RF-Systemlösung aus einem Guss
Die neuen Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) stellen die ideale Ergänzung zu HF-Generatoren von TRUMPF Hüttinger dar. Dank des intelligenten Matching-Algorithmus und der digitalen Steuerplattform zur Prozessüberwachung entsteht eine ganzheitliche Lösung, in der alle Komponenten optimal zusammenwirken – das TRUMPF RF-System.
Schnelle, stabile und reproduzierbare Impedanzanpassung an 50 Ohm selbst in kritischen Prozessen.
Fortschrittliche Software und verbesserte Kommunikation zwischen Generator und Matchbox.
Schnelle Nachführung des Systems bei jeder Impedanzveränderung von Matchbox und Last.
Optimale Überwachung der Prozessparameter sowie frühzeitige Arc-Erkennung.
Grafische Bedienoberfläche und effektive Tools (Smith-Diagramm, Echtzeit-Oszilloskop).
Herstellung von Halbleitern, Solarzellen und Flachbildschirmen
Bei der Herstellung von Halbleitern, Solarzellen und Flachbildschirmen sind stabile Plasmaprozesse entscheidend. Im Verbund mit den TRUMPF Hüttinger HF-Generatoren bieten die Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) eine ganzheitliche Lösung für höchste Prozessstabilität und Produktivität.
Aufbringung von Hartstoff- und Verschleißschutzschichten
Durch Aufbringung funktioneller Schichten erhalten stark beanspruchte Werkstücke eine erhöhte mechanische Härte sowie eine bessere thermische und chemische Stabilität. Die Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) stellen im Zusammenspiel mit einem HF-Generator von TRUMPF Hüttinger eine perfekte Schichtqualität sicher.
Abtragung und Beschichtung von Oberflächen
Die Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) können in allen üblichen Plasmaprozessen zur Beschichtung oder Abtragung von Oberflächen eingesetzt werden – beispielsweise Plasmaätzen, reaktives Ionenätzen, ALD, PECVD, RF-Sputtering oder Fotolack-Plasmaveraschung. Im Zusammenspiel mit einem HF-Generator von TRUMPF Hüttinger werden dabei optimale Prozessergebnisse erzielt.
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TruPlasma Match Serie 3000
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TruPlasma Match Serie 6000
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TruPlasma Match Serie 12000
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TruPlasma Match Serie 24000
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|---|---|---|---|---|
| RF Ausgang | ||||
| Ausgangsleistung | 3 kW | 6 kW | 12 kW | 24 kW |
| Nennleistung | 3 kW | 6 kW | 12 kW | 24 kW |
| Ausgangsfrequenz | 13,56 MHz | 13,56 MHz | 13,56 MHz | 13,56 MHz |
| Netzanschlussdaten | ||||
| Netzspannung | (±10%) 23,5 V - 24,5 V | (±10%) 23,5 V - 24,5 V | (±10%) 87 V - 264 V | (±10%) 87 V - 264 V |
| Netzfrequenz | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz |
| Kommunikationsschnittstellen | ||||
| Sync Schnittstellen | Ja | Ja | Ja | Ja |
| Analog/Digital | Ja | Ja | Ja | Ja |
| RS 232 / RS 485 | Ja | Ja | Ja | Ja |
| PROFIBUS | Ja | Ja | Ja | Ja |
| EtherCAT | Ja | Ja | Ja | Ja |
| DeviceNet | Nein | Nein | Nein | Nein |
| Gehäuse | ||||
| Gewicht | 15 kg | 8 kg | 27 kg | 30 kg |
| Schutzart IP | 21 | 21 | 21 | 21 |
| Kühlungsanforderungen | ||||
| Max. Wasserdruck | - | - | 6 bar | 6 bar |
| Min. Druckdifferenz | - | - | 1,5 bar | 1,5 bar |
| Min. Durchflussmenge | - | - | 3,5 l/min | 5 l/min |
| Temperatur Kühlmedium | - | - | 10 °C - 30 °C 1 | 10 °C - 30 °C 1 |
| Allgemein | ||||
| Zertifikate / Standards | CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 | CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 | CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 | CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 |
| Umgebungsbedingungen | ||||
| Außentemperatur | 10 °C - 35 °C | 10 °C - 35 °C | 10 °C - 35 °C | 10 °C - 35 °C |
| Luftfeuchte | 20 % - 75 % | 20 % - 75 % | 20 % - 75 % | 20 % - 75 % |
| Barometrischer Druck | 800 kPa - 1013 kPa | 800 kPa - 1013 kPa | 800 kPa - 1013 kPa | 800 kPa - 1013 kPa |
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TruPlasma Match Serie 3000
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TruPlasma Match Serie 6000
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TruPlasma Match Serie 12000
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TruPlasma Match Serie 24000
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| RF Ausgang | ||||
| Ausgangsleistung | 3 kW | 6 kW | 12 kW | 24 kW |
| Nennleistung | 3 kW | 6 kW | 12 kW | 24 kW |
| Ausgangsfrequenz | 13,56 MHz | 13,56 MHz | 13,56 MHz | 13,56 MHz |
| Netzanschlussdaten | ||||
| Netzspannung | (±10%) 23,5 V - 24,5 V | (±10%) 23,5 V - 24,5 V | (±10%) 87 V - 264 V | (±10%) 87 V - 264 V |
| Netzfrequenz | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz |
| Kommunikationsschnittstellen | ||||
| Sync Schnittstellen | Ja | Ja | Ja | Ja |
| Analog/Digital | Ja | Ja | Ja | Ja |
| RS 232 / RS 485 | Ja | Ja | Ja | Ja |
| PROFIBUS | Ja | Ja | Ja | Ja |
| EtherCAT | Ja | Ja | Ja | Ja |
| DeviceNet | Nein | Nein | Nein | Nein |
| Gehäuse | ||||
| Gewicht | 15 kg | 8 kg | 27 kg | 30 kg |
| Schutzart IP | 21 | 21 | 21 | 21 |
| Kühlungsanforderungen | ||||
| Max. Wasserdruck | - | - | 6 bar | 6 bar |
| Min. Druckdifferenz | - | - | 1,5 bar | 1,5 bar |
| Min. Durchflussmenge | - | - | 3,5 l/min | 5 l/min |
| Temperatur Kühlmedium | - | - | 10 °C - 30 °C 1 | 10 °C - 30 °C 1 |
| Allgemein | ||||
| Zertifikate / Standards | CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 | CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 | CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 | CE, EN61010, SEMI S2, SEMI F47 |
| Umgebungsbedingungen | ||||
| Außentemperatur | 10 °C - 35 °C | 10 °C - 35 °C | 10 °C - 35 °C | 10 °C - 35 °C |
| Luftfeuchte | 20 % - 75 % | 20 % - 75 % | 20 % - 75 % | 20 % - 75 % |
| Barometrischer Druck | 800 kPa - 1013 kPa | 800 kPa - 1013 kPa | 800 kPa - 1013 kPa | 800 kPa - 1013 kPa |
Die technischen Daten aller Produktvarianten als Download.
