Die Metal Organic Chemical Vapor Phase Deposition (MOCVD) ist ein hochkomplexes Verfahren für das Wachstum kristalliner Schichten. MOCVD wird z. B. bei der Herstellung von Leuchtdioden (LEDs), Lasern, Transistoren, Solarzellen und anderen elektronischen und opto-elektronischen Bauelementen eingesetzt und ist die Schlüsseltechnologie für Zukunftsmärkte mit hohem Wachstumspotenzial. Die TruHeat DC 3000 ist der perfekte Kandidat für diese Anwendungen.

TRUMPF Hüttinger bietet eine breite Palette von Prozessstromversorungen, Außenkreisen, Induktoren und Zubehör an, die bereits erfolgreich für Kristallzucht- und Epitaxieprozesse bei einer Reihe von Key Playern der SiC- und GaN-Industrie eingesetzt werden.

Dieses Whitepaper behandelt Strategien zur Senkung der Betriebs- und Investitionskosten sowie zur Verbesserung der Qualität in SiC/GaN-Produktionsprozessen. Es werden verschiedene Erwärmungsmethoden wie Mikrowellen-, HF-dielektrische, DC-resistive und Induktionsheizung erläutert. Zudem wird die Effizienz der TRUMPF Huettinger Stromversorgungen und deren Beitrag zur Kostensenkung und Qualitätssteigerung dargestellt.