为确保网站功能性,我们需使用 Cookies。如您继续使用本网站,同时未更改 Cookie 设置,则我们将默认您同意使用 Cookie。
TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006 高频电源
TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006 高频电源
等离子体激发
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF 3000 系列

毫不妥协的高频技术

    - / -
    • 概览
    • 应用
    • 技术数据
    • 用户收益
    • 选项
    • 软件
    • 系统组件
    • RF 系统
    • 更多 更少
    极佳工艺结果的保障

    此类高频电源防患于未然:TruPlasma RF 3000 系列因坚固结构与卓越效率而出众。因此,其最佳适用于稳定且可再现的等离子体工艺,例如应用于纯平显示屏、太阳能电池或半导体制造。这些电源安装在全球数以千计的应用中,以确保卓越的生产效率和出色的工艺结果。

    效率与成本效益

    高达 80 % 的能量转换率能够缩减最多 50 % 的能源成本。

    出色的 RF 电弧管理

    即便是高要求的新型工艺流程,也能可靠控制。

    高可靠性与工艺稳定性

    CombineLine 技术:失调情况下可靠避免反射功率影响。

    最大灵活性

    采用连续式或脉冲式功率输出,从而实现多样化应用。

    理想适用于刻蚀与镀膜工艺

    刻蚀与镀膜工艺

    TruPlasma RF 3000 系列的高频发生器尤其适合刻蚀与镀膜工艺,如等离子体刻蚀、反应离子刻蚀、ALD 及 PECVD。

    理想适用于金属工件镀膜

    金属工件镀膜

    借助等离子体进程,既可将材料施加到表面上也可将其去除,例如利用等离子体刻蚀或光刻胶等离子体灰化法为金属工件涂覆耐磨层或者电子元件结构化。

    纯平显示屏镀膜的顶级供电系统

    纯平显示屏与太阳能电池镀膜

    TruPlasma RF 3000 系列高频电源理想适用于如 RIE(反应离子刻蚀)、ALD(原子层沉积)、PECVD(等离子体增强化学气相沉积)和射频溅镀法等等离子体工艺流程。这些工艺主要应用于纯平显示屏与太阳能电池镀膜。

    高频输出端          
    输出功率 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
    标称功率 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
    额定负载阻抗 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω
    输出频率 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz
    标称连接数据          
    电源供应器电压 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V
    电源频率 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz 50/60 Hz 50/60 Hz
    电源消耗功率 16.6 kVA 28.1 kVA 33.3 kVA 80 kVA 100 kVA
    功率系数 0.93 0.93 0.93 - -
    通信接口          
    同步接口
    模拟/数字
    RS 232 / RS 485
    PROFIBUS
    Ethercat
    DeviceNet
    外壳          
    重量 57 kg 117 kg 117 kg 1000 kg 1200 kg
    防护等级 IP 20 20 20 54 54
    冷却要求          
    最高水压 7 bar 7 bar 7 bar 6 bar 6 bar
    最小压差 2 bar 2 bar 2 bar 2.5 bar 2.5 bar
    最小流量 10 l/min 20 l/min 20 l/min 46 l/min 56 l/min
    冷却介质温度 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1
    通用          
    总效率 78 % 75 % 75 % - -
    认证书/标准 SEMI F47,CE, RoHs SEMI F47,CE, RoHs SEMI F47,CE, RoHs CE, SEMI F47 CE, SEMI F47
    周围条件          
    外部温度 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
    空气湿度 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    气压计压力 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    技术数据页

    所有产品款型的技术数据以供下载。

    集成 CombineLine 技术

    极高效率与工艺稳定性

    通过出色的效率使功率损耗减半并降低冷却水成本——从而让您的运行成本最小化。即使工艺条件严苛,十分坚固的电源结构仍允许较长的运行时间,由此提高沉积速率。通过真正具有 50 Ω 输出阻抗的 CombineLine 技术有效防止等离子体波动——从而实现绝对稳定的工艺。

    TruPlasma RF 3012 高频电源

    任何情况绝对可靠

    坚固结构确保最高流程可靠性和生产效率。100 % 失调保护确保在极端负载下仍然稳妥运行。可选的连续式或脉冲式功率输出支持广泛的工艺要求。在全球范围内已安装 20,000 多个单元——超过任何其他等离子体电源。

