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VHF 발진기 시리즈 3000
VHF 발진기 시리즈 3000
플라즈마 여기
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma VHF 시리즈 3000

모든 요구를 만족시킴

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    혁신, 모듈식, 확장 가능성: TRUMPF의 새로운 발진기 플랫폼

    TruPlasma VHF 시리즈 3000의 발진기는 최고의 전력 밀도를 가능하게 하고 가장 어려운 공정 요건을 만족시키는 혁신적인 플랫폼 계획에 기반하고 있습니다. 모듈식 및 순수 물 냉각식 구조를 통해 전력 출력을 80 kW까지 확장할 수 있습니다. 그 뿐아니라 컴팩트한 VHF 발진기의 높은 경제성과 견고한 디자인은 이미 정평이 나있습니다.

    정확하며 신속한 임의의 펄스 형성

    기존의 싱글 및 멀티 레벨 펄싱에 최고의 플라즈마 프로세스 컨트롤을 제공합니다.

    최소 램프 시간 150 ns

    이를 통해 발진기 점화 동작을 매우 유연하게 제어할 수 있습니다.

    스마트 Auto Frequency Tuning

    발진기와 매칭 네트워크 간의 최적의 상호 작용을 위한 자동 주파수 조정

    확실하고 정교한 공정 제어

    초정밀 디지털 주파수 변조 덕분에 재현 가능한 뛰어난 프로세스 결과

    케이블 길이에 대한 독립성

    프로세스 변경 시에도 고주파 케이블의 길이 조정이 필요 없기 때문에 장착 시간이 짧습니다.

    견고한 디자인

    CombineLine 테크놀로지 덕분에 불일치 시에도 신뢰할 수 있는 발진기 기능

    TruPlasma VHF 시리즈 3000의 전형적인 적용 범위: 솔라셀 제조

    솔라셀 제조

    태양광 발전 영역에는 맞춤형 공정 에너지를 위한 수 없이 많은 적용 범위가 있습니다. 이러한 경우 재료 코팅 및 제거를 위한 다양한 플라즈마 공정(예: 스퍼터링 공정, PECVD 공정 및 에칭 공정)이 사용됩니다. TruPlasma VHF 시리즈 3000 발진기를 각 공정에 맞게 최적으로 조정할 수 있고 빠른 아크 관리를 통해 안정적인 플라즈마 제어할 수 있습니다. 따라서 최적의 공정 결과 및 높은 생산성이 보장됩니다.

    에칭 및 코팅 프로세스에 이상적으로 적합함

    반도체 제조

    반도체 제조 시 건조 에칭을 통한 재료 제거에서 순수 실리콘 제조 시의 존 정제법(zone refining process)까지 다양한 플라즈마 공정이 사용됩니다. TruPlasma VHF 시리즈 3000 발진기는 안정적이고 모든 공정에 맞게 최적으로 조정된 전원 공급에 대한 모든 전제 조건을 제공하여 탁월하고 재현 가능한 결과에 도달할 수 있습니다.

    평면 디스플레이 코팅을 위한 최고 등급의 중간 포맷 전원 공급

    평면 디스플레이 코팅에 이상적임

    TruPlasma VHF 3000 시리즈의 발진기는 RIE, ALD, PECVD 및 RF 스퍼터와 같은 플라즈마 프로세스에 매우 적합합니다. 본 프로세스는 특히 반도체 부품 및 미소 기계 시스템(MEMS) 제조 시와 평면 스크린 및 솔라셀 코팅 시에 사용됩니다.

    TruPlasma VHF 3005
    RF 아웃풋  
    전력 출력 5 kW
    정격 출력 5 kW
    정격 부하 임피던스 50 Ω
    출력 주파수 40.68 MHz
    전원 연결 데이터  
    전원 전압 200 - 480 V
    전원 주파수 50-60 Hz
    정격 소비전력 18 kVA
    출력 계수 0.95
    통신 인터페이스  
    동기 인터페이스
    아날로그/디지털
    RS 232 / RS 485
    PROFIBUS
    EtherCAT
    DeviceNet
    하우징  
    중량 55 kg
    보호등급 IP 30
    냉각 요건  
    최대 수압 7 bar
    최소 차압 2 bar
    최소 유량 8 l/min
    냉매 온도 5 °C - 35 °C 1
    일반  
    총효율 75 %
    인증서 / 표준 Semi S2, SEMI F47,UL, CE, RoHs
    주변 조건  
    외부온도 5 °C - 40 °C
    공기습도 5 % - 85 %
    기압계 압력 79.5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    Technical data sheet

    Download the technical data of all product variants.

