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半導體製造

沒有 TRUMPF 就沒有人工智慧。我們的雷射和電漿解決方案是現代半導體製造的支柱。從 EUV 光刻到先進封裝,我們的技術應用於創造未來的任何地方。無論是塗層、曝光還是蝕刻,如果您想要創新和進步,TRUMPF 都是必不可少的。我們超前思考:我們的解決方案不僅可以實現最高性能,還能實現資源節約型工藝。我們與領先的技術合作夥伴一起開發改變整個行業的創新。

沒有 TRUMPF 的半導體?無法想象。

創新始於人。因為每一次進步的背後都有理念、熱情和勇氣。我們助力生產新一代晶片。TRUMPF 使半導體製造更快、更可持續、更高性能。對於想要製造頂級晶片的製造商來說,TRUMPF 不僅僅是一個供應商——我們是戰略合作夥伴。

我們於 2005 年開始開發 EUV 驅動雷射器,今天很高興能夠為 ASML 的 EUV 光刻掃描器做出重大貢獻。

Volker Jacobsen
TRUMPF EUV 首席執行官

我們不僅要建造發生器,還要重新定義基準。今天,我們的系統為世界上最具挑戰性的等離子工藝助力。

Agata Dul
TRUMPF電子設備高壓業務部總監

我們的發生器是現代等離子體工藝的關鍵技術。沒有它,半導體世界將停滯不前。

Rafal Bugyi
TRUMPF電子設備首席執行官

當生產線停止運轉時,分秒必爭。透過我們的全球服務團隊,即使是最複雜的流程,我們也能為其提供支援,使其順利執行,毫不妥協。

Petra Thoma
TRUMPF EUV 全球服務總監

TRUMPF 如何推動半導體製造

我們的技術確保所有關鍵流程步驟的最高可用性。由此,TRUMPF 將半導體製造提升到了一個新的水平——更快、更高效、更可持續。

錠材切片 裸晶圓 沉積 TGV/玻璃通孔 光阻塗層 EUV光刻 蝕刻 離子植入 化學機械拋光(CMP) 晶圓切割 測試

1. 錠材切片

從矽晶體上切下薄片。有了雷射,晶片製造商就能以對材料特別溫和的方式來完成此項工作。

2. 裸晶圓

半導體晶片的所有結構都應用在裸矽片上。

3. 沉積

在晶圓上塗上一層薄薄的材料,例如絕緣體或導體。它是電晶體和連接的基礎。

4. TGV/玻璃通孔

雷射束在絕緣層和半導體層中鑽出微小的通孔。它們可以實現例如 3D 晶片中電路層的垂直連接。

5. 光阻塗層

晶圓上塗有光敏漆層,以便對特定區域進行曝光和處理。

6. EUV光刻

光線透過遮罩投射到漆上,產生微小的結構圖案,從而繪製出後來的電路。

7. 蝕刻

暴露的區域被化學或物理蝕刻,並在材料中形成溝槽、通孔和導體軌道。

8. 離子植入

外來原子被高速引入(摻雜)到矽中。由此改變電氣特性,使電晶體可以進行開關。

9. 化學機械拋光(CMP)

對晶圓表面進行化學機械平滑處理。由此可在特別先進的晶片中使用多層結構。

10. 晶圓切割

晶圓被分離成晶粒。每個晶粒稍後都會成為微晶片。透過雷射或電漿可以特別精確地實現這一目標。

11. 測試

每個晶片都經過電氣測試——首先是功能測試,然後是負載和溫度測試。

我們的半導體製造產品

我們的雷射和電漿應用被用於晶片製造的所有關鍵生產步驟。

EUV

TRUMPF 憑藉其雷射專業知識使 EUV 技術成為可能。只有使用 EUV 技術才能製造出最高性能的晶片;TRUMPF 的高功率雷射器是該設備的核心,為下一代半導體製造做出決定性貢獻,並為全球數位化奠定技術基礎。

電漿發生器

TRUMPF 電漿發生器在晶片製造中起著至關重要的作用。TruPlasma RF G3 系列是新一代高頻電源,可為微晶片製造商提供更穩定的電漿工藝,從而降低生產成本並提高晶片質量。

雷射器

在半導體行業,TRUMPF 雷射做出決定性的貢獻,是重要關鍵工藝不可或缺的一部分。例如,它們用於先進封裝、晶圓切割、晶圓分離和計量的組合雷射蝕刻工藝。 

現在瞭解更多關於雷射的使用!

