TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列

高峰值功率产生高度离子化的等离子体并实现高离子流量。由此可取得非常连贯且致密的薄膜并避免微滴。若与极化基板配置相结合，则 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列发生器可以在刻蚀、沟填应用中提供出色结果。

可调脉冲宽度与频率、扩展性能参数和具有极少电弧能量的全数字化电弧管理实现无液滴溅射、最低限度的薄膜缺陷并保证较高的涂层质量和沉积速率。

凭借高能量与高达 2 kV 的电压，可以制造出高质量的镀膜——无论是在小型实验室里还是在大型工业设施中。可达 5 ms 的脉冲与最高 10 kHz 的频率提高了沉积速率，因此有助于降低总体经营成本。

凭借可调频率的功率调节器确保沉积参数在高要求的反应工艺中也能保持恒定。因此，工艺得以在几小时甚至几天内保持稳定，无需人为介入。

TruPlasma Highpulse 系列发生器是一个紧凑型单元。其无需外部直流电源，采用全水冷设计，因此得以在洁净室内工作。