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TRUMPF Laser Amplifier para fabricação de chips de alto desempenho
Laser de CO2

TRUMPF Laser Amplifier

Fornece com o pulso de laser a base para a produção dos microchips do futuro.

Para contato

Litografia UVE como impulsionador para a era digital

A litografia UVE vence a corrida do método de produção dos microchips do futuro. O setor de semicondutores por muitos anos buscou um processo de baixo custo e adequado para produção em série, com o qual fosse possível fazer a radiação de estruturas ainda menores em wafers de silício. A parceria entre a ASML, Zeiss e a TRUMPF resultou no desenvolvimento de uma tecnologia de luz ultravioleta extrema (UVE) com um comprimento de onda de 13,5 nanômetros para o uso industrial: em uma câmara de vácuo, um gerador de gotas lança 50.000 gotas de estanho mínimas por segundo. Cada uma dessas gotas é atingida por um dos 50.000 pulsos de laser e se transforma em plasma. Com isso é formada a luz UVE, direcionada ao wafer a ser radiado por meio de espelho. O pulso de laser para a radiação de plasma é fornecido por um dos sistemas laser de CO2 de pulso desenvolvidos pela TRUMPF - o TRUMPF Laser Amplifier.

De poucos Watt até 40 Kilowatt

O TRUMPF Laser Amplifier potencializa um pulso de laser sequencialmente em mais de 10.000 vezes.

Eficiente e seguro

Com a emissão de um pulso inicial e um pulso principal, a potência total do Laser Amplifier pode ser transferida para as gotas de estanho.

Nova aplicação para laser de CO2

A base do sistema laser de alta potência é um laser de CO2 em operação de onda contínua. Com isso, a TRUMPF cria uma nova aplicação para a tecnologia.

Grande rede de especialistas

Na colaboração estreita de anos, a TRUMPF, ASML e ZEISS deixaram a tecnologia UVE pronta para o uso industrial.

Peças

… conta com um Laser Amplifier.

Metros

... os cabos já estão montados no sistema.

Quilo

... é o peso total.

Componentes centrais do TRUMPF Laser Amplifiers

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Coleção de artigos de litografia UVE
No espelho das mídias: litografia UVE

Saiba mais sobre a litografia de UVE em nossos artigos de destaque da imprensa especializada e genérica.

Chips fabricados com TRUMPF Laser Amplifier
Litografia UVE

Sem a luz ultravioleta extrema não há chips modernos de computador. O papel dos sistemas laser de CO2 de alto desempenho da TRUMPF na criação de estruturas de semi-condutores pode ser lido aqui.

Sistema eletrônico Visual
Eletrônica

Desde o processamento laser até à cristalogênese: a TRUMPF fornece as tecnologias básicas para a fabricação de semi-condutores no setor eletrônico.

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