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Power Electronics for Plasma Engineering Conference

PE²: 14. - 16. Mai 2018
PE² Semi special: 17. Mai 2018

bei TRUMPF Hüttinger in Freiburg

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Save the Date: 14. - 17.05.2018

PE²: 14. - 16.05.2018

Welche Themen bewegen die Anwender? Welche Trends zeichnen sich ab? Wie gestaltet sich die Zukunft auf dem Plasmamarkt? Diese Fragen stehen bei der 9th Power Electronics for Plasma Engineering Conference (PE²) unter dem Motto "Generating Productivity" im Mittelpunkt.

Noch arbeiten wir am Konferenzprogramm, doch Sie können sicher sein, dass Sie auch in 2018 wieder spannende Präsentationen rund um aktuelle Plasmathemen erwarten werden.

PE² Semi special 17.05.2018

Am 17. Mai haben wir eine weitere Veranstaltung, die sich ausschließlich auf den Halbleitermarkt konzentriert, für Sie geplant.
 
Freuen Sie sich auf neue Anwendungsmöglichkeiten und aktuelle Produkt- und Anwendungstrends.

Wir freuen uns darauf, Sie bei uns in Freiburg begrüßen zu dürfen!

Konferenzgebühren

 

KonferenzgebührenEarly BirdNach dem 02.03.2018
PE²
(inkl. HandsOn-Workshop)
250€345€
PE² Semi Special125€175€
Kombi-Preis
(inkl. HandsOn-Workshop)
350€500€

Die Konferenzsprache ist englisch.

Programm 2018

Wie bereits in den vergangenen Jahren wird es auch 2018 zwei Konferenztage und einen Workshoptag geben. Zusätzlich findet die PE² Semi Special am 17.05.2018 statt.

 

Programm 201814.05.15.05.16.05.17.05
PE²PE²HandsOn WorkshopPE² Semi Special

14.05.2018 Konferenztag 1

11:30 - 12:00Registration
12:00 - 12:15Welcome SpeechTill Kueppers, TRUMPF Hüttinger, DE
12:15 - 12:45Advanced materials enabled by plasma technologiesProf. Bernd Szyszka, TU Berlin, DE
12:45 - 13:10Magnetron sputtered thin films for phtotvoltaic applicationsDr. Ronald Korn, Singulus Technologies AG, DE
13:10 - 13:35Analysis of ICP plasma processes for crystalline silicon solar cell surface passivationMark Hofmann, Fraunhofer ISE, DE
13:35 - 14:00Hardware functionality driven PVD process optimization: a dual-output pulsed-DC plasma source utilization in CIGS photovoltaic cell productionPawel Lesiuk, TRUMPF Huettinger, PL
14:00 - 14:30Get together: Time2Network
14:30 - 14:55Efficiency and yield enhancing optical monitoring system for inline coatersWilmert de Bosscher, Soleras, BE
14:55 - 15:20Simulation study on input power effects in magnetron dischargesMichael Siemers, Fraunhofer IST, DE
15:20 - 15:45Basic study on ZrOx rotatable sputtering - target developmentChristoph Simons, Materion, DE
15:45 - 16:10Success factors in ZrOx target MF sputteringDr. Moritz Heintze, TRUMPF Hüttinger, DE
16:10 - 16:35Large area industrial PVD coatingsAndriy Kharchenko, SGG France, FR
16:35 - 17:00Understanding crazing effect in large area coating - critical factors and mitigation methodsDr. Wojciech Gajewski, TRUMPF Huettinger, PL
17:00 - 17:10Conclusion Day 1
19:00Evening event

