Zasilacze wysokiej częstotliwości nowej generacji
Przy powlekaniu lub kształtowaniu powierzchni konieczne jest stabilne i powtarzalne źródło zasilania plazmy. W tym celu zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF Serii 1000/3000 (G2/13) wyposażone w nowoczesne zasilanie elektroniczne oferują najlepsze warunki pracy, tj. dzięki stabilnej mocy wyjściowej oraz wysokiej dokładności regulacji zapewniają najlepsze wyniki i jednocześnie wysoką produktywność.
Technologia CombineLine: optymalna wydajność procesu dzięki impedancji wyjściowej 50 omów
Brak konieczności dopasowywania długości kabla - absolutna nowość w przypadku wysokich częstotliwości!
Technologia CombineLine: niezawodna ochrona przed mocą odbitą w przypadku niedopasowania
Sprawność do 80% pozwala na redukcję kosztów energii nawet o 50%.
Bez ogrzewania lub zanieczyszczenia otaczającego powietrza, możliwość eksploatacji w czystym pomieszczeniu
Idealne do powlekania płaskich ekranów
Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma Serii RF 1000 / 3000 (G2/13) doskonale sprawdzają się w procesach plazmowych, takich jak RIE, ALD, PECVD i rozpylania RF. Procesy te są stosowane między innymi w produkcji urządzeń półprzewodnikowych i układów mikromechanicznych (MEMS), jak również do pokrywania płaskich ekranów i paneli słonecznych.
Typowe zastosowanie: przemysł fotowoltaiczny
Typowe zastosowania TruPlasma RF Serii 1000 / 3000 (G2/13) to wymagające procesy PECVD, wytrawiania i rozpylania dla przemysłu fotowoltaicznego.
Produkcja półprzewodników
W produkcji półprzewodników stosuje się różne procesy plazmowe, począwszy od procesów ablacji, przez suche wytrawianie, aż po ciągnienie strefowe przy wytwarzaniu czystego krzemu. Zasilacze TruPlasma RF Serii 1000 / 3000 (G2/13) dzięki stabilnemu zasilaniu prądowemu optymalnie dostosowanemu do danego procesu zapewniają uzyskanie doskonałych, powtarzalnych wyników.
TruPlasma RF 1000-2/13
|
TruPlasma RF 1000-3/13
| |
|---|---|---|
| Wyjście RF | ||
| moc wyjściowa | 2 kW | 3 kW |
| Moc znamionowa | 2 kW | 3 kW |
| Nominalna impedancja obciążenia | 50 Ω | 50 Ω |
| Częstotliwość wyjściowa | 13,56 MHz | 13,56 MHz |
| Dane przyłącza sieciowego | ||
| Napięcie sieciowe | 200 - 480 V | 200 - 480 V |
| Częstotliwość sieciowa | 50-60 Hz | 50-60 Hz |
| Moc sieciowa | 3,1 kVA | 4,3 kVA |
| Współczynnik mocy | 0,95 | 0,95 |
| Złącza komunikacyjne | ||
| Złacza Sync | Tak | Tak |
| Analogowe/cyfrowe | Tak | Tak |
| RS 232 / RS 485 | Tak | Tak |
| PROFIBUS | Tak | Tak |
| EtherCAT | Tak | Tak |
| DeviceNet | Tak | Tak |
| Obudowa | ||
| Masa | 18 kg | 18 kg |
| Stopień ochrony IP | 30 | 30 |
| Wymagania dot. chłodzenia | ||
| Maks. ciśnienie wody | 7 bar | 7 bar |
| Min. różnica ciśnień | 1,1 bar | 1,1 bar |
| Min. natężenie przepływu | 4 l/min | 4 l/min |
| Temperatura medium chłodzącego | 5 °C - 35 °C 1 | 5 °C - 35 °C 1 |
| Informacje ogólne | ||
| Sprawność łączna | 80 % | 80 % |
| Certyfikaty/standardy | Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs | Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs |
| Warunki otoczenia | ||
| Temperatura zewnętrzna | 5 °C - 40 °C | 5 °C - 40 °C |
| Wilgotność powietrza | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
| Ciśnienie barometryczne | 79,5 kPa - 106 kPa | 79,5 kPa - 106 kPa |
Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.
