Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookies. Jeśli osoba odwiedzająca stronę korzysta z niej nadal bez dokonywania zmian w ustawieniach w plikach cookies, zakładamy, że wyraża ona zgodę na stosowanie tych plików.
TruPlasma DC 4040 (G2)
TruPlasma DC 4040 (G2)
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma DC Seria 4000 (G2)

Procesy impulsowe dla perfekcyjnych powierzchni

    - / -
    • Przegląd
    • Zastosowania
    • Dane techniczne
    • Korzyści dla klienta
    • Opcje
    • Oprogramowanie
    • Więcej Mniej
    Kompleksowa obsługa złożonych procesów

    TruPlasma DC serii 4000 (G2) została zaprojektowana specjalnie dla reaktywnego rozpylania DC trudnych materiałów. Zasilacze impulsowego prądu stałego sprawdziły się szczególnie w krytycznych procesach PVD i PECVD, w których wymagane są zarówno wysoka jakość powłoki, jak i produktywność. Kompaktowe zasilacze TruPlasma DC Serii 4000 (G2) mogą być stosowane zarówno w trybie impulsowym do zasilania magnetronu jak i bias do polaryzacji podłoża - można powiedzieć, że są to dwa urządzenia w jednej obudowie!

    Wysoka jakość powłoki i produktywność

    Cyfrowa obróbka sygnału zapewnia stabilność procesu i minimalne opóźnienia wynikające z obsługi detekcji łuku.

    Najlepsze wyniki także w krytycznych procesach

    Szybka detekcja łuku w połączeniu z technologią impulsową DC minimalizuje uszkodzenia podłoża.

    Prosta regulacja procesu

    Dzięki szerokiemu spektrum częstotliwości pracy i konfigurowalnemu napięciu rewersu

    Kompaktowa i wytrzymała konstrukcja

    Zintegrowane chłodzenie wodne oszczędza miejsce i ogranicza koszty konserwacji.

    Powłoki utwardzane

    Powłoki utwardzane

    Dzięki zastosowaniu funkcjonalnych powłok bardzo obciążone narzędzia do obróbki zyskują większą twardość powierzchni oraz lepszą stabilność termiczną i chemiczną. Zasilacze impulsowe TruPlasma DC Serii 4000 (G2) dbają o stabilność procesu plazmowego, a tym samym zapewniają optymalną jakość powłoki.

    Nadają się idealnie do nakładania najcieńszych powłok metalowych

    Metalizacja

    W procesach PVD można nanosić ultracienkie warstwy materiału na różne elementy w celu nadania im wymaganych właściwości optycznych i elektrycznych. Zasilanie prądowe optymalnie dostosowane do parametrów procesu umożliwia osadzanie całkowicie jednorodnych, pozbawionych uszkodzeń warstw.

    Produkcja ogniw fotowoltaicznych

    Produkcja ogniw fotowoltaicznych

    W celu modyfikacji właściwości elektrycznych ogniw fotowoltaicznych, podobnie jak ekrany płaskie oraz ekrany dotykowe, powleka się je materiałami przewodzącymi prąd elektryczny. Ze względu na bardzo niską energię resztkową łuku zasilacze TruPlasma DC Serii 4000 (G2) nadają się do tego najlepiej.

    Szkło architektoniczne

    Szkło architektoniczne

    Powlekanie dużych powierzchni szkła architektonicznego w procesie plazmowym PVD stawia wysokie wymagania dla mocy procesowej. Zasilacze pulsowe TruPlasma DC Serii 4000 (G2) zapewniają idealne warunki spełniające rygorystyczne wymagania dla nanoszonych warstw.

