Garantía de resultados de proceso excelentes
Con este generador de AF va siempre sobre seguro: la TruPlasma RF Serie 3000 destaca por un diseño robusto y una alta eficiencia. Por ello, es el más adecuado para procesos de plasma estables y reproducibles, como los que se emplean, por ejemplo, para la fabricación de pantallas planas, células solares o semiconductores. En miles de aplicaciones instaladas en todo el mundo, estos generadores garantizan una alta productividad y unos excelentes resultados de proceso.
Los grados de rendimiento de hasta el 80 % permiten una reducción de los costes energéticos de hasta el 50 %.
Desarrollo seguro incluso de procesos exigentes y novedosos.
Tecnología CombineLine: protección fiable contra potencias reflejadas en caso de maladaptación.
Emisión de potencia continua o por impulsos que confiere gran versatilidad.

Procesos de aplicación de capas y de grabado
Los generadores de alta frecuencia de la TruPlasma RF Serie 3000 son aptos, especialmente, para procesos de grabado y de aplicación de capa como, por ejemplo, el grabado de plasma, grabado iónico reactivo, ALD y PECVD.

Recubrimiento de piezas de metal
Mediante procesos de plasma es posible tanto aplicar material sobre superficies como eliminarlo, por ejemplo, en el recubrimiento de piezas de trabajo metálicas con una capa protectora contra el desgaste o para la estructuración de componentes electrónicos mediante ataque por plasma o calcinación por plasma de resina fotorresistente.

Recubrimiento de pantallas planas y células solares
Los generadores de AF de la TruPlasma RF Serie 3000 están perfectamente indicados para procesos de plasma tales como RIE, ALD, PECVD y pulverización catódica por radiofrecuencia. Estos procesos se utilizan, entre otras cosas, para el recubrimiento de pantallas planas y células solares.
TruPlasma RF 3012
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TruPlasma RF 3020
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TruPlasma RF 3024
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Salida de AF | |||
Potencia de salida | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
Potencia nominal | 12 kW | 20 kW | 24 kW |
Impedancia de la carga nominal | 50 Ω | 50 Ω | 50 Ω |
Frecuencia de salida | 13,56 MHz | 13,56 MHz | 13,56 MHz |
Datos de conexión de red | |||
Tensión de red | 400 - 480 V | 400 - 480 V | 400 - 480 V |
Frecuencia de la red | 50-60 Hz | 50-60 Hz | 50-60 Hz |
Potencia de red del portaútiles | 16,6 kVA | 28,1 kVA | 33,3 kVA |
Factor de potencia | 0,93 | 0,93 | 0,93 |
Interfaces de comunicación | |||
Interfaces Sync | Sí | Sí | Sí |
Analógico/digital | Sí | Sí | Sí |
RS 232 / RS 485 | Sí | Sí | Sí |
PROFIBUS | Sí | Sí | Sí |
EtherCAT | Sí | Sí | Sí |
DeviceNet | Sí | Sí | Sí |
Carcasa | |||
Peso | 57 kg | 117 kg | 117 kg |
Tipo de protección IP | 20 | 20 | 20 |
Requisitos de refrigeración | |||
Presión máx. del agua | 7 bar | 7 bar | 7 bar |
Diferencia mín. de presión | 2 bar | 2 bar | 2 bar |
Caudal mínimo | 10 l/min | 20 l/min | 20 l/min |
Temperatura del refrigerante | 5 °C - 35 °C 1 | 5 °C - 35 °C | 5 °C - 35 °C 1 |
General | |||
Grado de rendimiento total | 78 % | 75 % | 75 % |
Certificados/estándares | SEMI F47, CE, RoHs | SEMI F47, CE, RoHs | SEMI F47, CE, RoHs |
Condiciones del entorno | |||
Temperatura exterior | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C |
Humedad del aire | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
Presión barométrica | 79,5 kPa - 106 kPa | 79,5 kPa - 106 kPa | 79,5 kPa - 106 kPa |
Los datos técnicos de todas las variantes de producto para descargar.

