Ezen weboldal rendelkezésre bocsátásához és működéséhez sütiket használunk. Ha további célokra is használhatunk sütiket, akkor kérjük, kattintson ide. Információk a sütik deaktiválásához és az adatvédelemhez
EUV litográfia cikkgyűjtemény

A média tükrében: az EUV litográfia

Az extrém ultraibolya sugárzás (EUV) a lapka levilágításhoz kétség kívül a jövő kulcsfontosságú témája a chipiparban. Nem csoda, hogy nemcsak a szaksajtó, hanem más sajtótermékek is rendszeres időközönként ennek a témának szentelik magukat, és nyomon követik a technológia fejlődését. Egyes nemzeti és nemzetközi újdonságokról beszámoló cikkek összeállítását megtalálja ezen az oldalon.

A Samsungs 5 nm-es EUV eljárás készen áll

A Golem.de ezen cikkében a szerző, Marc Sauter arról tudósít, hogy a Samsung Foundry befejezte az 5 nm-es eljárás fejlesztését  ultraibolyántúli sugárzással (EUV) , és mostantól fogadja az ügyfelek megrendeléseit. Az új eljárással a tranzisztorsűrűség 25%-kal növelhető és ezzel egyidejűleg a chipek teljesítményfelvétele 20%-kal alacsonyabb, ill. a számítási teljesítményük 10%-kal nagyobb.

Forrás: www.golem.de
Szerző: Marc Sauter
Megjelenés dátuma: 2019. április
Link: a cikkhez

A Samsung 7 nanométeres chipeket gyárt EUV levilágítókkal

A heise.de arról számol be ebben a cikkben, hogy a Samsung 2018 őszén megkezdte a gyártást az első 7 nm-es gyárában, és ott az ASML EUV litográfia rendszerével világít le lapkákat. Forrás: www.heise.de
Szerző: Nico Ernst
Megjelenés dátuma: 2018. október
Link: a cikkhez

Az idő előtt

A TRUMPF 2017/2018 évi üzleti jelentése rávilágít arra, hogy a fény – és ezzel a lézer és az EUV litográfia – kezelése a jövő olyan technológiáinak az alapja, mint a mesterséges intelligencia, az autonóm eljárás és a hálózatba kötött gyárak.

Forrás: TRUMPF 2017/2018 üzleti év üzleti jelentése
Szerző: TRUMPF GmbH + Co. KG
Megjelenés dátuma: 2018. október
Link: a cikkhez

Az EUV szkennerek rendelkezésre állása 85 százalékra nőtt

A golem.de weblapon a cikk azt közli, hogy az ASML az NXW:3400B rendszereit olyan jelentős mértékben javította, hogy az extrém ultraibolya sugárzással történő, költség- és időtakarékos sorozatgyártás elérhető közelségbe került. Forrás: www.golem.de
Szerző: Marc Sauter
Megjelenés dátuma: 2018. július
Link: a cikkhez

The secret of EUV generation

A LaserFocusWorld ebben a cikkben az EUV technológia több mint húszéves fejlesztését ábrázolja, és leír számos olyan akadályt és kihívást, amelyet a 2015-ös áttörésig le kellett győzni.

Forrás: LaserFocusWorld
Szerző: Andreas Thoss
Megjelenés dátuma: 2017. november
Link: a cikkhez

TRUMPF consolidates EUV lithography supply chain with Access Laser deal

Ez a "Produktion" szakfolyóiratban olvasható tudósítás a TRUMPF Access-ben való többségi tulajdonszerzésével foglalkozik. Low-Power-CO2 lézerek gyártójaként az Access Laser a TRUMPF egyik legfontosabb partnere az EUV üzletben. Forrás: www.optics.org
Szerző: n.N.
Megjelenés dátuma: 2017. október
Link: a cikkhez

A TRUMPF fel akarja rázni a chipipart

A Stuttgarter Zeitung arról számol be, hogyan száll be a TRUMPF a Laser Amplifier-rel beszállítóként a félvezető gyártásba, és hogy ehhez az üzlethez új leányvállalatot alapított. Forrás: Stuttgarter Zeitung
Szerző: Michael Heller
Megjelenés dátuma: 2017. május
Link: a cikkhez

Az EUV megérkezett az IC gyártásba

A "Markt&Technik" elektronikai hetilap cikke az ASML aktuális és tervezett forgalmi és eladási számait foglalja össze, amelyek azt támasztják alá, hogy az EUV litográfia végleg megérkezett az iparba. Forrás: Markt&Technik
Szerző: Heinz Arnold
Megjelenés dátuma: 2017. július
Link: a cikkhez

Ezek a témák is érdekelhetik Önt

Kapcsolat
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Szerviz & kapcsolat

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Hungary. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Hungary
United States

Or, select a country or a region.