Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookies. Jeśli osoba odwiedzająca stronę korzysta z niej nadal bez dokonywania zmian w ustawieniach w plikach cookies, zakładamy, że wyraża ona zgodę na stosowanie tych plików.
Zasilacz VHF Seria 3000
Zasilacz VHF Seria 3000
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma VHF Seria 3000

Sprosta każdemu wyzwaniu

    - / -
    • Przegląd
    • Zastosowania
    • Dane techniczne
    • Korzyści dla klienta
    • Opcje
    • Oprogramowanie
    • Komponenty systemu
    • System RF
    • Więcej Mniej
    Innowacyjna, modułowa, skalowalna: nowa platforma zasilacza TRUMPF Hüttinger

    Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 oparte są na innowacyjnej koncepcji platformy, która umożliwia najwyższe gęstości mocy i spełnia najbardziej rygorystyczne wymagania procesowe. Modułowa, chłodzona wodą konstrukcja umożliwia skalowanie mocy wyjściowej do 80 kW. Ponadto kompaktowe zasilacze VHF oferują wysoką rentowność i solidną konstrukcję.

    Dokładne i szybkie arbitralne formowanie impulsu

    Zapewnia to najlepszą kontrolę procesów plazmowych dla pulsowania jedno- i wielopoziomowego.

    Minimalny czas rampy < 150 ns

    Umożliwia to elastyczną kontrolę zapłonu plazmy.

    Inteligentna funkcja automatycznej regulacji częstotliwości (Auto Frequency Tuning)

    Automatyczna regulacja częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowującą.

    Niezawodne i zaawansowane sterowanie procesem

    Doskonałe, powtarzalne wyniki procesu przy użyciu wysoce precyzyjnej, cyfrowej modulacji częstotliwości.

    Niezależnie od długości kabla

    Krótkie czasy przezbrojenia systemu dzięki brakowi konieczności regulacji długości kabla HF przy zmianach procesowych.

    Wytrzymała konstrukcja

    Niezawodne działanie zasilacza nawet przy niedopasowaniu dzięki technologii CombineLine.

    Typowe zastosowanie TruPlasma VHF Serii 3000: Produkcja ogniw fotowoltaicznych

    Produkcja ogniw fotowoltaicznych

    W obszarze ogniw fotowoltaicznych istnieje wiele aplikacji o zróżnicowanym zapotrzebowaniu na energię procesową. Do nanoszenia lub usuwania powłok stosuje się różne procesy plazmowe, na przykład rozpylanie, PECVD lub trawienie. Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 można optymalnie dostosować do danego procesu a szybki system detekcji łuków zapewnia stabilność plazmy. W ten sposób zagwarantowane są doskonałe wyniki procesu i wysoka produktywność.

    Idealne do procesów wytrawiania i powlekania

    Produkcja półprzewodników

    W produkcji półprzewodników stosuje się różne procesy plazmowe, począwszy od procesów ablacji, przez suche trawienie, aż po ciągnienie strefowe przy wytwarzaniu czystego krzemu. Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 dzięki stabilnemu zasilaniu prądowemu optymalnie dostosowanemu do danego procesu zapewniają uzyskanie doskonałych, powtarzalnych wyników.

    Zasilanie prądowe średnich częstotliwości najwyższej klasy do powlekania płaskich ekranów

    Idealne do powlekania płaskich ekranów

    Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 doskonale sprawdzają się w procesach plazmowych, takich jak RIE, ALD, PECVD i rozpylania RF. Procesy te są stosowane między innymi w produkcji urządzeń półprzewodnikowych i układów mikromechanicznych (MEMS), jak również do pokrywania płaskich ekranów i paneli słonecznych.

    TruPlasma VHF 3005
    Wyjście RF  
    moc wyjściowa 5 kW
    Moc znamionowa 5 kW
    Nominalna impedancja obciążenia 50 Ω
    Częstotliwość wyjściowa 40,68 MHz
    Dane przyłącza sieciowego  
    Napięcie sieciowe 200 - 480 V
    Częstotliwość sieciowa 50-60 Hz
    Moc sieciowa 18 kVA
    Współczynnik mocy 0,95
    Złącza komunikacyjne  
    Złacza Sync Tak
    Analogowe/cyfrowe Tak
    RS 232 / RS 485 Tak
    PROFIBUS Tak
    EtherCAT Tak
    DeviceNet Tak
    Obudowa  
    Masa 55 kg
    Stopień ochrony IP 30
    Wymagania dot. chłodzenia  
    Maks. ciśnienie wody 7 bar
    Min. różnica ciśnień 2 bar
    Min. natężenie przepływu 8 l/min
    Temperatura medium chłodzącego 5 °C - 35 °C 1
    Informacje ogólne  
    Sprawność łączna 75 %
    Certyfikaty/standardy Semi S2, SEMI F47,UL, CE, RoHs
    Warunki otoczenia  
    Temperatura zewnętrzna 5 °C - 40 °C
    Wilgotność powietrza 5 % - 85 %
    Ciśnienie barometryczne 79,5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    Karta danych technicznych

    Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.

    Technologia Combine-line TruPlasma VHF Seria 3000

    Elastyczne dopasowanie do procesu

    Modułowa koncepcja platformy TruPlasma VHF Serii 3000 umożliwia skalowanie mocy wyjściowej do 80 kW. Dzięki zaimplementowanej technologii CombineLine zasilacz jest bardzo wytrzymały nawet w przypadku niedopasowania. Jego szeroki zakres częstotliwości, zmienne napięcie zasilania sieciowego oraz długość kabla pozwalają na elastyczne dostosowanie do różnych aplikacji w różnych krajach.

