極佳工藝結果的保障
此類高頻發電機防患於未然：TruPlasma RF 3000系列因堅固結構與卓越效率而出眾。因此，其最佳適用於穩定且可再現的等離子體處理，例如應用於純平顯示幕、太陽能電池或半導體製造。這些發生器安裝在全球數以千計的應用中，確保卓越生產效率和出色工藝結果。
能量轉換率高達80 %，因此與市場標準相比可將您的能源成本降低最多50 %。
安全運行，即使是苛刻的和新的流程。
CombineLine技術：失調情況下可靠避免反射功率影響。
採用連續式或脈衝式功率輸出，從而實現多樣化應用。
刻蝕與噴塗處理
TruPlasma RF 3000系列的高頻發生器尤其適合刻蝕與鍍膜工藝，如等離子體刻蝕、反應離子刻蝕、ALD及PECVD。
金屬工件鍍膜
借助等離子體進程，既可將材料施加到表面上也可將其去除，例如利用等離子體刻蝕或光刻膠等離子體灰化法為金屬工件塗覆耐磨層或者電子元件結構化。
純平顯示幕與太陽能電池鍍膜
TruPlasma RF 3000系列高頻發電機理想適用於如RIE（反應離子刻蝕）、ALD（原子層沉積）、PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）和射頻濺鍍法等等離子體處理流程。這些工藝主要應用於純平顯示幕與太陽能電池鍍膜。
極高效率與工藝穩定性
透過出色效率使功率損耗減半並降低冷卻水成本——從而讓運行成本最小化。即使工藝條件嚴苛，十分堅固的發生器結構仍允許較長的執行時間，由此提高沉積速率。透過真正具有50 Ω輸出阻抗的CombineLine技術有效防止等離子體波動——從而實現絕對穩定的工藝。
任何情況絕對可靠
堅固結構確保最高流程可靠性和生產效率。100 % 失調保護確保在極端負載下仍然穩妥運行。可選的連續式或脈衝式功率輸出支援廣泛的工藝要求。在全球範圍內已安裝20,000多個單元——超過任何其他等離子體電源。
TRUMPF SystemPort
SystemPort透過直接量測阻抗適配箱輸入端和輸出端上的RF信號，形成閉環控制回路。RF發電機可使用所有量測值。由此實現更好的處理流程參數監測，保護阻抗適配箱並確保及早識別電弧。可透過單一的發電機介面控制整個RF系統。
各種選項可以實現高頻發生器根據應用進行最佳適配。
精湛的电弧管理是适用于最佳等离子体工艺流程控制的理想模块。有针对性的电弧识别确保最高生产效率，同时保护产品与设备。
TruControl Power
易于操作的控制软件 TruControl Power 实现在工艺运行中便捷调试和可靠监控高频发生器或整个通快 RF 系统。
TRUMPF RF系統的所有組件相互最佳協調。
完美相互協調：發生器與阻抗適配箱
等離子體工藝就像一個複雜可變的負載，必須由發生器為其不斷供電。這項工作由有源適配網絡（所謂的阻抗適配箱）來完成，確保隨時精確適配50 Ω的最佳阻抗。由此形成相互完美協調的系統解決方案——TRUMPF RF系統。透過不同介面（如EtherCAT）可十分輕鬆地將發電機和阻抗適配箱整合至現有處理環境之中，並透過發電機與阻抗適配箱的智慧連接（即所謂的SystemPort）形成經優化的系統解決方案。
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