    TruPlasma VHF 시리즈 3000의 Combine-line 테크놀로지

    공정에 맞는 유연한 조정

    TruPlasma VHF 시리즈 3000의 모듈형 플랫폼 계획을 통해 80 kW까지 출력 전력을 확장할 수 있습니다. CombineLine 테크놀로지의 실행 덕분에 발진기는 미스 매칭인 경우에도 높은 견고함을 자랑할 수 있습니다. 그 넓은 주파수 범위와 가변 공급 전압 및 케이블 길이를 통해 상이한 어플리케이션 및 사용 국가에 맞게 유연하게 조정될 수 있습니다.

    병렬 공진 회로용 고주파 발진기

    높은 효율성 및 경제성

    TruPlasma VHF 시리즈 3000의 고주파 발진기는 LDMOS 트랜지스터가 있는 최신 반도체 안에 장착되어 있습니다. 고집적 평면 구조 기술을 통해 에너지 효율이 높아 전력이 감소된 경우에도 최고의 전력 밀도가 가능합니다. 이를 통해 본 제품군은 해당 주파수 영역에서 여태까지 비할 곳이 없었던 경제성을 제공하며, 시장에서 일반적인 운용 비용을 줄입니다.

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort는 매칭 네트워크의 인풋 및 아웃풋에서의 직접적인 RF 신호 측정을 통해 연결된 제어 회로를 가능하게 합니다. RF 발진기에서 전체 측정값을 사용할 수 있습니다. 이를 통해서 공정 파라미터의 모니터링이 향상될 수 있으며, 매칭 네트워크가 보호될 수 있으며, 조기 아크 인식을 보장할 수 있습니다. 전체 RF 시스템은 개별적인 발진기 인터페이스를 통해 제어될 수 있습니다.

    다양한 옵션을 통해 사용 시 VHF 발진기를 최적으로 조정할 수 있습니다.

    Smart Auto Frequency Tuning

    특허 받은 Auto Freuquency Tuning 솔루션을 통해 신속하면서 동시의 주파수 조정이 가능하며, 발진기와 매칭 네트워크 간의 최적화된 상호 작용을 보장합니다. 이러한 특허 받은 기술로 인해 국부적인 최소값은 더 이상 장애물이 아닙니다. RF 시스템이 최적의 결과를 이끌어내기 때문에 최선의 공정 결과 및 높은 재현성이 가능합니다.

    아크 관리

    정밀한 아크 관리는 최선의 플라즈마 공정 컨트롤을 위한 이상적인 모듈입니다. 적절한 아크 인식은 최고의 생산성을 보장하며, 동시에 제품 및 설비를 보호합니다.

    유연한 펄스 형태

    유연한 펄스 형태: 출력 신호의 형태는 각 공정 요건에 맞게 임의로 조정될 수 있습니다.

    사용자 친화적인 TruControl Power 소프트웨어

    TruControl Power

    사용자 친화적인 제어 소프트웨어 TruControl Power를 통해 고주파 발진기 또는 작동 중인 모든 TRUMPF RF 시스템을 간편하게 작동하고 안전하게 모니터링할 수 있습니다.

    적합한 시스템 구성 요소를 선택하여 VHF 발진기를 어플리케이션 요건에 맞게 최적으로 조정할 수 있습니다.

    RF 시스템 솔루션: 최고의 공정 안정성을 위한 매칭 네트워크
    매칭 네트워크

    TruPlasma Match 매칭 네트워크를 통해 발진기에서 방전된 플라즈마에 전력을 최적으로 전송할 수 있습니다. 매칭 네트워크의 가동은 독립적이거나 지능형 발진기 매칭 네트워크 연결, 이른바 SystemPort를 진행할 수 있습니다

    TruPlasma VHF 시리즈 액세서리 키트
    액세서리 키트

    액세서리 키트는 물 연결부용 어댑터, HARTING AC 공급용 세트, 인터록 기능용 점퍼, BNC 암 커넥터(Clock and Pulse sync 커넥터용) LEMO EPL 어댑터로 구성됩니다.

