You have selected România. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Plasmă cuplată inductiv | TRUMPF

Plasmă cuplată inductiv

Analize clare prin intermediul celor mai înalte temperaturi

Plasmă cuplată inductiv (ICP) cu bobină

Cu plasmele cuplate inductiv (ICP), la presiune atmosferică, se pot atinge temperaturi de până la 10 000 °C. Pentru aceasta, gazul plasmogen trebuie să se afle în a patra stare de agregare. Pentru& început, este necesară o sursă de aprindere – termică sau de înaltă tensiune&. Aceasta generează primii purtători de sarcină liberi, care sunt apoi accelerați în câmpul magnetic al inductorului la o tensiune ridicată, rezultând o ionizare în avalanșă a gazului plasmogen. În acest mod se produce plasmă conductivă electric, care poate fi supusă unei încălziri inductive ulterioare.

Gazele plasmogene uzuale sunt argonul, azotul, hidrogenul și oxigenul, precum și compușii obținuți prin amestecarea acestora. Aplicațiile importante includ sferoidizarea particulelor de metal, activarea suprafețelor din sticlă, curățarea (purificarea) topiturilor de siliciu, obținerea îmbinărilor metal-ceramică și spectroscopia. Pentru aceste aplicații, generatoarele cu tehnologia țevilor de la TRUMPF Hüttinger furnizează putere fiabilă de până la 120 kW la frecvențe între 2& și 3 MHz.