La radiación ultravioleta extrema (UVE) para la exposición de obleas es, sin duda, el futuro de la industria de los chips. Así pues, no es de extrañar que no sólo la prensa especializada, sino también el público en general, se dediquen regularmente al tema y sigan el desarrollo de la tecnología. En esta página encontrará una recopilación de algunos artículos destacados nacionales e internacionales.

El proceso de Samsungs 5-nm-UVE está preparado

En este artículo de Golem.de, el autor Marc Sauter informa que Samsung Foundry ha completado el desarrollo del proceso de 5 nm con radiación ultravioleta (UVE) y ahora está recibiendo pedidos de los clientes. Con el nuevo proceso, la densidad del transistor aumenta un 25 % y, a su vez, los chips tienen un 20 % menos de consumo de energía y un 10 % más de potencia de procesamiento.

Fuente: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Fecha de publicación: 04/2019
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Samsung fabrica chips de 7 nanómetros con impresoras de luz UVE

En este artículo, Heise.de informa que Samsung comenzó la producción en su primera fábrica de 7 nm en otoño de 2018, donde expone obleas con el sistema de litografía UVE de ASML. Fuente: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Fecha de publicación: 10/2018
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Antes de tiempo

El Informe Anual 2017/2018 de TRUMPF destaca cómo el dominio de la luz (y por tanto también de la litografía láser y UVE) proporciona los fundamentos para las futuras tecnologías como la inteligencia artificial, la conducción autónoma y las fábricas conectadas en red.

Fuente: Informe anual de TRUMPF AF 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Fecha de publicación: 10/2018
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La disponibilidad de escáneres EUV aumentó al 85 por ciento

El artículo de golem.de anuncia que ASML ha mejorado sus sistemas NXW:3400B de manera tan significativa que la producción en serie rentable y eficaz con radiación ultravioleta extrema está a la vuelta de la esquina. Fuente: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Fecha de publicación: 07/2018
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El secreto de la generación UVE

En este artículo, LaserFocusWorld describe los más de veinte años de desarrollo de la tecnología UVE y describe los numerosos obstáculos y desafíos que tuvieron que superarse antes del gran avance de 2015.

Fuente: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Fecha de publicación: 11/2017
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TRUMPF consolida la cadena de suministro de litografía UVE con la operación de Access Laser

Este informe de la revista especializada "Produktion" trata sobre la adquisición mayoritaria de Access por parte de TRUMPF. Como fabricante de láseres de CO₂ de baja potencia, Access Laser es uno de los socios más importantes de TRUMPF en el negocio de la UVE. Fuente: www.optics.org
Autor: n.N.
Fecha de publicación: 10/2017
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TRUMPF quiere revolucionar la industria del chip

La revista alemana "Stuttgarter Zeitung" informa sobre cómo TRUMPF se ha introducido en la industria de los semiconductores como proveedor con su amplificador láser y ha fundado una nueva filial para este negocio. Fuente: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Fecha de publicación: 05/2017
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La UVE ha llegado a la producción de CI

El artículo en el semanario para la revista electrónica "Markt&Technik" resume el volumen de ventas actual y previsto de ASML y las cifras de ventas, que demuestran que la litografía UVE ha llegado finalmente a la industria. Fuente: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Fecha de publicación: 07/2017
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