Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookie w celu zapewnienia jej funkcjonalności. Jeżeli chcą Państwo zezwolić na używanie przez nas plików cookie również do innych celów, należy kliknąć tutaj. Informacje dotyczące wyłączenia plików cookie i ochrony danych osobowych
TruPlasma DC 4040 (G2)
TruPlasma DC 4040 (G2)
Wzbudzanie plazmy
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma DC Seria 4000 (G2)

Procesy impulsowe dla perfekcyjnych powierzchni

Kompleksowa obsługa złożonych procesów

TruPlasma DC serii 4000 (G2) została zaprojektowana specjalnie dla reaktywnego rozpylania DC trudnych materiałów. Zasilacze impulsowego prądu stałego sprawdziły się szczególnie w krytycznych procesach PVD i PECVD, w których wymagane są zarówno wysoka jakość powłoki, jak i produktywność. Kompaktowe zasilacze TruPlasma DC Serii 4000 (G2) mogą być stosowane zarówno w trybie impulsowym do zasilania magnetronu jak i bias do polaryzacji podłoża - można powiedzieć, że są to dwa urządzenia w jednej obudowie!

Wysoka jakość powłoki i produktywność

Cyfrowa obróbka sygnału zapewnia stabilność procesu i minimalne opóźnienia wynikające z obsługi detekcji łuku.

Najlepsze wyniki także w krytycznych procesach

Szybka detekcja łuku w połączeniu z technologią impulsową DC minimalizuje uszkodzenia podłoża.

Prosta regulacja procesu

Dzięki szerokiemu spektrum częstotliwości pracy i konfigurowalnemu napięciu rewersu

Kompaktowa i wytrzymała konstrukcja

Zintegrowane chłodzenie wodne oszczędza miejsce i ogranicza koszty konserwacji.

Powłoki utwardzane

Powłoki utwardzane

Dzięki zastosowaniu funkcjonalnych powłok bardzo obciążone narzędzia do obróbki zyskują większą twardość powierzchni oraz lepszą stabilność termiczną i chemiczną. Zasilacze impulsowe TruPlasma DC Serii 4000 (G2) dbają o stabilność procesu plazmowego, a tym samym zapewniają optymalną jakość powłoki.

Nadają się idealnie do nakładania najcieńszych powłok metalowych

Metalizacja

W procesach PVD można nanosić ultracienkie warstwy materiału na różne elementy w celu nadania im wymaganych właściwości optycznych i elektrycznych. Zasilanie prądowe optymalnie dostosowane do parametrów procesu umożliwia osadzanie całkowicie jednorodnych, pozbawionych uszkodzeń warstw.

Produkcja ogniw fotowoltaicznych

Produkcja ogniw fotowoltaicznych

W celu modyfikacji właściwości elektrycznych ogniw fotowoltaicznych, podobnie jak ekrany płaskie oraz ekrany dotykowe, powleka się je materiałami przewodzącymi prąd elektryczny. Ze względu na bardzo niską energię resztkową łuku zasilacze TruPlasma DC Serii 4000 (G2) nadają się do tego najlepiej.

Szkło architektoniczne

Szkło architektoniczne

Powlekanie dużych powierzchni szkła architektonicznego w procesie plazmowym PVD stawia wysokie wymagania dla mocy procesowej. Zasilacze pulsowe TruPlasma DC Serii 4000 (G2) zapewniają idealne warunki spełniające rygorystyczne wymagania dla nanoszonych warstw.

