Si un sistema de almacenamiento en baterías tiene la capacidad de formar y operar redes locales además de funcionar conectado a la red, el aumento de la resistencia, la robustez y la seguridad se traduce en ventajas decisivas para el operador. En particular, esto incluye la continuidad del funcionamiento de sus instalaciones en caso de avería de la red de suministro.
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Acoplamiento de corriente continua: la forma más eficaz
A medida que disminuye el coste del almacenamiento de energía, las aplicaciones de almacenamiento acopladas fotovoltaicas resultan cada vez más atractivas para una amplia gama de aplicaciones.
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Ondulador de tres puntos de una etapa
La eficiencia energética y de costes de los sistemas de baterías acoplados de corriente alterna para altas tensiones depende de la electrónica de potencia necesaria para conectar la batería a la red. En este artículo se analizan los requisitos y dependencias de un enfoque de un solo paso que puede ahorrar costes y aumentar el rendimiento del sistema.
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La forma es lo que cuenta: pulverización catódica bipolar
En este artículo se presentan dos características de las alimentaciones eléctricas bipolares: (i) una amplia gama de frecuencias de pulso de hasta 100 kHz y (ii) un tiempo de frenado adicional entre la semionda positiva y negativa de la forma de onda rectangular de corriente y tensión.
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Sinusoidal o rectangular
Desde la introducción de la pulverización catódica por magnetrón dual (DMS) para capas altamente aislantes, existe la posibilidad de elegir entre una alimentación eléctrica de impulsos de onda cuadrada o de onda sinusoidal.
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Auto Frequency Tuning
Una medida contra las fluctuaciones rápidas en el rango de impedancia del plasma es la sintonización automática de frecuencia, en la que el generador RF ajusta su fundamental a un valor de frecuencia con mejor adaptación en un lapso de tiempo inferior a un milisegundo.
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Nueva tecnología de corriente continua por pulsos
La pulverización catódica de corriente continua y de corriente continua por pulsos es una de las técnicas de pulverización catódica más utilizadas en el sector industrial. La introducción de la tecnología de corriente continua por pulsos permitió la producción en masa de recubrimientos fabricados a partir de compuestos no conductores producidos por pulverización catódica por magnetrón reactiva.
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Modo de transición regulado por tensión
La pulverización catódica reactiva sigue siendo un método de gran éxito en la industria moderna para crear recubrimientos aislantes y recubrimiento duros. En comparación con la evaporación, la pulverización catódica ofrece las ventajas del recubrimiento asistido por iones, lo que lo hace atractivo para la industria a pesar de los significativos costes de instalación y electricidad.
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Gestión de arc
La formación de arc durante la pulverización por magnetrón FM: Un problema bien conocido en la pulverización catódica por magnetrón reactiva es la formación de arc en los cátodos.
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LDMOS
Este artículo analiza los efectos de las estructuras de combinación de potencia sobre el rendimiento térmico y de radio frecuencia de los amplificadores de radio frecuencia de alta potencia en condiciones de incongruencia. 
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HiPIMS: nuevas oportunidades para la industria
El High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) es el último proceso PVD (Physical Vapor Deposition) disponible en la industria.
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Tecnología PEALD, generador de señales de radiofrecuencia y redes de coincidencia
La Atomic Layer Deposition (ALD) es un proceso en el que se depositan diversos materiales en capa fina a partir de un conductor de línea de vapor. En varios ciclos de recubrimiento se forma una película muy fina de capas atómicas.
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Uso de la pulverización catódica de corriente continua por pulsos
Uno de los materiales de resorción más interesantes para las células solares son los basados en seleniuro de cobre e indio (CIS), cuyas propiedades pueden modificarse sustituyendo parte del indio por galio para formar Cu(In,Ga)Se2, conocido como CIGS.
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Precisión en el tratamiento
Las mejoras continuas en los procesos de fabricación de semiconductores son un requisito previo para garantizar una reducción constante del tamaño. A su vez, esto requiere generadores RF que ofrezcan una calidad de señal cada vez mayor en términos de potencia de salida y resolución temporal.
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Alimentación de corriente continua para el calentamiento por resistencia en procesos MOCVD precisos
El Metal Organic Chemical Vapor Phase Deposition (MOCVD) es un proceso muy complejo para el crecimiento de capas cristalinas. El MOCVD se utiliza, por ejemplo, en la fabricación de diodos luminosos (LED), láseres, transistores, células solares y otros elementos de construcción electrónicos y optoelectrónicos y es la tecnología clave para futuros mercados con gran potencial de crecimiento. La TruHeat DC 3000 es la candidata perfecta para estas aplicaciones.
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Calentamiento por inducción: aplicaciones y retos para la industria de semiconductores
TRUMPF Hüttinger ofrece una amplia gama de fuentes de alimentación para procesos, circuitos exteriores, inductores y accesorios que ya se están utilizando con éxito para procesos de epitaxia y cultivo de cristales en varios líderes de las industria del SiC y el GaN.
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Generador GaN altamente eficiente e innovador en la banda ISM de 2,45 GHz para aplicaciones de microondas de alta tecnología
Hasta ahora, el principal obstáculo y el mayor inconveniente para la industrialización de los procesos de microondas ha sido la falta de "oportunidades". Hasta ahora, solo se disponía de componentes movidos de forma mecánica, como placas giratorias, agitadores, etc., para influir en la homogeneidad del proceso de calentamiento y permitir una distribución de la temperatura específica y un proceso de calentamiento reproducible.
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