Az új generáció nagyfrekvenciás generátorai
Felületek bevonatolásánál vagy strukturálásánál döntő fontosságú a stabil és reprodukálható plazma áramellátás. Ehhez a TruPlasma RF 1000/3000 (G2/13) sorozat modern teljesítményelektronikával felszerelt, nagyfrekvenciás generátorai a legjobb előfeltételeket biztosítják: a stabil kimenő teljesítményüknek és a nagyfokú szabályozási pontosságuknak köszönhetően a legjobb eredményeket biztosítják Önnek a nagyfokú termelékenység mellett.
CombineLine technológia: optimális folyamatteljesítmény a valódi 50 ohmos kimenő impedanciának köszönhetően.
A folyamat változásai esetén nincs szükség a kábel hosszának igazítására – ez teljesen új a nagyfrekvenciás tartományban!
CombineLine technológia: megbízható védelem a reflektált teljesítmény ellen rossz illesztés esetén.
Az akár 80%-os hatékonysági fok az energiaköltségek legfeljebb 50%-os csökkentését teszi lehetővé.
A környezeti levegő nem melegszik fel és nem szennyeződik, ezért tiszta levegőjű helyiségben üzemelhet.
Ideális kis síkképernyők bevonatolásához
A TruPlasma RF 1000/3000 (G2/13) nagyfrekvenciás generátorai ideálisak az olyan eljárásokhoz, mint a RIE, ALD, PECVD és RF fémbevonás. Ezeket az eljárásokat többek között félvezető részegységek és mikromechanikus rendszerek (MEMS) gyártásánál, valamint síkképernyők és napelemek bevonatolásánál alkalmazzák.
Tipikus alkalmazási terület: a napelem-ipar
A TruPlasma RF 1000/3000 (G2/13) sorozat tipikus alkalmazási területei az igényes PECVD, marási és nagyfrekvenciás fémbevonó eljárásai a napelem-iparban.
Félvezető gyártás
Félvezetők gyártásánál különböző plazma folyamatok kerülnek alkalmazásra a lehúzási folyamatoktól a száraz maratáson át a zónaolvasztásig tiszta szilícium gyártánál. A TruPlasma RF 1000/3000 (G2/13) sorozat generátorai minden előfeltételt biztosítanak a stabil és optimális, a mindenkori eljáráshoz igazított áramellátáshoz, így kiváló, reprodukálható eredmények érhetők el.
Optimális hozzáigazítás az eljáráshoz
A TruPlasma RF 1000/3000 (G2/13) sorozat intelligens valós idejű illesztője gyors és közvetlen impedancia igazítást biztosít 50 ohmhoz. A plazma ingadozások és szennyeződések a szabadalmaztatott CombineLine technológiával megbízhatóan megakadályozásra kerülnek, a ventilátor nélküli hűtési koncepció csökkenti a kiesési arányt, növeli a hatékonyságot, és lehetővé teszi a tiszta levegőjű helyiségben való alkalmazást.
Maximális hatékonyság és rugalmasság
A legfeljebb 80%-os hatékonysági foknak köszönhetően Ön az energiaköltségeket a hagyományos generátorokkal szemben akár 50%-kal csökkentheti. A számos rendelkezésre álló interfész (konfigurálható analóg interfész, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) egyszerűvé teszi az integrációt a meglévő berendezésekbe, műszaki igazítások az integrált ultraszéles tartományú hálózati tápegységnek (200-480 VAC) köszönhetően nem szükségesek. A széles teljesítményspektrum ellenére kompakt kivitel révén (19 hüvelyk, ill. ½-19 hüvelyk betolás) helytakarékosan minden gyártóberendezésbe integrálható.
TRUMPF SystemPort
A SystemPort zárt szabályozó körforgást tesz lehetővé az RF jel mérése révén közvetlenül a matchbox bemeneténél és kimeneténél. Az RF generátornak minden mért érték rendelkezésére áll. Így a folyamatparaméterek jobban felügyelhetők, a matchbox jobban védhető, és a spontán ívkisülés felismerés időben biztosítható. A teljes RF rendszer egyes generátor interfészeken keresztül vezérelhetők.
A különböző opciók a VHF generátornak az alkalmazáshoz való optimális testreszabását teszik lehetővé.
A szabadalmaztatott Auto Freuquency Tuning megoldás szimultán és gyors frekvenciaigazítást tesz lehetővé, valamint a generátor és matchbox optimális együttműködését garantálja. E szabadalmaztatott technika révén a helyi minimum már nem akadály: az RF rendszer a legnagyobb teljesítményt nyújtja, így a legjobb folyamat-eredményeket és nagyfokú reprodukálhatóságot tesz lehetővé.
Az átgondolt spontán ívkisülés kezelés az ideális modul a legjobb plazma eljárás ellenőrzéshez. A célzott spontán ívkisülés felismerés a lehető legjobb termelékenységet garantálja, és egyidejűleg védi a terméket és a berendezést.
A TRUMPF RF rendszer minden komponense optimálisan egymásra van hangolva.
Tökéletesen egymásra hangolva: a TRUMPF RF rendszer
A plazmafolyamatok olyan komplex, változó terhelésként viselkednek, amelyhez az áramellátást a generátoron keresztül folyamatosan után kell állítani. Ezt az aktív igazító hálózatok, az úgynevezett matchboxok teljesítik, amelyek mindig biztosítják az 50 ohmos optimális impedancia precíz igazítását. Így jön létre egy tökéletesen egymásra hangolt rendszermegoldás, a TRUMPF RF rendszer. A különböző interfészeken, többek között az EtherCAT-en keresztül, a generátor és a matchbox igen egyszerűen a folyamat meglévő környezetébe integrálható, és egy intelligens generátor matchbox kapcsolattal, az úgynevezett SystemPort-tal, optimalizált rendszermegoldás érhető el.
Országonként eltérések lehetnek a termékválasztékban és ezekben az adatokban. A technika, felszereltség, ár és tartozékkínálat változtatásának jogát fenntartjuk. Kérjük, lépjen kapcsolatba a helyi kapcsolattartójával, hogy megtudja, hogy a termék az Ön országában rendelkezésre áll-e.
