氣冷型高頻發電機TruPlasma RF 1001 Air可提供高達1000瓦特的高頻能源，其精度高、可再現且解析度極為精細（以100 mW步進），因而適用于豐富多樣的電漿應用。無論是半導體製造、太陽能電池製造還是顯示幕製造——得益于先進的工藝流程功能，已獲專利的TRUMPF霍廷格電子技術可在各個領域確保最高可靠性和最佳工藝結果。
確保以最優效果快速適配頻率，從而確保發生器與阻抗適配箱之間的最佳協作。
可靠實現嚴苛的新型工藝流程，確保您的產品受到防護。
多級、靈活的脈衝波形控制系統可在先進的電漿工藝中實現更佳的工藝結果。
可在改動工藝或加裝時靈活使用和更換發生器。
已獲專利的CombineLine 技術憑藉 50歐姆的真實輸出阻抗實現穩定的工藝流程功率。
高頻產品系列中的不同功率等級可滿足所有工藝流程需求。
更改工藝流程或改動系統時不再需要調整電纜長度。
TruPlasma RF 1000系列高頻發電機理想地適用於如RIE（反應離子刻蝕）、ALD（原子層沉積）、PECVD（電漿增強化學氣相沉積）和射頻濺鍍法等電漿處理流程。這些工藝主要應用於製造半導體元件和微機械系統 (MEMS) 以及平板顯示器和太陽能電池的塗層。
TruPlasma RF Air 1000系列的典型應用領域是太陽能行業中要求嚴苛的PECVD（電漿增強化學氣相沉積）、刻蝕及高頻濺射等工藝。
在半導體製造中使用不同等離子體工藝，包括透過幹法刻蝕的材料去除工藝和用於製備純矽的區熔法。TruPlasma RF Air 1000系列發生器為最佳適配相應工藝的穩定供電系統提供一切前提條件，從而取得出色的可再現結果。
超高生產效率與可用性
流程穩定，結果可再現
可緊湊、靈活應用
精確到小數點後一位
先進的工藝流程功能確保最佳工藝結果
靈活適配客戶應用
透過TRUMPF SystemPort控制整套高頻系統
同步模块可在复杂的等离子体系统中灵活可靠地同步多个电源。
精心设计的电弧管理可确保对等离子体工艺实施最佳监控。针对性电弧识别可提升生产效率，同时保护产品和设施免于受损。
最新等离子体工艺要求脉冲运行具备更高的灵活性。可自由选择的多级脉冲运行可以形成任何脉冲波形。这在等离子体物理学中催生出一套全新控制机制，也可实现更佳的工艺结果。
已获专利的自动频率调谐能够快速同步适配频率，确保电源与阻抗匹配器之间的最佳协作。从而确保最佳过程工艺结果和最高可再现性。
网页图形用户界面
内置网页服务器可实现通过网页浏览器操作高频系统或进行软件升级。
TruControl Power
易于操作的控制软件实现在工艺运行中便捷调试和可靠监控高频电源或整个 TRUMPF RF 系统。
視國家而定，此產品分類與此説明 可能存在偏差。保留技術、裝備、價格與配件範圍方面的更改權利。 請與當地聯絡人取得聯繫，以便瞭解 您所在國家是否提供該產品。