    Generator HF do równoległych obwodów rezonansowych

    Najwyższa wydajność i produktywność

    Generatory HF TruPlasma VHF serii 3000 zbudowane są w całości w najnowocześniejszej technologii półprzewodnikowej z tranzystorami mocy LDMOS. Wysoce zintegrowana technika płaskiej konstrukcji umożliwia wysoką gęstość mocy w połączeniu z wysoką efektywnością energetyczną i odpowiednio obniżoną wydajnością chłodzenia. To sprawia, że w tym zakresie częstotliwości​​ rodzina tych produktów oferuje niezrównaną wydajność i obniża rynkowe koszty eksploatacji.

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania. Zasilacz RF ma dostęp do wszystkich zmierzonych wartości. Dzięki temu można lepiej monitorować parametry procesu, chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku. Kompletnym systemem RF można sterować poprzez jeden interfejs zasilacza.

    Różnorodność opcji konfiguracji pozwala na optymalne dopasowanie zasilaczy VHF do wielu aplikacji.

    Inteligentny system automatycznego dostrajania częstotliwości (Auto Frequency Tuning)

    Opatentowane rozwiązanie Auto Frequency Tuning umożliwia symultaniczną i szybką regulację częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowywania. Dzięki tej opatentowanej technice lokalne minimum nie stanowi już przeszkody: system RF pracuje optymalnie i umożliwia uzyskanie najlepszych wyników procesu i dużą powtarzalność.

    System detekcji łuków

    Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjna detekcja łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.

    Elastyczne kształtowanie impulsów

    Elastyczne kształtowanie impulsu: kształt sygnału wyjściowego może być dostosowany do szczególnych wymagań procesowych.

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie TruControl Power

    TruControl Power

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie sterujące TruControl Power pozwala na wygodne uruchomienie i stabilne monitorowanie pracy zasilacza HF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.

    Wybierając odpowiednie komponenty systemu można optymalnie dostosować zasilacz VHF do potrzeb danej aplikacji.

    Rozwiązanie systemowe RF: układ dopasowujący dla zapewnienia najwyższej stabilności procesu
    Układ dopasowujący

    Sieci dopasowywania TruPlasma Match zapewniają optymalne przenoszenie mocy z zasilacza do wyładowania plazmowego. Sieć dopasowywania może pracować bezpośrednio lub poprzez inteligentne połączenie zasilacza z siecią dopasowywania nazywane SystemPort.

    Zestaw akcesoriów TruPlasma VHF Seria
    Zestaw akcesoriów

    Składa się z adaptera do podłączenia wody, wtyczki do zasilania typu HARTING AC, adaptera z funkcją Interlock, konwertera LEMO EPL na żeński BNC (dla złącza Clock and Pulse sync).

    Oscylator matrycowy do ustabilizowania krytycznych synchronicznych procesów plazmowych
    Oscylatory matrycowe

    Oscylatory matrycowe pozwalają ustabilizować i zoptymalizować krytyczne synchroniczne procesy plazmowe. Zintegrowany cyfrowy syntezator częstotliwości i fazy zapewnia wysoką częstotliwość i stabilność fazową i umożliwia regulację położenia faz o bardzo małej wielkości kroku. Istnieją różne wersje oscylatorów wzorcowych do wyboru dla częstotliwości 13,56 MHz oraz różne kombinacje częstotliwości.

    Zasilacz VHF Seria 3000
    Przełącznik HF

    Przełącznik HF pozwala na wielokrotne użycie generatora HF na różnych stacjach obróbki plazmowej, na przykład do zasilania prądowego procesów sekwencyjnych lub systemów o różnych punktach zasilania. Dostępne są różne przełączniki HF w dwóch poziomach mocy oraz z 2, 3 lub 4 wyjściami.

    Przewód koncentryczny do transmisji określonej mocy
    Kabel koncentryczny

    Do przesyłu energii HF TRUMPF oferuje kabel koncentryczny Hüttinger specjalnie zaprojektowany do eksploatacji w systemach 50-omowych.

    Zasilacz i sieć dopasowywania: idealnie dobrane rozwiązanie systemowe

    Idealne dopasowanie: system TRUMPF RF

    Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.

    W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Skontaktuj się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Twoim kraju.

    Przypisy
    • Temperatura wody chłodzącej musi być wyższa niż temperatura punktu rosy w pomieszczeniu, aby zapobiec kondensacji.

    Także te tematy mogą Państwa zainteresować

    Ideal geeignet für Großflächenbeschichtung
    Zasilanie prądowe do procesu plazmowego

    Zasilacze plazmowe firmy TRUMPF Hüttinger dysponują szerokim zakresem mocy i częstotliwości. Zapoznaj się w tym miejscu z informacjami o naszych produktach.

    RF-Systemlösung : Matchbox für höchste Prozessstabilität
    Inteligentne dopasowywanie dzięki pomiarom w czasie rzeczywistym

    Nowe sieci dopasowywania TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13) optymalnie uzupełniają nasze zasilacze RF i otwierają drogę do kompleksowego rozwiązania: systemu RF firmy TRUMPF.

    Services_Electronics_Training
    Naszym atutem są indywidualne szkolenia klientów

    Doświadczeni technicy serwisowi zapewniają gruntowną wiedzę, a przekazywane treści są dostosowane do potrzeb uczestników.

    Kontakt

    TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
    Faks: +48 22 761 38 01
    E-mail

    Pliki do pobrania

    Broszura dotycząca TruPlasma RF System
    Broszura dotycząca TruPlasma RF System
    pdf - 6 MB
    Ulotka informacyjna dotycząca TruPlasma VHF Seria 3000
    pdf - 1 MB
    Whitepaper LDMOS
    pdf - 3 MB
    Whitepaper Precision in Processing
    pdf - 2 MB
    Serwis i kontakt