Alta eficiencia y estabilidad de proceso
Reducción a la mitad de la pérdida de potencia y disminución de los gastos de agua de refrigeración mediante un grado de rendimiento excelente: así minimizará sus costes de servicio. El diseño robusto de los generadores permite tiempos de funcionamiento más largos incluso en procesos críticos y, por lo tanto, tasas de recubrimiento más altas. Las oscilaciones de plasma se pueden evitar eficazmente con la tecnología CombineLine con impedancia de salida real de 50 ohmios: así se consiguen procesos completamente estables.

Seguridad en todo momento
El diseño robusto proporciona una eficacia y productividad máximas de su proceso. La protección absoluta contra una adaptación errónea garantiza un funcionamiento seguro incluso con cargas críticas. La potencia de salida continua o de pulso opcional satisface una gran diversidad de requerimientos al proceso. Se han instalado más de 20 000 unidades en todo el mundo, más que de cualquier otra alimentación eléctrica de plasma.

TRUMPF SystemPort
La SystemPort posibilita un circuito regulador cerrado mediante la medición de la señal RF directamente en la entrada y la salida de la matchbox. El generador RF tiene disponibles todos los valores de medición. Así, pueden vigilarse mejor los parámetros de proceso, protegerse la matchbox y garantizarse una detección de arco temprana. El sistema RF completo también puede controlarse mediante una sola interfaz de generador.
Diversas opciones le permiten adaptar perfectamente el generador de AF a su aplicación.
La sofisticada gestión de arco es el módulo ideal para el mejor control del proceso de plasma. Una detección de arco selectiva garantiza la máxima productividad posible y protege al mismo tiempo el producto y la instalación.

TruControl Power
El software de mando TruControl Power, de fácil manejo, permite una puesta en funcionamiento confortable y una supervisión segura del generador de AF o del sistema RF TRUMPF durante el proceso en marcha.
Todos los componentes del sistema RF TRUMPF están perfectamente armonizados entre sí.

Las redes de adaptación de TruPlasma Match proporcionan una transferencia óptima de potencia desde el generador a la descarga de plasma. La matchbox puede funcionar de forma autónoma o a través de una conexión inteligente entre generador y matchbox, la llamada SystemPort.

Mediante osciladores maestros es posible estabilizar y optimizar procesos de plasma sincrónicos críticos. Un sintetizador de frecuencia y fase digital integrado asegura una elevada estabilidad de frecuencia y de fase y, además permite ajustar la posición de fase con una amplitud de secuencia muy pequeña. Hay disponibles diversos modelos de osciladores maestros para la frecuencia de 13,56 MHz, así como diferentes combinaciones de frecuencias.

Un conmutador de AF permite la utilización múltiple de un generador de AF en diferentes estaciones de proceso de plasma, por ejemplo, para la alimentación eléctrica de procesos secuenciales o en sistemas con distintos puntos de alimentación. Están disponibles diversos conmutadores de AF en dos categorías de potencia, así como con 2, 3 o 4 salidas.

Para la transmisión de potencia de AF, TRUMPF Hüttinger ofrece cables coaxiales especialmente diseñados para el funcionamiento en sistemas de 50 ohmios.

Perfectamente armonizados entre sí: generador y matchbox
Los procesos de plasma se comportan como una carga compleja y variable, cuya alimentación eléctrica debe ser seguida continuamente a través del generador. Esto lo realizan que las redes de adaptación, llamadas matchboxes, que en todo momento garantizan una adaptación precisa a la impedancia óptima de 50 ohmios. De este modo surge una solución de sistema perfectamente armonizada entre sí: el sistema TRUMPF RF. Mediante diversas interfaces como EtherCAT, es posible integrar el generador y la matchbox de forma fácil en los entornos de proceso existentes y, con una conexión inteligente entre generador y matchbox, la llamada SystemPort, lograr una solución de sistema optimizada.
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Notas a pie de página-
La temperatura del agua de refrigeración debe superar el punto de rocío de la temperatura ambiente para evitar la condensación.