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TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006高頻發生器
TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006高頻發生器
電漿激發
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF 3000系列

毫不妥協的高頻技術

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電漿激發
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF 3000系列

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電漿激發
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF 3000系列

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    極佳工藝結果的保障

    此類高頻發電機防患於未然:TruPlasma RF 3000系列因堅固結構與卓越效率而出眾。因此,其最佳適用於穩定且可再現的等離子體處理,例如應用於純平顯示幕、太陽能電池或半導體製造。這些發生器安裝在全球數以千計的應用中,確保卓越生產效率和出色工藝結果。

    效率與成本效益

    能量轉換率高達80 %,因此與市場標準相比可將您的能源成本降低最多50 %。

    極佳的電弧管理

    安全運行,即使是苛刻的和新的流程。

    高可靠性與工藝穩定性

    CombineLine技術:失調情況下可靠避免反射功率影響。

    最為靈活

    採用連續式或脈衝式功率輸出,從而實現多樣化應用。

    理想適用於刻蝕與噴塗處理

    刻蝕與噴塗處理

    TruPlasma RF 3000系列的高頻發生器尤其適合刻蝕與鍍膜工藝,如等離子體刻蝕、反應離子刻蝕、ALD及PECVD。

    理想適用於金屬工件鍍膜

    金屬工件鍍膜

    借助等離子體進程,既可將材料施加到表面上也可將其去除,例如利用等離子體刻蝕或光刻膠等離子體灰化法為金屬工件塗覆耐磨層或者電子元件結構化。

    純平顯示幕鍍膜的頂級供電系統

    純平顯示幕與太陽能電池鍍膜

    TruPlasma RF 3000系列高頻發電機理想適用於如RIE(反應離子刻蝕)、ALD(原子層沉積)、PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)和射頻濺鍍法等等離子體處理流程。這些工藝主要應用於純平顯示幕與太陽能電池鍍膜。

    RF 輸出口          
    輸出功率 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
    標稱功率 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
    額定負載阻抗 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω
    輸出頻率 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz 13.56 MHz
    電源連接資料          
    電源電壓 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V
    電源頻率 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz 50/60 Hz 50/60 Hz
    電源輸入功率 16.6 kVA 28.1 kVA 33.3 kVA 80 kVA 100 kVA
    功率因數 0.93 0.93 0.93 - -
    通訊介面          
    同步介面
    類比/數位
    RS 232 / RS 485
    PROFIBUS
    EtherCAT
    DeviceNet
    外殼          
    重量 57 kg 117 kg 117 kg 1000 kg 1200 kg
    防護等級 IP 20 20 20 54 54
    冷卻器條件          
    最大水壓 7 bar 7 bar 7 bar 6 bar 6 bar
    最小壓力差 2 bar 2 bar 2 bar 2.5 bar 2.5 bar
    最小流量 10 l/min 20 l/min 20 l/min 46 l/min 56 l/min
    冷卻介質溫度 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1
    概覽          
    總功率 78 % 75 % 75 % - -
    證書 / 標準 SEMI F47,CE,RoHs SEMI F47,CE,RoHs SEMI F47,CE,RoHs CE,SEMI F47 CE,SEMI F47
    環境條件          
    外部溫度 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
    空氣溼度 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
    氣壓 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa 79.5 kPa - 106 kPa
    PDF <1MB
    技術資料頁

    所有產品種類的技術資料均可下載。

    整合CombineLine技術

    極高效率與工藝穩定性

    透過出色效率使功率損耗減半並降低冷卻水成本——從而讓運行成本最小化。即使工藝條件嚴苛,十分堅固的發生器結構仍允許較長的執行時間,由此提高沉積速率。透過真正具有50 Ω輸出阻抗的CombineLine技術有效防止等離子體波動——從而實現絕對穩定的工藝。

    TruPlasma RF 3012高頻發生器

    任何情況絕對可靠

    堅固結構確保最高流程可靠性和生產效率。100 % 失調保護確保在極端負載下仍然穩妥運行。可選的連續式或脈衝式功率輸出支援廣泛的工藝要求。在全球範圍內已安裝20,000多個單元——超過任何其他等離子體電源。

    TruPlasma RF_Systemport

    TRUMPF SystemPort

    SystemPort透過直接量測阻抗適配箱輸入端和輸出端上的RF信號,形成閉環控制回路。RF發電機可使用所有量測值。由此實現更好的處理流程參數監測,保護阻抗適配箱並確保及早識別電弧。可透過單一的發電機介面控制整個RF系統。

    各種選項可以實現高頻發生器根據應用進行最佳適配。

    電弧管理

    精湛的電弧管理是適用於最佳等離子體處理流程控制的理想模組。有針對性的電弧識別確保最高生產效率,同時保護產品與設備。

    易於操作的TruControl Power軟體

    TruControl Power

    易於操作的控制軟體TruControl Power實現在工藝運行中便捷調試和可靠監控高頻發生器或整個TRUMPF RF系統。

    TRUMPF RF系統的所有組件相互最佳協調。

    RF系統解決方案:進程穩定性最高的阻抗匹配箱
    TruPlasma Match 1000系列 (G2/13)

    TruPlasma Match阻抗適配網路確保從發電機至等離子體放電裝置的最佳功率傳輸。阻抗適配箱可獨立運行或經由發電機與阻抗適配箱的智慧連接(即所謂的SystemPort)實現運行。

    主振盪器用於穩定關鍵的同步等離子體過程
    主振盪器

    憑藉主振盪器可穩定和優化關鍵的同步等離子體過程。整合式數位頻率與相位合成器確保高頻率與相位穩定性,可以實現按照極小的步幅調整相位。可選擇用於13.56 MHz頻率以及各種頻率組合的不同規格主振盪器。

    高頻轉換器用於在靈活的等離子體系統中使用高頻發生器
    高頻轉換器

    高頻轉換器允許在不同等離子體進程工站多次使用高頻發生器,例如用於給連續過程或具有不同饋電點的系統供電。提供兩種功率級別以及具有2、3 或 4個輸出端的不同高頻轉換器。

    同軸電纜用於傳輸指定功率
    同軸電纜

    為實現高頻功率傳輸,TRUMPF Hüttinger提供專門設計用於在50歐姆系統下工作的同軸電纜。

    發電機與阻抗適配箱:相互完美協調的系統解決方案

    完美相互協調:發生器與阻抗適配箱

    等離子體工藝就像一個複雜可變的負載,必須由發生器為其不斷供電。這項工作由有源適配網絡(所謂的阻抗適配箱)來完成,確保隨時精確適配50 Ω的最佳阻抗。由此形成相互完美協調的系統解決方案——TRUMPF RF系統。透過不同介面(如EtherCAT)可十分輕鬆地將發電機和阻抗適配箱整合至現有處理環境之中,並透過發電機與阻抗適配箱的智慧連接(即所謂的SystemPort)形成經優化的系統解決方案。

    視國家而定,此產品分類與此説明 可能存在偏差。保留技術、裝備、價格與配件範圍方面的更改權利。 請與當地聯絡人取得聯繫,以便瞭解 您所在國家是否提供該產品。

    注脚
    • 冷卻水溫度必須超過室溫的露點,以避免產生冷凝。

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