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TRUMPF Laser Amplifier для производства высокопроизводительных микросхем
TRUMPF Laser Amplifier для производства высокопроизводительных микросхем
Углекислотные лазеры

TRUMPF Laser Amplifier

Liefert mit dem Laserpuls die Grundlage für die Fertigung künftiger Mikrochips.

EUV-Lithogafie als Enabler für das digitale Zeitalter

Die EUV-Lithografie gewinnt das Rennen um die Herstellungsmethode künftiger Mikrochips. Viele Jahre hat die Halbleiterindustrie nach einem kosteneffizienten und massenfähigen Verfahren gesucht, mit dem noch kleinere Strukturen auf Silizium-Wafern belichtet werden können. Partnerschaftlich haben ASML, Zeiss und TRUMPF eine Technologie entwickelt, extrem ultraviolettes (EUV-) Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern für den industriellen Gebrauch zu gewinnen: In einer Vakuumkammer schießt ein Tröpfchengenerator 50.000 kleinste Zinntropfen pro Sekunde. Jeder dieser Tropfen wird durch einen der 50.000 Laserpulse getroffen und verwandelt diesen in Plasma. Dadurch entsteht EUV-Licht, das per Spiegel auf die zu belichtenden Wafer gelenkt wird. Den Laserpuls für die Plasmaabstrahlung liefert ein von TRUMPF entwickeltes, pulsfähiges CO2-Lasersystem - der TRUMPF Laser Amplifier.

Von wenigen Watt auf 40 Kilowatt

Der TRUMPF Laser Amplifier verstärkt einen Laserpuls sequentiell um mehr als das 10.000-fache.

Effizient und prozesssicher

Durch Aussendung eines Vor- und eines Hauptpuls kann die vollständige Leistung des Laser Amplifiers auf den Zinntropfen übertragen werden.

Neue Anwendung für CO2-Laser

Basis des Hochleistungslasersystems ist ein CO2-Laser im cw-Betrieb. Damit schafft TRUMPF eine neue Anwendung für die Technologie.

Großes Netzwerk aus Spezialisten

In jahrelanger, enger Zusammenarbeit haben TRUMPF, ASML und ZEISS die EUV-Technologie zur Industriereife gebracht.

457.329

Teile

… enthält ein Laser Amplifier.

7 322

Meter

... Kabel sind im System verbaut.

17 090

Kilo

... beträgt das Gesamtgewicht.

Zentrale Komponenten des TRUMPF Laser Amplifiers

Актуальные вакансии

1

Systemingenieur (w/m/d) CO2-Lasersysteme EUV

Исследования/разработки | Дитцинген / Германия

2

System Engineer (f/m/d) for CO2 laser systems EUV

Исследования/разработки | Дитцинген / Германия

3

Leiter (w/m/d) Elektrokonstruktion EUV

Исследования/разработки | Дитцинген / Германия

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