Optymalne dopasowanie do procesu
Inteligentne dopasowanie w czasie rzeczywistym TruPlasma RF serii 1000/3000 (G2/13) zapewnia szybkie i bezpośrednie dopasowanie impedancji do 50 omów. Opatentowana technologia CombineLine pozwala skutecznie zapobiegać wahaniom i zanieczyszczeniom plazmy. Koncepcja chłodzenia pasywnego zmniejsza awaryjność, zwiększa wydajność i pozwala na użycie w czystym pomieszczeniu.
Maksymalna wydajność i elastyczność
Dzięki maksymalnej sprawności do 80% można obniżyć koszty energii w porównaniu do tradycyjnych generatorów nawet o 50%. Liczne dostępne interfejsy (konfigurowalny interfejs analogowy, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) ułatwiają integrację z istniejącymi systemami. Bardzo szeroki zakres napięcia sieciowego (200-480 VAC) pozwala na zastosowanie na całym świecie bez przeprowadzania zmian. Kompaktowa konstrukcja (wsuwany panel 19 cali lub ½ 19 cali) i wysoka gęstość mocy umożliwiają ergonomiczną integrację w dowolnym zakładzie produkcyjnym.
TRUMPF SystemPort
SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania. Zasilacz RF ma dostęp do wszystkich zmierzonych wartości. Dzięki temu można lepiej monitorować parametry procesu, chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku. Kompletnym systemem RF można sterować poprzez jeden interfejs zasilacza.
Różne opcje pozwalają na dostosowanie zasilaczy RF do danego zastosowania.
Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjna detekcja łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.
Opatentowane rozwiązanie Auto Frequency Tuning umożliwia symultaniczną i szybką regulację częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowywania. Dzięki tej opatentowanej technice lokalne minimum nie stanowi już przeszkody: system RF pracuje optymalnie i umożliwia uzyskanie najlepszych wyników procesu i dużą powtarzalność.
Wszystkie komponenty systemu TRUMPF RF są optymalnie dopasowane.
Sieci dopasowywania TruPlasma Match zapewniają optymalne przenoszenie mocy z zasilacza do wyładowania plazmowego. Sieć dopasowywania może pracować bezpośrednio lub poprzez inteligentne połączenie zasilacza z siecią dopasowywania nazywane SystemPort.
Oscylatory matrycowe pozwalają ustabilizować i zoptymalizować krytyczne synchroniczne procesy plazmowe. Zintegrowany cyfrowy syntezator częstotliwości i fazy zapewnia wysoką częstotliwość i stabilność fazową i umożliwia regulację położenia faz o bardzo małej wielkości kroku. Istnieją różne wersje oscylatorów wzorcowych do wyboru dla częstotliwości 13,56 MHz oraz różne kombinacje częstotliwości.
Przełącznik HF pozwala na wielokrotne użycie generatora HF na różnych stacjach obróbki plazmowej, na przykład do zasilania prądowego procesów sekwencyjnych lub systemów o różnych punktach zasilania. Dostępne są różne przełączniki HF w dwóch poziomach mocy oraz z 2, 3 lub 4 wyjściami.
Do przesyłu energii RF TRUMPF Hüttinger oferuje kabel koncentryczny specjalnie zaprojektowany do eksploatacji w systemach 50-omowych.
Idealne dopasowanie: system TRUMPF RF
Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.
Przypisy- Temperatura wody chłodzącej musi być wyższa niż temperatura punktu rosy w pomieszczeniu, aby zapobiec kondensacji.
