Amplificatorul laser TRUMPF

High Power Seed Module (HPSM) este alcătuit din două lasere de amplificare care generează un număr mic de impulsuri de ieșire puternice, precum și dintr-un număr mare de componente optice active și pasive, care formează fasciculul laser și asigură o durată optimă a impulsului. Cu ajutorul primului amplificator, lumina este preamplificată până la 100 W. Laserele de amplificare sunt protejate optim împotriva retroreflexiei prin intermediul unor mecanisme de siguranță, în vederea îmbunătățirii semnificative a stabilității întregului sistem și atingerii constantei de putere EUV necesare.

High Power Amplification Chain (HPAC) este alcătuit din patru rezonatoare pentru creșterea puterii, care sunt conectate între ele prin elemente de ghidaj optic. Fiecare rezonator este optimizat la treapta de amplificare respectivă (de ex. ventilator, stimulare RF, amestec gaze, ghidaj optic). Trei circuite de răcire distincte asigură stabilitatea necesară în cadrul sistemului. Impulsurile scurte asigură o putere de ieșire maximă extrem de ridicată, de ordinul MW. Metrologia globală online oferă baza pentru măsurarea în permanență a fasciculului.

Beam Transport System (BTS) - alcătuit din placă portantă, periscop și oglindă - transportă fasciculul laser până la 30 de metri în direcția camerei de picături. Stabilitatea mecanică a sistemului sub greutatea ridicată pe unitatea de putere, precum și etanșeitatea ghidajului optic sunt, de asemenea, foarte importante pentru o absorbție și o poluare scăzută. Oglinzile sunt acoperite cu un strat special pentru a absorbi cât mai puțină lumină laser posibil.

FFA cuprinde două componente ale instalației: o platformă optică (Optics Platform) și o unitate de focalizare (Focusing Unit). Pentru generarea unui fulger de plasmă ideal, întreaga suprafață a impulsului laser trebuie să intre în contact cu picăturile de staniu. Deoarece picăturile de staniu sunt mai mici decât diametrul fasciculului laser, în cadrul Optics Platform este generat un impuls inițial și un impuls principal pentru a obține generarea EUV optimă. Impulsul inițial cu o putere mai mică este primul care intră în contact cu picăturile de staniu, acestea luând o formă de disc și mărindu-și astfel suprafața. Impulsul principal ulterior este absorbit de pelicula de lichid și se formează plasma în sine, care generează radiații EUV. În acest mod este utilizată în mod eficient puterea de 40 de kilowați a laserului și este garantată generarea sigură din punct de vedere al procesului a fulgerelor de plasmă pentru iluminare. Focusing Unit asigură o focalizare optimă a luminii laser pe picăturile de staniu.