反映在媒體中：EUV光刻

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
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Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
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在Golem.de上的這篇文章中，作者Autor Marc報道稱三星晶圓代工 (Samsung Foundry) 已完成利用極紫外輻射 (EUV) 的5 nm製程研發並且從現在起接受客戶訂單。新製程使電晶體密度提高25%，同時晶片的功耗降低20%或計算性能提高10%。

來源：www.golem.de
作者：Marc Sauter
出版日期：04/2019
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Heise.de在該文章中報導稱，三星已於2018年秋季在其首個7 nm工廠投產並在此使用ASML的EUV光刻系統對晶圓曝光。 來源：www.heise.de
作者：Nico Ernst
出版日期：10/2018
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TRUMPF 2017/2018業務報告闡明了掌控光以及雷射器與EUV光刻如何為未來技術（如人工智慧、自主駕駛和網路化工廠）奠定基礎。

來源： TRUMPF 2017/2018財年業務報告
作者： TRUMPF GmbH + Co. KG
出版日期：10/2018
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golem.de上的這篇文章宣佈ASML已顯著改進其NXW:3400B系統，使得利用極紫外輻射進行符合成本效益又高效地批量生產成為可能。 來源：www.golem.de
作者：Marc Sauter
出版日期：07/2018
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LaserFocusWorld在這篇文章中追述了EUV技術在二十多年裡的發展並說明在2015年取得突破之前所必須克服的眾多障礙與挑戰。

來源：LaserFocusWorld
作者：Andreas Thoss
出版日期：11/2017
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德國專業雜誌 "Produktion" 中的這篇報導針對TRUMPF對Access的多數股權收購。作為低功率CO₂雷射器製造商，Access Laser是TRUMPF在EUV業務領域最重要的合作夥伴之一。 來源：www.optics.org
作者：佚名
出版日期：10/2017
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斯圖加特報報導了TRUMPF如何憑藉其雷射放大器作為零部件供應商踏入半導體產業，並針對該業務成立了一家新的子公司。 來源：斯圖加特報
作者：Michael Heller
出版日期：05/2017
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電子技術週刊 "Markt&Technik" 中的文章總結了ASML的目前與計畫營業額和銷售額，這些數字證明了EUV光刻現已明確引入產業。 來源：Markt&Technik
作者：Heinz Arnold
出版日期：07/2017
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