L'utilisation du rayonnement extrême ultraviolet (EUV) pour l'exposition des plaquettes est sans aucun doute la voie d'avenir de l'industrie des puces électroniques. Il n'est pas étonnant que les publications spécialisées, mais aussi la presse grand public, consacrent régulièrement leurs pages à ce thème et suivent les avancées de cette technologie. Vous trouverez sur cette page une sélection d'articles de la presse nationale et internationale braquant le projecteur sur ce phénomène.

Le procédé 5 nm EUV de Samsung est prêt

Dans cet article du site Golem.de, l'auteur Marc Sauter indique que Samsung Foundry a parachevé le procédé 5 nm avec rayonnement extrême ultraviolet (EUV) et est en mesure de prendre dès à présent des commandes de ses clients. Ce nouveau procédé permet d'augmenter la densité de transistors de 25 % ; dans le même temps la puissance absorbée par les puces est 20 % plus faible et la puissance de calcul supérieure de 10 %.

Source : www.golem.de
Auteur : Marc Sauter
Date de publication : 04/2019
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Samsung fabrique des puces de 7 nanomètres avec des systèmes d'exposition EUV

Dans cet article, le site heise.de explique comment Samsung a lancé la production de son usine 7 nm à l'automne 2018, et y usine des plaquettes à l'aide du système de lithographie EUV d'ASML. Source : www.heise.de
Auteur : Nico Ernst
Date de publication : 10/2018
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Avant le temps

Le rapport d'activité TRUMPF 2017/2018 souligne comment la maîtrise de la lumière – et donc celle du laser et de la lithographie EUV – est à la base de technologies d'avenir telles que l'intelligence artificielle, la conduite autonome et les usines en réseau.

Source : rapport d'activité TRUMPF, exercice 2017/2018
Auteur : TRUMPF GmbH + Co. KG
Date de publication : 10/2018
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La disponibilité des scanners EUV accrue à 85 pour cent

Cet article du site golem.de annonce qu'ASML a perfectionné ses systèmes NXW:3400B au point qu'une fabrication en série efficace en termes de coûts et de temps, utilisant le rayonnement extrême ultraviolet, est désormais possible à brève échéance. Source : www.golem.de
Auteur : Marc Sauter
Date de publication : 07/2018
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The secret of EUV generation

LaserFocusWorld retrace dans cet article plus de vingt ans de développement de la technologie EUV et décrit les nombreux défis et difficultés qu'il a fallu surmonter jusqu'à la percée de 2015.

Source : LaserFocusWorld
Auteur : Andreas Thoss
Date de publication : 11/2017
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TRUMPF consolidates EUV lithography supply chain with Access Laser deal

Ce reportage du magazine spécialisé "Produktion" porte sur la prise de participation majoritaire de TRUMPF dans Access. En tant que fabricant de lasers CO₂ basse puissance, Access Laser est l'un des partenaires les plus importants de TRUMPF pour l'activité EUV. Source : www.optics.org
Auteur : non cité
Date de publication : 10/2017
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TRUMPF veut innover dans l'industrie des semi-conducteurs

La Stuttgarter Zeitung raconte comment TRUMPF arrive dans l'industrie des semi-conducteurs en tant que sous-traitant avec son amplificateur laser, et comment il a créé une nouvelle filiale consacrée à cette activité. Source : Stuttgarter Zeitung
Auteur : Michael Heller
Date de publication : 05/2017
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L'EUV a fait son entrée dans la fabrication de circuits intégrés

Cet article de l'hebdomadaire consacré à l'électronique "Markt&Technik" reprend les chiffres d'affaires et de ventes, actuels et prévisionnels, d'ASML, qui démontrent que la lithographie EUV fait désormais partie intégrante de l'industrie. Source : Markt&Technik
Auteur : Heinz Arnold
Date de publication : 07/2017
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