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TruPlasma RF Air 1000シリーズ | TRUMPF
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プラズマ励起
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Air 1000シリーズ

信頼できる精度

空冷式高周波ジェネレータTruPlasma RF 1001 Airからは、最大1000 Wの高精度で再現性のある高周波電力が供給され、100 mW単位の極めて精緻な設定が可能であるため、多種多様なプラズマアプリケーションに適しています。半導体、ソーラーセルやディスプレイの製造などの用途を問わず、TRUMPF Hüttingerの特許取得済み技術と最新のプロセス機能により、常に最高の信頼性と最善の加工結果が保証されます。

スマート自動周波数チューニング

極めて迅速で最適な周波数調整が保証され、それに伴ってジェネレータとマッチボックスの最適な連携作業が確実に実現します。

高精度のアーク管理

要求の高い新しいタイプのプロセスでも安全に制御されるため、製品の保護が保証されます。

マルチレベルパルス幅変調

パルス波形が複数のレベルで柔軟に制御されるため、最新のプラズマプロセスでの加工結果が向上します。

プラグ&プレイ

プロセス変更やレトロフィットの際に、ジェネレータの使用と交換を自由自在に行うことができます。

安定したプラズマプロセス

特許取得済みのCombineLineテクノロジーでは、真の50 Ωの出力インピーダンスにより均一な処理能力が保証されます。

一様のジェネレータ技術

高周波製品群内に様々な出力クラスが揃っているため、あらゆるプロセス要件をカバーすることができます。

高周波ケーブル長は無関係

プロセス変更又はシステム変更時にケーブル長を適応させる必要がなくなりました。

フラットパネルディスプレイのコーティング向けの最高クラスの高周波電力供給

TruPlasma RF Air 1000シリーズの高周波ジェネレータは、RIE、ALD、PECVD、RFスパッタリングなどのプラズマプロセスに最適です。これらの手法は、半導体部品および微小電気機械システム (MEMS) の製造、ならびにフラットパネルディスプレイ及びソーラーセルのコーティングなどで利用されます。

ソーラーセル製造

TruPlasma RF Air 1000シリーズの典型的な用途は、ソーラー産業における難度の高いPECVD、エッチング及び高周波スパッタリングプロセスです。

高周波プラズマジェネレータ技術のイメージ

半導体製造の際には、ドライエッチングによる除去プロセスから、純珪素製造における浮遊帯溶融法に至るまで、様々なプラズマプロセスが実行されます。TruPlasma RF Air 1000シリーズのジェネレータは、各プロセスに合わせて最適に調整され、安定した電力供給を確保する必要条件をすべて備えているため、再現性のある優れた結果が得られます。

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TruPlasma RF 1001 Air
高周波出力  
出力 1 kW
定格出力 1 kW
定格負荷のインピーダンス 50 Ω
出力周波数 13.56 MHz
電源接続データ  
供給電圧 110 - 230 V
電源周波数 50-60 Hz
電源入力電力 1.8 kVA
出力係数 0.9
通信インターフェース  
同期インターフェース はい
アナログ/デジタル はい
RS 232 / RS 485 はい
PROFIBUS はい
EtherCAT はい
DeviceNet はい
ハウジング  
重量 15 kg
保護タイプ IP 20
冷却要件  
最大水圧 N/A bar
最小圧力差 N/A bar
最小流量 N/A l/min
冷媒温度 5 °C - 35 °C
一般  
全体効率 70 %
証明書 / 標準 Semi S2、SEMI F47、UL、CE、RoHs
環境条件  
外部温度 5 °C - 40 °C
湿度 5 % - 85 %
気圧 79.5 kPa - 106 kPa
最高の生産性と稼働率

最高の生産性と稼働率

高周波ジェネレータはフレキシブルで堅牢な設計になっているため、スループットの向上と運転コストの低下が可能です。

特許取得済みのCombineLineテクノロジー

安定したプロセス、再現性のある結果

インテリジェントなリアルタイムマッチングを備えた特許取得済みのCombineLineテクノロジーは、TruPlasma RF 1001 Airの最適な稼働率を保証し、プラズマ変動や汚れを確実に防止します。

コンパクトでフレキシブルに使用可能

コンパクトに設計 (19インチラックのハーフサイズ) されたこの高周波ジェネレータでは、必要なスペースが極めてわずかであるため、新規設置及び既存設備へのレトロフィットソリューションに理想的です。多数のインタフェース (設定可能なアナログインタフェース、EtherNet、DeviceNet、PROFIBUS, EtherCAT) が利用可能であるため、統合は極めて簡単です。

エッチング/コーティングプロセスに理想的

小数点以下レベルの精度

TruPlasma RF 1001 Airでは電力が100 mW単位で精密に定量供給されるため、ALDなどの要求の極めて高い最新のアプリケーションであっても最高の結果が得られます。高周波ジェネレータの高精度の出力調整により、各ウェーハでの最高の繰り返し精度が保証されます。

建築用ガラス

最新のプロセス機能による最善の加工結果

スマート自動周波数チューニング2.0、アーク管理やマルチレベルパルス幅変調などのデジタル制御機能を活用して、高周波ジェネレータをそれぞれのプロセスに合わせて最適に調整することができます。

TruPlasma RF 1003: 最大限の生産性が得られる高周波ジェネレータ

お客様のアプリケーションに合わせて柔軟にカスタマイズ

一様のジェネレータ設計のもとで、様々な出力クラスと周波数が提供されているため、プロセス変更時に簡単に交換することができます。また、ケーブル長を適応させる必要もなくなりました。

高周波システム全体をTRUMPF SystemPortで制御

SystemPortでは、マッチボックスの入力/出力で直接RF信号を測定することにより、クローズドループ制御が可能になるため、高周波ジェネレータにあらゆる測定値が常に提供されます。プロセスパラメータは継続的に監視され、マッチボックスの保護及び早期アーク検出が保証されます。

自動周波数チューニング
スマート自動周波数チューニング (AFT)

特許取得済みの自動周波数チューニングでは、ジェネレータとマッチボックス間で同時に高速で周波数調整を行うことができます。そのため、最善の加工結果と最高の再現性が保証されます。

迅速で精密なアーク管理

考え抜かれたアーク管理により、プラズマプロセスの最適な制御が保証されます。的確なアーク検出により生産性が向上し、同時に製品と設備が損傷から保護されます。

マルチレベルパルス幅変調

最新のプラズマプロセスでは、パルスモードで必要とされる柔軟性が増加しています。どのようなパルス波形であっても、複数のレベルから成る自由に選択可能なパルスモードで得ることができます。それに伴い、プラズマ物理で新しい制御メカニズムが実現し、加工結果が向上します。

同期モジュール (パルス、CEX、アーク)

同期モジュールにより、複合的なプラズマシステム内で複数のジェネレータを柔軟かつ確実に同期することができます。

TruControl Power

使いやすい制御ソフトウェアにより、快適に運転開始を行い、高周波ジェネレータもしくはTRUMPF RFシステム全体を、プロセスの進行中に確実に監視することが可能になります。

Web-GUI

ウェブサーバーが統合されているため、高周波システムの運転もソフトウェア更新もウェブブラウザを介して行うことができます。

国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。

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