Perfekte Prozesskontrolle zu jeder Zeit
Die Matchbox sorgt jederzeit für eine schnelle und direkte Impedanzanpassung an 50 Ohm – so ist stets die volle Leistungsabgabe des HF-Generators in den Prozess garantiert. Die nahtlose Kommunikation zwischen Matchbox und Generator ermöglicht eine optimale Prozessüberwachung und frühzeitige Arc-Erkennung.
Alle Parameter im Blick
Die Echtzeitmessung der HF-Ein- und -Ausgangsleistung signalisiert dynamische Impedanzänderungen, Kühlungssensoren ermöglichen eine zuverlässige Vorhersage der Verlustleistung. Dank der grafischen Bediensoftware mit komplexen Darstellungsoptionen (Smith-Chart, Echtzeit-Oszilloskop) haben Sie alle relevanten Prozessparameter stets im Blick.
TRUMPF SystemPort
Der SystemPort ermöglicht einen geschlossenen Regelkreislauf durch das Messen des RF-Signals direkt am Eingang und Ausgang der Matchbox. Dem RF-Generator stehen sämtliche Messwerte zur Verfügung. Somit können Prozessparameter besser überwacht, die Matchbox geschützt und eine frühzeitige Arc-Erkennung gewährleistet werden. Das komplette RF-System kann also über eine einzelne Generatorschnittstelle gesteuert werden.
Verschiedene Optionen ermöglichen Ihnen die optimale Anpassung des TRUMPF RF-Systems an Ihre Anwendung.
Hochgenaue AC Strommessung zur Detektion von Plasmaanomalien, platziert in der Matchbox nah am Prozess, direkt an der Kammer.
Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und die Anlage.
Als optionale Schnittstellen stehen Analog/Digital, PROFIBUS und EtherCAT zur Verfügung. Standard sind EtherNet, SystemPort und RS232/485.
TruControl Power
Die anwenderfreundliche Steuerungssoftware TruControl Power ermöglicht eine komfortable Inbetriebnahme und sichere Überwachung des HF-Generators bzw. des gesamten TRUMPF RF-Systems im laufenden Prozess.
Grafische Bediensoftware
Komplexe grafische Darstellungen ermöglichen eine umfassende Kontrolle aller relevanten Prozessparameter. Last- und Matchbox-Impedanz werden mittels eines Smith-Diagramms, die HF-Ein- und -Ausgangsleistung inklusive Frequenz- und Phasenlage mit Hilfe eines Echtzeit-Oszilloskops visualisiert.
Das TRUMPF RF-System, bestehend aus HF-Generator und Matchbox, bildet ein perfekt aufeinander abgestimmtes Gesamtsystem für beste Prozessergebnisse.
Komplexe grafische Darstellungen ermöglichen eine umfassende Kontrolle aller relevanten Prozessparameter. Last- und Matchbox-Impedanz werden mittels eines Smith-Diagramms, die HF-Ein- und -Ausgangsleistung inklusive Frequenz- und Phasenlage mit Hilfe eines Echtzeit-Oszilloskops visualisiert.
Mittels Masteroszillatoren lassen sich kritische synchrone Plasmaprozesse stabilisieren und optimieren. Ein integrierter digitaler Frequenz- und Phasensynthesizer sorgt für eine hohe Frequenz- und Phasenstabilität und ermöglicht die Einstellung der Phasenlage mit sehr kleiner Schrittweite. Es stehen verschiedene Ausführung von Masteroszillatoren für die Frequenz 13,56 MHz sowie verschiedene Frequenzkombinationen zur Auswahl.
Ein HF-Umschalter erlaubt die Mehrfachnutzung eines HF-Generators an verschiedenen Plasma-Prozessstationen, beispielsweise zur Stromversorgung sequenzieller Prozesse oder an Systemen mit verschiedenen Einspeisepunkten. Es sind verschiedene HF-Umschalter in zwei Leistungsklassen sowie mit 2, 3 oder 4 Ausgängen verfügbar.
Für die HF-Leistungsübertragung bietet TRUMPF Hüttinger Koaxialkabel an, die speziell für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen ausgelegt sind.
Optimale Beherrschung des Plasmaprozesses
Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.
Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.
Fußnoten-
Die Kühlwassertemperatur muss den Taupunkt der Raumtemperatur überschreiten, um Kondensation zu vermeiden.
