Garanten für exzellente Prozessergebnisse
Mit diesen HF-Generatoren gehen Sie auf Nummer sicher: Die TruPlasma RF Serie 3000 zeichnet sich durch eine robuste Bauweise und hohe Effizienz aus. Damit ist sie bestens geeignet für stabile, reproduzierbare Plasmaprozesse, wie sie beispielsweise bei der Herstellung von Flachbildschirmen, Solarzellen oder Halbleitern zur Anwendung kommen. In tausenden von Anwendungen weltweit installiert, garantieren diese Generatoren eine hohe Produktivität und herausragende Prozessergebnisse.
Wirkungsgrade bis zu 80 % ermöglichen eine Reduktion der Energiekosten um bis zu 50 %.
Sichere Führung auch von anspruchsvollen und neuartigen Prozessen.
CombineLine-Technologie: zuverlässiger Schutz gegen reflektierte Leistungen bei Fehlanpassung.
Kontinuierliche oder gepulste Leistungsabgabe, daher sehr vielseitig einsetzbar.
Ätz- und Beschichtungsprozesse
Die Hochfrequenzgeneratoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich insbesondere für Ätz- und Beschichtungsprozesse, z.B. Plasmaätzen, reaktives Ionenätzen, ALD und PECVD.
Beschichtung von Metallwerkstücken
Mittels Plasmaprozessen kann sowohl Material auf Oberflächen aufgebracht als auch abgetragen werden, beispielsweise bei der Beschichtung von Metallwerkstücken mit einer Verschleißschutzschicht oder bei der Strukturierung elektronischer Bauelemente mittels Plasmaätzen oder Fotolack-Plasmaveraschung.
Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen
Die HF-Generatoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich ideal für Plasmaprozesse wie RIE, ALD, PECVD und RF-Sputtern. Diese Verfahren kommen unter anderem bei der Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen zur Anwendung.
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TruPlasma RF 3012
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TruPlasma RF 3020
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TruPlasma RF 3024
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| RF-Ausgang | |||
| Nennleistung | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
| Ausgangsleistung | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
| Nennlastimpedanz | 50 Ω | 50 Ω | 50 Ω |
| Ausgangsfrequenz | 13,56 MHz | 13,56 MHz | 13,56 MHz |
| RF-Ausgang | 7/8 | 1 5/8 | 1 5/8 |
| Netzanschlussdaten | |||
| 400 V | 400 V | 400 V | |
| 480 V | 480 V | 480 V | |
| Netzfrequenz | 50 Hz | 50 Hz | 50 Hz |
| Netzfrequenz | 60 Hz | 60 Hz | 60 Hz |
| Leistungsfaktor | 0,93 | 0,93 | 0,93 |
| Netzaufnahmeleistung | 16,6 kVA | 28,1 kVA | 33,3 kVA |
Die technischen Daten aller Produktvarianten als Download.
Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und die Anlage.
TruControl Power
Die anwenderfreundliche Steuerungssoftware TruControl Power ermöglicht eine komfortable Inbetriebnahme und sichere Überwachung des HF-Generators bzw. des gesamten TRUMPF RF-Systems im laufenden Prozess.
Alle Komponenten des TRUMPF RF-Systems sind optimal aufeinander abgestimmt.
Perfekt aufeinander abgestimmt: Generator und Matchbox
Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.
Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.