    TruPlasma DC 4010 (G2)
    TruPlasma DC 4020 (G2)
    TruPlasma DC 4040 (G2)
    Wyjście      
    Moc znamionowa 10 kW 20 kW 40 kW
    Maks. prąd wyjściowy 33 A eff 67 A eff 133 A eff
    Maks. napięcie wyjściowe 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff
    Znamionowa częstotliwość robocza 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz
    Parametry łuku      
    Maks. charakterystyka łuku 20000 1/s 20000 1/s 20000 1/s
    Energia arc <0,3 mJ/kW <0,3 mJ/kW <0,3 mJ/kW
    Czas obróbki łukiem <0,1 µs <0,1 µs <0,1 µs
    Napięcia w układzie wzbudzania      
    ze wspomaganiem zapłonu 1750 V 1750 V 1750 V
    bez wspomagania zapłonu 1250 V 1250 V 1250 V
    Dane przyłącza sieciowego      
    Napięcie sieciowe 3x 360 V - 528 V 3x 360 V - 528 V 3x 360 V - 528 V
    Częstotliwość sieciowa 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz
    Złącza komunikacyjne      
    Analogowe/cyfrowe Tak Tak Tak
    RS 232 / RS 485 Tak Tak Tak
    PROFIBUS Tak Tak Tak
    EtherCAT Nie Nie Nie
    DeviceNet Tak Tak Tak
    Obudowa      
    Masa 65 kg 75 kg 150 kg
    Stopień ochrony IP 40 40 40
    Wymagania dot. chłodzenia      
    Medium chłodzące Woda Woda Woda
    Maks. ciśnienie wody 7 bar 7 bar 7 bar
    Min. różnica ciśnień 3 bar 3 bar 3 bar
    Min. natężenie przepływu 8 l/min 8 l/min 16 l/min
    Temperatura medium chłodzącego 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C
    Parametry przyłączowe DC      
    Liczba terminali 3 3 3
    Prąd znamionowy/terminal 25 A 45 A 85 A
    Informacje ogólne      
    Sprawność łączna 90 % 90 % 90 %
    Certyfikaty/standardy CE CE CE
    Warunki otoczenia      
    Temperatura zewnętrzna 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C
    Wilgotność powietrza 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    Ciśnienie barometryczne 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    Karta danych technicznych

    Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.

    System detekcji łuków

    Wysoka jakość powłoki i produktywność

    Połączenie szybkiej detekcji łuków i technologii pulsowej DC powoduje obniżenie prawdopodobieństwa powstawania makrocząsteczek i wywołanych ich obecnością uszkodzeń podłoża. Przerwy procesowe związane z obsługą łuków są zminimalizowane, szybkość osadzania jest znacząco zwiększona.

    Zaawansowane narzędzia monitoringu do obsługi procesów

    Elastyczne dopasowanie do procesu

    Częstotliwość pulsowania może być regulowana w szerokim zakresie. Ponadto dostępny jest tryb pracy do polaryzacji podłoża (Bias) zasilacza DC. Dzięki temu można wykorzystywać to samo urządzenie dla różnych zastosowań. Zaawansowane narzędzia do monitorowania wspierają użytkownika w optymalizacji procesu.

    Różnorodność opcji konfiguracji pozwala na dostosowanie zasilaczy pulsowych DC do wielu procesów plazmowych.

    Równoległa praca i synchronizacja

    Wiele zasilaczy TruPlasma DC Serii 4000 (G2) może pracować synchronicznie. Tryb ten pozwala na synchronizację detekcji łuków w wielu zasilaczach, także w przypadku ich pracy na różnych materiałach katody. Synchronizacja jest również dostępna w trybie pracy pulsowej.

    Łatwe w obsłudze oprogramowanie PVD Power

    PVDPower

    Przyjazne dla użytkownika, wielojęzyczne oprogramowanie PVDPower oferuje różne możliwości obsługi, konfiguracji i diagnostyki w celu optymalizacji jakości procesu i skutecznego rozwiązywania problemów; wyświetlanie rzeczywistych wartości wszystkich istotnych parametrów procesu, jak również ostrzeżeń i alarmów, ustawienie żądanej wartości przez operatora.

    W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Skontaktuj się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Twoim kraju.

    Także te tematy mogą Państwa zainteresować

    Services_Electronics_Technical_Support_Serviceman
    Jesteśmy dla Ciebie przez całą dobę

    Nasz całodobowa infolinia serwisowa umożliwia kontakt z kompetentnym technikiem serwisowym przez całą dobę, siedem dni w tygodniu.

    Gepulster Generator der TruPlasma DC Serie 4000
    Procesy impulsowe dla doskonałej jakości powierzchni

    Dzięki doskonałemu systemowi detekcji łuków zasilacze TruPlasma DC Seria 4000 osiągają najlepsze rezultaty. Przy tym minimalizowane są uszkodzenia podłoża powodowane przez występowanie łuków.

    Services_Electronics_Training
    Naszym atutem są indywidualne szkolenia klientów

    Doświadczeni technicy serwisowi zapewniają gruntowną wiedzę, a przekazywane treści są dostosowane do potrzeb uczestników.

    Kontakt

    TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
    Faks: +48 22 761 38 01
    E-mail

    Pliki do pobrania

    Ulotka informacyjna dotycząca TruPlasma DC Seria 4000 (G2)
    Ulotka informacyjna dotycząca TruPlasma DC Seria 4000 (G2)
    pdf - 258 KB
    Serwis i kontakt