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort 通过直接测量阻抗匹配器输入端和输出端上的 RF 信号,形成闭环控制回路。RF 发生器可使用所有测量值。由此实现更好的工艺流程参数监测,保护阻抗匹配器并确保及早识别电弧。可通过单一的发生器接口控制整个 RF 系统。

    各种选项可以实现高频电源根据应用进行最佳适配。

    电弧管理

    精湛的电弧管理是适用于最佳等离子体工艺流程控制的理想模块。有针对性的电弧识别确保最高生产效率,同时保护产品与设备。

    易于操作的 TruControl Power 软件

    TruControl Power

    易于操作的控制软件 TruControl Power 实现在工艺运行中便捷调试和可靠监控高频发生器或整个 TRUMPF RF 系统。

    TRUMPF RF 系统的所有组件相互最佳协调。

    射频系统解决方案:实现极高工艺稳定性的阻抗匹配器
    TruPlasma Match 1000 系列 (G2/13)

    TruPlasma Match 阻抗匹配网络确保从电源至等离子体放电装置的最佳功率传输。阻抗匹配器可独立运行或经由电源与阻抗匹配器的智能连接(即所谓的 SystemPort)实现运行。

    用于稳定严苛的同步等离子体工艺流程的主振荡器
    主振荡器

    凭借主振荡器可稳定和优化关键的同步等离子体过程。集成式数字频率与相位合成器确保高频率与相位稳定性,可以实现按照极小的步幅调整相位。可选择用于 13.56 MHz 频率以及各种频率组合的不同规格主振荡器。

    用于灵活等离子体系统上使用高频电源的高频转换器
    高频转换器

    高频转换器允许在不同等离子体进程工站多次使用高频电源,例如用于给连续过程或具有不同馈电点的系统供电。提供两种功率级别以及具有 2、3 或 4 个输出端的不同高频转换器。

    用于传输指定功率的同轴电缆
    同轴电缆

    为实现高频功率传输,TRUMPF Hüttinger 提供专门设计用于在 50 欧姆系统下工作的同轴电缆。

    电源与阻抗匹配器:相互完美协调的系统解决方案

    完美相互协调:电源与阻抗匹配器

    等离子体工艺就像一个复杂可变的负载,必须通过电源为其不断供电。这项工作由有源匹配网络(所谓的阻抗匹配器)来完成,确保随时精确匹配 50 Ω 的最佳阻抗。由此形成相互完美协调的系统解决方案——TRUMPF RF 系统。通过不同接口(如 EtherCAT)可十分轻松地将发生器和阻抗匹配器集成至现有工艺环境之中,并通过发生器与阻抗匹配器的智能连接(即所谓的 SystemPort)形成经优化的系统解决方案。

    受国别影响,此产品分类与此说明 可能有所不同。保留技术、装备、价格与配件范围方面的更改权利。 请与您当地的联系人取得联系,以便了解您所在国家 是否可提供该产品。

    脚注
    • 冷却水温度必须超过室温的露点,以避免产生冷凝。

    您可能也对以下主题感兴趣

    Services_Electronics_TQZ_TRUMPF_Tower
    测试与认证中心

    在我们的测试与认证中心 (TQZ),经验丰富的应用工程师每天都致力于不断优化产品质量。

    TruPlasma RF 1003: Hochfrequenzgenerator für maximale Produktivität
    效果最佳,成本最低

    TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列是最新一代的高频发生器,为稳定的等离子体电源提供最佳前提条件。

    Services_Electronics_Training
    个性化客户培训是我们的强项

    经验丰富的服务工程师传授扎实知识,根据学员的需求量身定制教学内容。

    联系方式

    Klaus Nock
    等离子体销售部
    传真: +49 761 89711150
    电子邮件

    下载

    TruPlasma RF 3000 系列宣传册
    TruPlasma RF 3000 系列宣传册
    pdf - 1 MB
    TruPlasma RF 系统宣传册
    pdf - 6 MB
    服务 & 联系人