    중요한 동기 플라즈마 프로세스 안정화를 위한 마스터 오실레이터
    마스터 오실레이터

    마스터 오실레이터는 중요한 동기 플라즈마 프로세스를 안정화시키고 최적화시킵니다. 통합된 디지털 주파수 합성기 및 위상 합성기를 통해 주파수 및 위상의 안정성이 상승하고 위상 위치가 아주 미세하게 증가하도록 설정할 수 있습니다. 주파수 13.56 MHz 및 다양한 주파수 결합을 위한 다양한 마스터 오실레이터 버전을 선택할 수 있습니다.

    VHF 발진기 시리즈 3000
    고주파 전환 장치

    고주파 전환 장치를 통해 RF-발진기를 다양한 플라즈마 프로세스 스테이션에서 다목적으로 사용할 수 있습니다(예: 순차 프로세스 전원 공급용 또는 다양한 공급점을 가진 시스템에 사용). 고주파 전환 장치는 2개의 전력 등급 또는 아웃풋 2, 3, 4에서 사용할 수 있습니다.

    특수 출력의 전송을 위한 동축 케이블
    동축 케이블

    고주파 전력 전달을 위해 50 Ohm 시스템 내 가동에 맞게 특수 고안된 TRUMPF Hüttinger 동축 케이블이 제공됩니다.

    발진기와 매칭 네트워크: 완벽하게 상호 조화가 된 시스템 솔루션

    완벽한 상호 조화: TRUMPF RF 시스템

    플라즈마 공정은 발진기를 통해 전원 공급을 지속적으로 추적해야 하는 복잡하고 가변적인 부하와 같이 작동합니다. 플라즈마 공정은 최적화된 임피던스를 항상 50 Ohm으로 정확하게 조정하는 소위 매칭 네트워크라 하는 활성화된 조정 네트워크를 제공합니다. 이렇게 TRUMPF RF 시스템은 완벽한 상호 조화를 이루는 시스템 솔루션입니다. EtherCAT 등의 다양한 인터페이스를 통해 발진기와 매칭 네트워크는 매우 간단하게 사용자의 프로세스 환경에 통합될 수 있으며, 지능형 발진기 매칭 네트워크 연결, 이른바 SystemPort를 통해서 최적화된 시스템 솔루션을 달성합니다.

    국가에 따라 이 제품 분류 및 기재 사항이 다를 수 있습니다. 기술, 사양, 가격 및 액세서리 제공 품목이 변경될 수 있습니다. 귀하의 국가에서 사용할 수 있는 기계에 대해서는 현지 담당자에게 문의하십시오.

    각주
    • 냉각수 온도는 응축수 방지를 위해 실온의 노점보다 높아야 합니다.

    본 주제에 흥미를 가질 수 있습니다.

    Ideal geeignet für Großflächenbeschichtung
    플라즈마 프로세스에 대한 전원 공급

    TRUMPF Hüttinger의 플라즈마 발진기는 광범위한 출력과 주파수 스펙트럼을 제공합니다. 이 제품에 대한 정보를 여기서 확인하세요.

    RF-Systemlösung : Matchbox für höchste Prozessstabilität
    실시한 측정을 통한 스마트 매칭 시스템

    TruPlasma Match 1000 시리즈(G2/13)의 새로운 매칭박스 시스템은 당사의 RF 발전기를 최적으로 보완해줄 뿐만 아니라, 전체 TRUMPF RF 시스템에 대한 솔루션을 제공합니다.

    Services_Electronics_Training
    개별적인 고객 교육 프로그램이야 말로 당사의 강점입니다.

    숙련된 서비스 기술자가 참가자의 니즈에 적합하게 구성된 내용의 기본 지식을 전달합니다.

    접점

    Klaus Nock
    세일즈 플라즈마
    팩스: +49 761 89711150
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    TruPlasma RF 시스템
    TruPlasma RF 시스템
    pdf - 6 MB
    Flyer TruPlasma VHF 시리즈 3000
    pdf - 1 MB
    Whitepaper LDMOS
    pdf - 3 MB
    Whitepaper Precision in Processing
    pdf - 2 MB
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