Solución de sistema RF integral
Las nuevas matchboxes de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) representan el suplemento perfecto para los generadores de AF de TRUMPF Hüttinger. Gracias a los algoritmos de apareamiento inteligentes y a la plataforma de mando digital para la observación de proceso se origina una solución global en la que interactúan todos los componentes de manera óptima: el sistema RF TRUMPF.
Adaptación de la impedancia rápida, estable y reproducible a 50 ohmios, incluso en procesos críticos.
Software avanzado y comunicación mejorada entre el generador y la matchbox.
Rápido seguimiento del sistema en cada cambio en la impedancia de la matchbox y la carga.
Supervisión óptima de los parámetros de proceso y detección temprana de arco.
Interfaz de usuario gráfica y herramientas efectivas (carta de Smith, osciloscopio a tiempo real).
Producción de semiconductores, células solares y pantallas planas
Los procesos de plasma estables son cruciales en la producción de semiconductores, células solares y pantallas planas. Junto con los generadores de AF de TRUMPF Hüttinger, las redes de adaptación de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) ofrecen una solución global para la más alta estabilidad de procesos y productividad.
Aplicación de capas de material duro y de capas protectoras al desgaste
Con la aplicación de capas funcionales, las piezas de trabajo sometidas a grandes esfuerzos gozan de una mayor resistencia mecánica, así como una mejor estabilidad térmica y química. Las redes de adaptación de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) garantizan, en combinación con un generador AF de TRUMPF Hüttinger, una perfecta calidad de revestimiento.
Abrasión y recubrimiento de superficies
Las redes de adaptación de la TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) se pueden utilizar en todos los procesos de plasma habituales para recubrimiento o la abrasión de superficies como, por ejemplo, el grabado de plasma, el grabado por iones reactivo, ALD, PECVD, el grabado por pulverización RF o la incineración de plasma con fotorresina. En combinación con un generador de AF de TRUMPF Hüttinger, se consiguen los resultados de procesos óptimos.
Control del proceso perfecto en todo momento
La matchbox proporciona en todo momento una adaptación rápida y directa de la impedancia a 50 ohmios, por lo que siempre garantiza la potencia suministrada total del generador de AF en el proceso. La comunicación continua entre la matchbox y el generador permite una observación del proceso perfecta y una detección temprana de arco.
Todos los parámetros a la vista
La medición de tiempo real de la potencia de salida y de entrada de AF indica las modificaciones de impedancia dinámicas y, los sensores de refrigeración permiten una previsión fiable de la pérdida de potencia. Gracias al software de mando gráfico con complejas opciones de visualización (diagrama de Smith, osciloscopio a tiempo real) tendrá todos los parámetros de proceso siempre a la vista.
TRUMPF SystemPort
La SystemPort posibilita un circuito regulador cerrado mediante la medición de la señal RF directamente en la entrada y la salida de la matchbox. El generador RF tiene disponibles todos los valores de medición. Así, pueden vigilarse mejor los parámetros de proceso, protegerse la matchbox y garantizarse una detección de arco temprana. El sistema RF completo también puede controlarse mediante una sola interfaz de generador.
Medición de corriente CA de alta precisión para la detección de anomalías de plasma, ubicada en la matchbox, cerca del proceso, directamente en la cámara.
Como interfaces opcionales están disponibles análogica/digital, PROFIBUS y EtherCAT. Las estándares son EtherNet, SystemPort y RS232/485.
La sofisticada gestión de arco es el módulo ideal para el mejor control del proceso de plasma. Una detección de arco selectiva garantiza la máxima productividad posible y protege al mismo tiempo el producto y la instalación.
Software de mando gráfico
Las visualizaciones gráficas complejas permiten un control completo de todos los parámetros de proceso relevantes. La impedancia de carga y de red de adaptación se visualiza mediante unos diagramas de Smith, y la potencia de salida y de entrada de AF, incluida la posición de fase y frecuencia, con ayuda de un osciloscopio a tiempo real.
TruControl Power
El software de mando TruControl Power, de fácil manejo, permite una puesta en funcionamiento confortable y una supervisión segura del generador AF o del sistema RF TRUMPF completo a lo largo del proceso.
Las visualizaciones gráficas complejas permiten un control completo de todos los parámetros de proceso relevantes. La impedancia de carga y de red de adaptación se visualiza mediante unos diagramas de Smith, y la potencia de salida y de entrada de AF, incluida la posición de fase y frecuencia, con ayuda de un osciloscopio a tiempo real.
Mediante osciladores maestros es posible estabilizar y optimizar procesos de plasma sincrónicos críticos. Un sintetizador de frecuencia y fase digital integrado asegura una elevada estabilidad de frecuencia y de fase y, además permite ajustar la posición de fase con una amplitud de secuencia muy pequeña. Hay disponibles diversos modelos de osciladores maestros para la frecuencia de 13,56 MHz, así como diferentes combinaciones de frecuencias.
Un conmutador de AF permite la utilización múltiple de un generador de AF en diferentes estaciones de proceso de plasma, por ejemplo, para la alimentación eléctrica de procesos secuenciales o en sistemas con distintos puntos de alimentación. Están disponibles diversos conmutadores de AF en dos categorías de potencia, así como con 2, 3 o 4 salidas.
Para la transmisión de potencia de AF, TRUMPF Hüttinger ofrece cables coaxiales especialmente diseñados para el funcionamiento en sistemas de 50 ohmios.
Control perfecto de los procesos de plasma
Los procesos de plasma se comportan como una carga compleja y variable, cuya alimentación eléctrica debe ser seguida continuamente a través del generador. Esto lo realizan que las redes de adaptación, llamadas matchboxes, que en todo momento garantizan una adaptación precisa a la impedancia óptima de 50 ohmios. De este modo surge una solución de sistema perfectamente armonizada entre sí: el sistema TRUMPF RF. Mediante diversas interfaces como EtherCAT, es posible integrar el generador y la matchbox de forma fácil en los entornos de proceso existentes y, con una conexión inteligente entre generador y matchbox, la llamada SystemPort, lograr una solución de sistema optimizada.
Dependiendo del país, es posible que existan diferencias con respecto a esta gama de productos y a estos datos. Nos reservamos el derecho a realizar modificaciones en la técnica, equipamiento, precio y oferta de accesorios. Póngase en comunicación con su persona de contacto en su zona para saber si el producto está disponible en su país.