在晶片製造的幾乎每一個生產步驟之前、之後和期間,雷射技術都可以發揮作用。每個半導體製造商和加工商都有自己的工藝鏈,可以在不同的地方使用雷射。

瞭解更多 瞭解更多

TRUMPF 如何塑造晶片行業

TRUMPF 的高功率雷射器如何實現 EUV 光刻。

我們的全球夥伴關係

新一代晶片應盡可能減少能耗。晶片本身的生產也應盡可能節能,設備應一年 365 天全天候運行。TRUMPF 透過支援所有相關晶片工廠供應商的製造解決方案來滿足這一要求。作為創新的領導者,我們提供電子設備和雷射解決方案,以提高微晶片生產的效率和可持續性。幾十年來,TRUMPF 一直與亞洲、美國和歐洲的領先半導體供應商保持著密切的合作關係。這種信任和密切的合作使我們能夠開發創新的解決方案,以滿足客戶的高要求。

成功合作的一個範例是與世界上最大的光刻系統製造商 ASML 的長期深入合作。TRUMPF 為 EUV 技術提供高功率雷射器,從而為製造世界上最高性能的微晶片提供核心技術。在矽晶圓製造中,TRUMPF 發生器也為塗層和蝕刻工藝提供可靠和精確的能源。TRUMPF 的雷射技術用於許多應用,例如光遮罩和最小晶片結構的質量控制。

高精尖世界

EUV 範圍
用於最精細晶片結構的極短波光
雷射束
將晶圓分離成單獨的微晶片
耗電量更低
需要新一代 TruPlasma RF 系列 G3

作為一家高科技公司,我們積極塑造半導體行業的未來,並透過自己的創新為數位革命做出重大貢獻。接下來的步驟包括開發更高效的製造解決方案,並擴大合作夥伴關係以進一步推動技術發展。

獲得靈感!Semicon 新聞、TRUMPF 更新、技術見解

2026 年 2 月 11 日至 13 日韓國半導體展

韓國半導體展是國際領先的半導體技術貿易展覽會之一,每年在韓國首爾的 COEX 會展中心舉行。敬請訪問我們!

ASML 因新型 EUV 雷射器點讚 TRUMPF

與 ASML 的密切和獨家合作夥伴關係使全球晶片製造商能夠提供更可靠、更節約資源的光刻系統。

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瞭解 TRUMPF 技術如何推動半導體製造:深入瞭解 EUV 光刻、高功率雷射和晶片製造系統解決方案。

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用於 EUV 光刻的雷射光源
推進摩爾定律——複雜的 CO2 雷射系統為半導體技術中的極紫外(EUV)光刻技術開闢道路。
Yongjuan Shi
雷射技術銷售部門
yongjuan.shi(at)trumpf.com 電話 +86 512 5367 7105
Jeff Jiang
功率電子裝置銷售部門
jeff.jiang(at)trumpf.com 電話 +86 177 7223 8823

您一直想知道...

什麼是半導體?

半導體是一種導電率介於導體(如銅)和絕緣體(如玻璃)之間的材料。典型的半導體材料是矽或鍺。導電率可以透過摻雜(引入外來原子)和外部影響(如溫度或光)來有針對性地改變。這使得半導體成為電晶體、二極體和集成電路等電子元件的理想選擇。在資料倉庫、人工智慧和微型化的推動下,半導體行業正在強勁增長。趨勢是性能越來越高,同時半導體越來越小。專家稱這種發展為奈米競賽。TRUMPF 的雷射和電漿技術對於 EUV 光刻、塗層、曝光和蝕刻等工藝至關重要。沒有這些技術,就不可能製造出最新一代的晶片。

什麼是電晶體?

電晶體是一種用作電訊號開關或放大器的電子元件。它是現代微電子的核心,是處理器、儲存晶片和幾乎所有數位裝置的基礎。在一個晶片中有更多的電晶體就等於有更高的計算能力。

微晶片是如何製造的?

一個半導體通常要經過幾百個,有時超過一千個製造步驟。製作它需要幾個月的時間。簡單地說,半導體製造過程可以用十個步驟來描述:

1. 製造從晶圓開始,晶圓由高純矽拉製而成,然後切成薄片。

2. 晶圓經過拋光處理,為後續工序提供絕對光滑的表面。

3. 在光刻中,塗裝光敏層(光刻膠),後者隨後確定電路的結構。

4. 使用極精確的曝光方法,例如 EUV 光刻,將微小的圖案投射到晶圓上。

5. 然後對曝光區域進行化學顯影,使所需結構可見。

6. 透過蝕刻工藝(例如 電漿蝕刻)去除材料層以形成導體軌道和電晶體。

7. 然後是摻雜過程,由此引入外來原子以改變矽的電氣特性。

8. 應用多層金屬和絕緣體,以在電晶體之間建立複雜的連線。

9. 經過數百個這樣的步驟後,晶圓被測試並切割成單個晶片(晶粒)——這個過程被稱為晶圓切割。

10. 最後,晶片被打包(封裝)、測試並簽發,以用於智慧手機、計算機或汽車等裝置。

半導體的主要用途是什麼?

1. 資訊和通訊技術
半導體控制著計算機、伺服器和智慧手機中的計算過程。它們對於數位通訊、雲計算和物聯網(IoT)至關重要。

2. 人工智慧和計算中心
高性能的晶片可以為人工智慧應用和大資料分析處理大量資料。

3. 汽車工業
在車輛中,半導體對於駕駛員輔助系統、電動交通、資訊娛樂和自動駕駛至關重要。

4. 醫療技術
它們可以實現精確的成像、診斷系統甚至可植入裝置。

5. 工業和自動化
半導體為工業製造中的感應器、控制系統和機器人提供動力。

人工智慧和微晶片有什麼關係?

