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Artigo sobre litografia UVE | TRUMPF
Coleção de artigos de litografia UVE

Im Spiegel der Medien: EUV-Lithografie

A radiação ultravioleta extrema (UVE) para a radiação de wafer é, sem dúvida, o tema do futuro na indústria de chips. Não é nenhuma surpresa que a imprensa especializada e a voltada para o público em geral aborde o tema com frequência e acompanhe o desenvolvimento da tecnologia. Nesta página, você encontrará uma coletânea de alguns artigos de destaque na imprensa nacional e internacional.

Processo de EUV de 5 nm da Samsung está pronto

Neste artigo no Golem.de, o autor Marc Sauter explica como a Samsung Foundry concluiu o desenvolvimento de um processo de 5 nm com radiação de ultravioleta extrema (EUV) e a partir de agora está recebendo pedidos de clientes. Com o novo processo, a espessura do transistor pode aumentar em 25% e, ao mesmo tempo, os chips têm uma absorção de potência 20% menor ou uma potência de cálculo 10% superior.

Fonte: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Data de publicação: 04/2019
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Samsung fertigt 7-Nanometer-Chips mit EUV-Belichtern

Heise.de explica neste artigo como a Samsung no fim do ano de 2018 iniciou a produção em sua primeira fábrica de 7 nm e lá faz a exposição de wafers com o sistema de litografia UVE da ASML. Fonte: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Data de publicação: 10/2018
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Vor der Zeit

O relatório anual TRUMPF do exercício 2017/2018 explica como o domínio da luz - e, com isso, também do laser e da litografia UVE - forma a base para as tecnologias do futuro, como a inteligência artificial, direção autônoma e fábricas conectadas.

Fonte: Relatório anual TRUMPF exercício 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Data de publicação: 10/2018
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Verfügbarkeit von EUV-Scannern auf 85 Prozent gesteigert

O artigo na página golem.de anuncia que a ASML aprimorou seus sistemas NXW:3400B de tal forma que a produção em série com eficiência de custo e tempo está cada vez mais próxima com a radiação ultravioleta extrema. Fonte: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Data de publicação: 07/2018
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The secret of EUV generation

LaserFocusWorld descreve neste artigo o desenvolvimento de mais de vinte anos da tecnologia UVE e conta as várias barreiras e desafios que foram superados até a inovação em 2015.

Fonte: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Data de publicação: 11/2017
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TRUMPF consolidates EUV lithography supply chain with Access Laser deal

Este relatório da revista especializada "Produktion" aborda a aquisição majoritária da Access pela TRUMPF. Como fabricante de lasers de CO2 de baixa potência, a Access Laser é um dos parceiros mais importantes nos negócios de UVE da TRUMPF. Fonte: www.optics.org
Autor: sem nome
Data de publicação: 10/2017
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TRUMPF will die Chipindustrie aufmischen

O jornal Stuttgarter Zeitung relata como a TRUMPF entrou como fornecedor no setor de semicondutores com seu Laser Amplifier e como abriu uma nova frente para os negócios. Fonte: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Data de publicação: 05/2017
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EUV ist in der IC-Fertigung angekommen

O artigo no periódico semanal especializado em eletrônica "Markt&Technik" reúne os números atuais e planejados de receita e vendas da ASML que comprovam que a litografia UVE finalmente chegou ao setor industrial. Fonte: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Data de publicação: 07/2017
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