You have selected Magyarország. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Cikk az EUV litográfiáról | TRUMPF
EUV litográfia cikkgyűjtemény

A média tükrében: az EUV litográfia

Az extrém ultraibolya sugárzás (EUV) a lapka levilágításhoz kétség kívül a jövő kulcsfontosságú témája a chipiparban. Nem csoda, hogy nemcsak a szaksajtó, hanem más sajtótermékek is rendszeres időközönként ennek a témának szentelik magukat, és nyomon követik a technológia fejlődését. Egyes nemzeti és nemzetközi újdonságokról beszámoló cikkek összeállítását megtalálja ezen az oldalon.

A Samsungs 5 nm-es EUV eljárás készen áll

A Golem.de ezen cikkében a szerző, Marc Sauter arról tudósít, hogy a Samsung Foundry befejezte az 5 nm-es eljárás fejlesztését  ultraibolyántúli sugárzással (EUV) , és mostantól fogadja az ügyfelek megrendeléseit. Az új eljárással a tranzisztorsűrűség 25%-kal növelhető és ezzel egyidejűleg a chipek teljesítményfelvétele 20%-kal alacsonyabb, ill. a számítási teljesítményük 10%-kal nagyobb.

Forrás: www.golem.de
Szerző: Marc Sauter
Megjelenés dátuma: 2019. április
Link: a cikkhez

A Samsung 7 nanométeres chipeket gyárt EUV levilágítókkal

A heise.de arról számol be ebben a cikkben, hogy a Samsung 2018 őszén megkezdte a gyártást az első 7 nm-es gyárában, és ott az ASML EUV litográfia rendszerével világít le lapkákat. Forrás: www.heise.de
Szerző: Nico Ernst
Megjelenés dátuma: 2018. október
Link: a cikkhez

Az idő előtt

A TRUMPF 2017/2018 évi üzleti jelentése rávilágít arra, hogy a fény – és ezzel a lézer és az EUV litográfia – kezelése a jövő olyan technológiáinak az alapja, mint a mesterséges intelligencia, az autonóm eljárás és a hálózatba kötött gyárak.

Forrás: TRUMPF 2017/2018 üzleti év üzleti jelentése
Szerző: TRUMPF GmbH + Co. KG
Megjelenés dátuma: 2018. október
Link: a cikkhez

Az EUV szkennerek rendelkezésre állása 85 százalékra nőtt

A golem.de weblapon a cikk azt közli, hogy az ASML az NXW:3400B rendszereit olyan jelentős mértékben javította, hogy az extrém ultraibolya sugárzással történő, költség- és időtakarékos sorozatgyártás elérhető közelségbe került. Forrás: www.golem.de
Szerző: Marc Sauter
Megjelenés dátuma: 2018. július
Link: a cikkhez

The secret of EUV generation

A LaserFocusWorld ebben a cikkben az EUV technológia több mint húszéves fejlesztését ábrázolja, és leír számos olyan akadályt és kihívást, amelyet a 2015-ös áttörésig le kellett győzni.

Forrás: LaserFocusWorld
Szerző: Andreas Thoss
Megjelenés dátuma: 2017. november
Link: a cikkhez

TRUMPF consolidates EUV lithography supply chain with Access Laser deal

Ez a "Produktion" szakfolyóiratban olvasható tudósítás a TRUMPF Access-ben való többségi tulajdonszerzésével foglalkozik. Low-Power-CO2 lézerek gyártójaként az Access Laser a TRUMPF egyik legfontosabb partnere az EUV üzletben. Forrás: www.optics.org
Szerző: n.N.
Megjelenés dátuma: 2017. október
Link: a cikkhez

A TRUMPF fel akarja rázni a chipipart

A Stuttgarter Zeitung arról számol be, hogyan száll be a TRUMPF a Laser Amplifier-rel beszállítóként a félvezető gyártásba, és hogy ehhez az üzlethez új leányvállalatot alapított. Forrás: Stuttgarter Zeitung
Szerző: Michael Heller
Megjelenés dátuma: 2017. május
Link: a cikkhez

Az EUV megérkezett az IC gyártásba

A "Markt&Technik" elektronikai hetilap cikke az ASML aktuális és tervezett forgalmi és eladási számait foglalja össze, amelyek azt támasztják alá, hogy az EUV litográfia végleg megérkezett az iparba. Forrás: Markt&Technik
Szerző: Heinz Arnold
Megjelenés dátuma: 2017. július
Link: a cikkhez

Ezek a témák is érdekelhetik Önt

Kapcsolat
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Szerviz & kapcsolat