人工智慧應用需要巨大的計算能力。晶片性能越高,人工智慧模型的訓練和部署就越快、越高效。因此,半導體技術的進步將極大地推動人工智慧的發展。TRUMPF 的 EUV 等技術被用於製造最高性能的晶片。

什麼是人工智慧晶片?

人工智慧晶片是專門開發的處理器,可直接在晶片上運行復雜的機器學習和人工智慧算法。它們與傳統處理器的不同之處在於它們能夠並行處理大量資料。

人工智慧晶片是在一個高度複雜的製造過程中產生的,將經典的半導體技術與創新的封裝工藝相結合。首先,通常以矽為基礎的實際計算核心採用奈米結構製造。

晶片必須極其高性能和節能,才能即時處理大量資料。這就是為什麼製造商越來越依賴先進封裝的原因。在此過程中,幾個晶片組合在內插件上,作為連線層。

雖然矽內插件長期以來一直是標準配置,但它們在尺寸和成本方面都達到了極限。解決方案:玻璃內插件。玻璃更便宜,可以加工成大型面板,並且可以為人工智慧系統提供複雜的晶片封裝。為了建立層與層之間的電氣連線,必須在玻璃上鑽數百萬個小孔,稱為玻璃通孔(TGV)。為此也使用 TRUMPF 的雷射技術。

摩爾定律是怎麼說的?

摩爾定律指出,微晶片上的電晶體數量大約每兩年翻一番,而每次運算的成本卻在下降。因此,晶片的性能不斷提高,而尺寸卻沒有增加。為了繼續實現微型化,EUV 光刻和新晶片架構(例如 3D 結構)等技術得到使用。該定律於 1965 年由英特爾聯合創始人戈登 · 摩爾(Gordon Moore)提出。它不是自然規律,而是反映行業創新速度的觀察。

半導體製造面臨的最大挑戰是什麼?

1. 微型化和精密化
該行業面臨著製造越來越小的奈米結構的巨大壓力。EUV 光刻和電漿發生器必須極其精確地工作,才能在矽晶圓上建立 3D 結構。即使是最小的偏差也會導致廢品和高昂的成本。由於公差在奈米範圍內,質量控制(計量)變得越來越複雜。

2. 能量消耗和可持續性
能源效率對於降低運營成本和實現可持續發展目標至關重要。因此,電漿發生器和雷射系統必須盡可能高效節能。

3. 供應鏈和質量保證
整個供應鏈必須保證零質量缺陷。供應商的缺陷可能會危及生產。TRUMPF 要求合作夥伴和供應商制定嚴格的質量標準。

4. 生產設備的可用性
半導體製造主要集中在亞洲。設備供應商必須為全球晶片製造商提供最高質量的服務,以避免停機。因此,TRUMPF 投資創建區域服務中心和技術中心,例如在臺灣。

什麼是半導體製造中的光刻

光刻是半導體製造中的一個關鍵過程,由此電子電路的結構被轉移到矽晶圓上。在此過程中,一種特殊的鍍膜裝置將光敏層(光刻膠)塗在晶圓上。然後,光刻系統用光照射所需的圖案並對其進行化學顯影。這些結構構成了晶片上電晶體和其他元件的基礎。該領域最先進的技術是 EUV 光刻。它利用極短波光產生奈米精細結構。沒有 EUV 光刻,就無法製造出最高性能的微晶片。光刻對摩爾定律的實施至關重要,後者規定電晶體數量每兩年增加一倍。

什麼是半導體製造中的晶圓?

晶圓是製造微晶片的基礎。它由高純度的矽組成,首先被拉成單晶,然後被切成薄片。這些薄片經過拋光處理,形成絕對光滑的表面。在晶圓上,透過光刻、曝光、蝕刻和摻雜形成電路結構。經過數百個工藝步驟後,晶圓被測試並切割成單個晶片(「晶粒」)。

什麼是晶圓切割?

晶圓切割是指從晶圓中分離出半導體晶片。這是半導體工藝鏈後端的核心步驟。

最常見的晶圓切割工藝是什麼?

機械鋸切、隱形切割、燒蝕雷射切屑和電漿切割。

什麼是電漿蝕刻?

電漿蝕刻是一種使用電離氣體(電漿)從晶圓表面去除材料或使其結構化的方法。這一過程對於精確的晶片結構至關重要。

什麼是高頻電源(RF 電源)?

為晶片製造提供高頻電能以產生和控制電漿的裝置。

什麼是玻璃通孔(TGV)?

玻璃通孔(TGV)是玻璃中的微小導電通孔,可在晶片封裝的不同層之間實現電氣連線。它們對於高性能應用至關重要,因為它們縮短了訊號路徑並最大限度地減少了能量損失。

半導體公司如何減少碳足跡?

半導體製造需要大量的能源。不過,半導體公司可以透過採用節能技術和循環經濟來顯著減少碳足跡,TRUMPF 的技術在這方面發揮著關鍵作用。可持續發展是 TRUMPF 家族企業 DNA 的一部分。因此,對於 EUV 光刻等面向未來的技術,我們非常重視高效、節約地使用能源和材料。

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