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Epitaxie | TRUMPF

Epitaxie

Croissance pure couche après couche

Épitaxie

L'épitaxie est un procédé dans lequel des couches monocristallines, par exemple de silicium, sont créées sur des substrats monocristallins du même matériau. Les substrats sont situés sur un suscepteur en graphite chauffé par induction - ce qui impose des exigences très élevées en matière d'homogénéité de la température. L'épitaxie est notamment utilisée dans la fabrication des LED. Les générateurs à moyenne fréquence TRUMPF Hüttinger fournissent l'énergie de processus nécessaire de manière fiable et stable.

Contact
Dr. Torge Behrens
Réchauffement par induction
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