反映在媒体中：EUV 光刻

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
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在 Golem.de 上的这篇文章中，作者 Marc Sauter 报道称三星晶圆代工 (Samsung Foundry) 已完成利用极紫外辐射 (EUV) 的 5 nm 工艺研发并将从现在起接受客户订单。新工艺使晶体管密度提高 25%，同时芯片的功率消耗降低 20% 或计算性能提高 10%。

来源：www.golem.de
作者：Marc Sauter
出版日期：04/2019
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Heise.de 在该文章中报道称，三星已于 2018 年秋季在其首个 7 nm 工厂投产并在此使用 ASML 的 EUV 光刻系统对晶片曝光。 来源：www.heise.de
作者：Nico Ernst
出版日期：10/2018
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golem.de 上的这篇文章宣布 ASML 已显著改进其 NXW:3400B 系统，使得利用极紫外辐射进行符合成本效益又高效地批量生产成为可能。 来源：www.golem.de
作者：Marc Sauter
出版日期：07/2018
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LaserFocusWorld 在这篇文章中追述了 EUV 技术在二十多年里的发展并说明在 2015 年取得突破之前所必须克服的众多障碍与挑战。

来源：LaserFocusWorld
作者：Andreas Thoss
出版日期：11/2017
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德国专业杂志 "Produktion" 中的这篇报道针对通快对 Access 的多数股权收购。作为低功率 CO₂ 激光器制造商，Access Laser 是通快在 EUV 业务领域最重要的合作伙伴之一。 来源：www.optics.org
作者：佚名
出版日期：10/2017
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斯图加特报报道了通快如何凭借其激光放大器作为零部件供应商踏入半导体产业，并针对该业务成立了一家新的子公司。 来源：斯图加特报
作者：Michael Heller
出版日期：05/2017
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