You have selected România. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Laser cu impulsuri EUV | TRUMPF
TRUMPF Laser Amplifier pentru producția de chip-uri de înaltă performanță
TRUMPF Laser Amplifier pentru producția de chip-uri de înaltă performanță
Laser CO2

Amplificatorul laser TRUMPF

Prin intermediul impulsului laser, asigură baza pentru fabricarea viitoarei generații de microcipuri.

Litografia EUV, catalizator al erei digitale

Litografia EUV este cea mai bună metodă pentru fabricarea viitoarei generații de microcipuri. Industria semiconductorilor a căutat mulți ani un proces de producție în masă eficient din punct de vedere al costurilor, cu ajutorul căruia să poată fi iradiate structuri cât mai mici de pe plachete semiconductoare de siliciu. ASML, Zeiss și TRUMPF au dezvoltat împreună o tehnologie pentru utilizarea în domeniul industrial a razelor ultraviolete extreme (EUV) cu o lungime de undă de 13,5 nanometri: un generator de picături lansează 50.000 de picături minuscule de staniu pe secundă într-o cameră cu vid. Fiecare dintre aceste picături este iradiată de unul dintre cele 50.000 de impulsuri laser și transformată în plasmă. În acest mod sunt produse radiațiile EUV, care sunt direcționate cu ajutorul unei oglinzi către plăcuțele semiconductoare expuse. Impulsul laser pentru iradierea plasmei este produs de un sistem laser CO2 dezvoltat de TRUMPF, compatibil cu tehnologia pe bază de impulsuri - amplificatorul laser TRUMPF.

De la o putere redusă până la o putere de 40 de kilowați

Amplificatorul laser TRUMPF mărește secvențial puterea unui impuls laser de peste 10.000 de ori.

Eficient și sigur din punct de vedere al procesului

Prin emiterea unui impuls inițial și a unui impuls principal, întreaga putere a amplificatorului laser poate fi transmisă picăturilor de staniu.

O nouă aplicație pentru laserul CO2

La baza sistemului cu laser de mare putere este un laser CO2 în regim de undă continuă. Astfel, TRUMPF utilizează această tehnologie pentru o nouă aplicație.

Rețea mare de specialiști

După o cooperare strânsă îndelungată, TRUMPF, ASML și ZEISS au reușit să adapteze tehnologia EUV în vederea utilizării în domeniul industrial.

457.329

piese

... include un amplificator laser.

7.322

metri

... cablurile sunt incluse în sistem.

17.090

kilograme

... greutatea totală.

Principalele componente ale amplificatorului laser TRUMPF

Posturi disponibile

1

Entwicklungsingenieur (w/m/d) Hochfrequenztechnik für EUV (befristet 1 Jahr)

Cercetare/Dezvoltare, IT/Dezvoltare software | Ditzingen / Germany

2

Entwicklungsingenieur (w/m/d) Hochfrequenztechnik für EUV (befristet 1 Jahr)

Cercetare/Dezvoltare, IT/Dezvoltare software | Ditzingen / Germany

3

Physiker / Entwicklungsingenieur (w/m/d) mit Schwerpunkt Versuch Optik / Laser / Vorverstärker EUV

Cercetare/Dezvoltare | Ditzingen / Germany

S-ar putea ca și aceste subiecte să vă intereseze

Contact
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Service și contact