-/-
TruPlasma DC 4010 (G2)
TruPlasma DC 4020 (G2)
TruPlasma DC 4040 (G2)
Wyjście    
Moc znamionowa 10 kW 20 kW 40 kW
Maks. prąd wyjściowy 33 A eff 67 A eff 133 A eff
Maks. napięcie wyjściowe 1200 V eff 1200 V eff 1200 V eff
Znamionowa częstotliwość robocza 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz 0 kHz - 100 kHz
Parametry łuku    
Maks. charakterystyka łuku 20000 1/s 20000 1/s 20000 1/s
Energia arc <0,3 mJ/kW <0,3 mJ/kW <0,3 mJ/kW
Czas obróbki łukiem <0,1 µs <0,1 µs <0,1 µs
Napięcia w układzie wzbudzania    
ze wspomaganiem zapłonu 1750 V 1750 V 1750 V
bez wspomagania zapłonu 1250 V 1250 V 1250 V
Dane przyłącza sieciowego    
Napięcie sieciowe 3x 360 V - 528 V 3x 360 V - 528 V 3x 360 V - 528 V
Częstotliwość sieciowa 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz 50 Hz - 60 Hz
Złącza komunikacyjne    
Analogowe/cyfrowe Tak Tak Tak
RS 232 / RS 485 Tak Tak Tak
PROFIBUS Tak Tak Tak
EtherCAT Nie Nie Nie
DeviceNet Tak Tak Tak
Obudowa    
Masa 65 kg 75 kg 150 kg
Stopień ochrony IP 40 40 40
Wymagania dot. chłodzenia    
Medium chłodzące Woda Woda Woda
Maks. ciśnienie wody 7 bar 7 bar 7 bar
Min. różnica ciśnień 3 bar 3 bar 3 bar
Min. natężenie przepływu 8 l/min 8 l/min 16 l/min
Temperatura medium chłodzącego 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C 20 °C - 35 °C
Parametry przyłączowe DC    
Liczba terminali 3 3 3
Prąd znamionowy/terminal 25 A 45 A 85 A
Informacje ogólne    
Sprawność łączna 90 % 90 % 90 %
Certyfikaty/standardy CE CE CE
Warunki otoczenia    
Temperatura zewnętrzna 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C 5 °C - 45 °C
Wilgotność powietrza 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
Ciśnienie barometryczne 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa 86 kPa - 106 kPa
System detekcji łuków

Wysoka jakość powłoki i produktywność

Połączenie szybkiej detekcji łuków i technologii pulsowej DC powoduje obniżenie prawdopodobieństwa powstawania makrocząsteczek i wywołanych ich obecnością uszkodzeń podłoża. Przerwy procesowe związane z obsługą łuków są zminimalizowane, szybkość osadzania jest znacząco zwiększona.

Zaawansowane narzędzia monitoringu do obsługi procesów

Elastyczne dopasowanie do procesu

Częstotliwość pulsowania może być regulowana w szerokim zakresie. Ponadto dostępny jest tryb pracy do polaryzacji podłoża (Bias) zasilacza DC. Dzięki temu można wykorzystywać to samo urządzenie dla różnych zastosowań. Zaawansowane narzędzia do monitorowania wspierają użytkownika w optymalizacji procesu.

Różnorodność opcji konfiguracji pozwala na dostosowanie zasilaczy pulsowych DC do wielu procesów plazmowych.

Równoległa praca i synchronizacja

Wiele zasilaczy TruPlasma DC Serii 4000 (G2) może pracować synchronicznie. Tryb ten pozwala na synchronizację detekcji łuków w wielu zasilaczach, także w przypadku ich pracy na różnych materiałach katody. Synchronizacja jest również dostępna w trybie pracy pulsowej.

Łatwe w obsłudze oprogramowanie PVD Power

PVDPower

Przyjazne dla użytkownika, wielojęzyczne oprogramowanie PVDPower oferuje różne możliwości obsługi, konfiguracji i diagnostyki w celu optymalizacji jakości procesu i skutecznego rozwiązywania problemów; wyświetlanie rzeczywistych wartości wszystkich istotnych parametrów procesu, jak również ostrzeżeń i alarmów, ustawienie żądanej wartości przez operatora.

W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Kontakt
TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
Faks +48 22 761 38 01
E-mail
Pliki do pobrania
Serwis i kontakt

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Poland. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Poland
United States

Or, select a country or a region.