Garantia de excelentes resultados de processo
Com esses geradores de alta frequência, você sempre fica do lado seguro: os TruPlasma RF Série 3000 se destacam pela construção robusta e alta eficiência. Por isso, eles são os mais adequados para processos de plasma reprodutíveis, estáveis, como para a fabricação de telas planas, células solares ou semicondutores. Instalados em milhares de aplicações no mundo todo, esses geradores garantem uma alta produtividade e resultados de processo sensacionais.
Níveis de eficiência de até 80% permitem uma redução dos custos com energia em até 50%.
Controle seguro inclusive de processos novos e exigentes.
Tecnologia CombineLine: proteção confiável contra potências refletidas em adaptações incorretas.
Débito de potência contínuo ou pulsado, por isso pode ser usado em inúmeras aplicações.
Processos de gravação e revestimento
Os geradores de alta frequência TruPlasma RF Série 3000 são adequados principalmente para processos de revestimento e gravação, como gravação por plasma, gravação iônica reativa, ALD e PECVD.
Revestimento de peças de metal
Por meio de processos de plasma, o material pode ser aplicado e retirado das superfícies, como durante o revestimento de peças de trabalho de metal com uma camada de proteção contra desgaste ou na estruturação de elementos eletrônicos por gravação por plasma ou incineração de plasma fotorresistente.
Ideal para revestimento de telas planas e células solares
Os geradores de alta frequência TruPlasma RF Série 3000 são ideais para processos de plasma como RIE, ALD, PECVD e pulverização catódica. Esses processos são aplicados, por exemplo, no revestimento de telas planas e células solares.
Eficiência e estabilidade de processo máximas
Redução de perda de potência pela metade e diminuição dos custos indiretos de água de refrigeração graças ao excelente nível de eficiência – assim é possível reduzir seus custos operacionais. A construção bastante robusta dos geradores permite tempos de funcionamento mais longos, mesmo em processos críticos, e taxas de revestimento maiores.As oscilações de plasma são efetivamente evitadas pela tecnologia CombineLine com impedância de saída de 50 Ohm – assim os processos absolutamente estáveis são possíveis.
Segurança sob qualquer circunstância
A construção robusta garante o máximo de confiabilidade e produtividade para seu processo. Uma proteção contra adaptação incorreta de 100% garante uma operação segura, inclusive em cargas críticas. O débito de potência opcional contínuo ou pulsado suporta uma grande faixa de exigências de processo. No mundo, há 20.000 unidades já instaladas – mais do que qualquer outra alimentação de plasma.
TRUMPF SystemPort
O SystemPort permite um circuito de regulagem fechado por meio da medição do sinal de RF diretamente na entrada e saída do Matchbox. Diversos valores de medição estão à disposição do gerador de RF. Assim, os parâmetros de processo podem ser melhor monitorados, o Matchbox é protegido e é possível garantir uma detecção de arco rápida. Todo o sistema de RF também pode ser controlado por interfaces do gerador individuais.
As diferentes opções permitem uma adaptação ideal do gerador de alta frequência à sua aplicação.
A gestão de arcos sofisticada é o módulo ideal para o melhor controle do processo de plasma. Uma detecção de arco específica garante a maior produtividade possível e protege ainda o produto e o sistema.
TruControl Power
O software de comando TruControl Power de fácil utilização permite uma colocação em funcionamento confortável e o monitoramento seguro do gerador de alta frequência e de todo o sistema catódico TRUMPF no processo em andamento.
Todos os componentes do sistema catódico da TRUMPF estão perfeitamente ajustados entre si.
Ajuste perfeito: gerador e Matchbox
Os processos de plasma se comportam como uma carga complexa e variável que precisa receber uma alimentação elétrica de maneira contínua. Isso é feito por redes de adaptação ativas, chamadas de Matchboxes, que garantem uma adaptação precisa à impedância ideal de 50 Ohm a qualquer momento. Assim surge uma solução de sistema perfeitamente ajustada, o sistema catódico da TRUMPF. Por diversas interfaces, entre elas EtherCAT, é possível integrar o gerador e o Matchbox de maneira simples ao ambiente de processo existente. Com a ligação inteligente entre o Matchbox e o gerador, o chamado SystemPort, atinge-se a solução de sistema ideal.
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