15.05.2018 Konferenztag 2

08:15 - 08:30Welcome - start of the conferenceDr. Rafal Bugyi
08:30 - 09:00Smooth highly adherent HiPIMS coatings for friction stir welding of aluminiumProf. Arutiun Ehiasarian, SHU, UK
09:00 - 09:25Challenges of HiPIMS for directional depositionDr. Jürgen Weichart, Evatec AG, CH
09:25 - 09:50A comprehensive tutorial for successful HiPIMS application in mass production: a case of C-based optical and decorative coatingsDr. Anna W. Oniszczuk
09:50 - 10:15Recent progress in pulse magnetron sputtering at Fraunhofer FEPDr. Matthias Fahland, Fraunhofer FEP, DE
10:15 - 10:45Get together: Time2Network
10:45 - 11:10Next generation of power supplies for plasma diffusion treatmentDr. Peter Kästner, Fraunhofer IST, DE
11:10 - 11:35Multiple plasma source synchronization for improved process optimization: a Ti-Cr-based anticorrosion coating case studyKrzysztof Ruda, TRUMPF Huettinger, PL
11:35 - 12:00e-beam evaporation for packaging and security applicationsRoland Trassl, Applied Materials, DE
12:00 - 12:25Ultra-Clean and high performance substrates for plasma treatment technologiesValentijn von Morgen, DuPont Teijin Films, UK
12:25 - 12:50Laser based rapid thermal processingJan Wieduwilt, TRUMPF Laser, DE
Lunch break
14:00 - 15:00Company tour & Group picture
15:00 - 15:45Time2Network @ Poster session
15:45 - 16:15Defects and doping in oxides: case of doped TiO2 filmsDr. Laidani, Fondazione Bruno Kessler, IT
16:15 - 16:40Synthesis of electrochromic thin films by reactive co-sputteringOliver Kappertz, Fraunhofer IST, DE
16:40 - 17:05The road to predictability for industrial plasma coating: data-based process and up-time optimizationDr. Ioana Luciu, TRUMPF Hüttinger, DE
17:05 - 17:30Silicon layers for application in lithium ion batteriesDr. Andreas Georg, Fraunhofer ISE, DE
17:30 - 17:45Conclusion of the conference

16.05.2018 Workshop

Group 1Group 2
08:30 - 09:00Health and safety briefingHealth and safety briefing
09:00 - 10:00Electrical measurement techniques for process characterization in MF dual magnetron sputtering

Multi frequency RF plasma systems LUB

Multi frequency plasma systems for etch applications

10:00 - 11:00

Multi frequency RF plasma systems LUB

Multi frequency plasma systems for etch applications

Electrical measurement techniques for process characterization in MF dual magnetron sputtering
11:00 - 11:30Get together: Time2Network
11:30 - 12:30Gentle approach for sensitive materials - step mode in Bipolar power supplyDual output pulsed DC - application flexibility
12:30 - 13:30Lunch break
13:30 - 14:30Dual output pulsed DC - application flexibilityGentle approach for sensitive materials - step mode in Bipolar power supply
14:30 - 15:00Get together: Time2Network
15:00 - 16:00TBDBi-HiPIMS in Bipolar operation
16:00 - 17:00Bi-HiPIMS in Bipolar operationTBD
17:00Conclusion of workshop

Anreise und Unterkunft

Wir möchten Ihnen die Anreise nach Freiburg und Ihren Aufenthalt so angenehm wie möglich gestalten. Daher haben wir im Folgenden einige Informationen für Ihre Reiseorganisation zusammengestellt.

Veranstaltungsort

Building of TRUMPF subsidiary in Freiburg Germany

TRUMPF Hüttinger GmbH & Co. KG
Bötzinger Str. 80
79111 Freiburg im Breisgau


Telefon: +49-761-8971-0

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Traveling to TRUMPF Hüttinger

Reaching TRUMPF Hüttinger in Freiburg by car or public transportation. Further information are available as download.

PE² 2017 - a review

Unter dem Motto „generating progress“ beschäftigte sich die Konferenz 2017 vor allem mit Glas-, PV-, industriellen und dekorativen Beschichtungen. 

Wie bereits 2016 rückten wir die Praxis in den Fokus und kombinierten theoretische und praktische Inhalte:

Impressions 2017

Spannende Technologieeinblicke durch Theorievorträge renommierter Plasmaexperten.

Neu war in diesem Jahr die Poster Session, die zusätzlich am ersten Tag stattfand.

Company tour

Evening Event

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16.02.2018
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Agenda PE² 2018

9th international Conference on Power Electronics for Plasma Engineering

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16.02.2018
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