電漿功率產生器

基於固態的TruPlasma MW系列電漿產生器採用創新的平台理念，可產生滿足嚴苛製程要求的極高的電漿密度。 透過納米脈衝使多樣化的電漿參數最佳適應所需應用。

在太阳能电池与半导体制造、耐磨装饰涂层涂覆以及建筑玻璃镀膜中，TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) 系列工艺电源凭借其灵活可塑的输出信号和精湛的电弧管理提供出色结果。最新一代发生器尤其适合高要求的等离子体工艺，如反应溅射、PVD 和 PECVD。

使用 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列中頻發電機可始終完全掌控工藝流程：即便在要求嚴苛的大面積塗層應用中，仍能最終獲得出色的塗層品質和極高的生產效率。與此同時，憑藉超過 90 % 的頂尖能量轉化率，此款新一代供電系統確保極高的運行經濟性。

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列的工艺电源提供尤为抗腐蚀且耐磨损的硬质镀膜，是 HIPIMS 应用的首要之选。若与极化基板相结合，TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列还能服务于半导体应用，如沟填、表面预处理和刻蚀。

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列将 TRUMPF 霍廷格电子的出色电弧处理和直流脉冲技术优势集于一身。由此实现更佳的镀膜结果，提高沉积速率的同时减少损坏。最终获得光亮表面和高生产效率。

作为新一代直流电源，TruPlasma DC 3000 (G2) 系列适合众多直流溅射工艺。得益于先进的电弧管理和集成水冷装置，该款直流电源同样可用作脉冲式直流电源的高性价比替代方案。此外，极其紧凑的结构使其方便集成至现有应用中。

TruPlasma Arc 3000 系列电源主要用于硬质镀膜和装饰镀膜。通过紧凑型结构和空气冷却装置，确保充分利用宝贵的有效面积并方便集成至新系统或现有系统之中。

氣冷型高頻發電機TruPlasma RF 1001 Air可提供高達1000瓦特的高頻能源，其精度高、可再現且解析度極為精細（以100 mW步進），因而適用于豐富多樣的電漿應用。無論是半導體製造、太陽能電池製造還是顯示幕製造——得益于先進的工藝流程功能，已獲專利的TRUMPF霍廷格電子技術可在各個領域確保最高可用性和最佳工藝結果。

TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列是最新一代的高頻發生器。借助創新功能，比如獲得專利的CombineLine耦合技術或即時量測所有進程參數，即使在高要求的等離子體進程下也能確保安全的進程供電，為可重複的成果與高生產效率提供最佳前提條件。

性能強勁的TruPlasma RF 3000系列高頻發電機因極其高效和高工藝流程穩定性而出眾。因此非常適合高要求類等離子體工藝，例如用於純平顯示幕、太陽能電池或半導體製造。針對發生器精確調整的阻抗適配箱用於適配阻抗，時刻確保從發生器到等離子體的最佳穩定功率傳輸。

最高製程功率：TruPlasma VHF 3000系列產生器基於創新型平臺理念，甚至可滿足最苛刻的製程要求。模組化純水冷卻結構允許輸出功率最高擴展到80 kW – 而且空間需求極小！

精确适配高频电源的输出阻抗，对于最佳控制等离子体工艺流程至关重要。这项工作由 TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗匹配器完成，其可作为电源与工艺流程间的链节。以此种方式生成用于工艺流程电源的整体解决方案——通快 RF 系统。