Garanten für exzellente Prozessergebnisse
Mit diesen HF-Generatoren gehen Sie auf Nummer sicher: Die TruPlasma RF Serie 3000 zeichnet sich durch eine robuste Bauweise und hohe Effizienz aus. Damit ist sie bestens geeignet für stabile, reproduzierbare Plasmaprozesse, wie sie beispielsweise bei der Herstellung von Flachbildschirmen, Solarzellen oder Halbleitern zur Anwendung kommen. In tausenden von Anwendungen weltweit installiert, garantieren diese Generatoren eine hohe Produktivität und herausragende Prozessergebnisse.
Wirkungsgrade bis zu 80 % ermöglichen eine Reduktion der Energiekosten um bis zu 50 %.
Sichere Führung auch von anspruchsvollen und neuartigen Prozessen.
CombineLine-Technologie: zuverlässiger Schutz gegen reflektierte Leistungen bei Fehlanpassung.
Kontinuierliche oder gepulste Leistungsabgabe, daher sehr vielseitig einsetzbar.
Ätz- und Beschichtungsprozesse
Die Hochfrequenzgeneratoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich insbesondere für Ätz- und Beschichtungsprozesse, z.B. Plasmaätzen, reaktives Ionenätzen, ALD und PECVD.
Beschichtung von Metallwerkstücken
Mittels Plasmaprozessen kann sowohl Material auf Oberflächen aufgebracht als auch abgetragen werden, beispielsweise bei der Beschichtung von Metallwerkstücken mit einer Verschleißschutzschicht oder bei der Strukturierung elektronischer Bauelemente mittels Plasmaätzen oder Fotolack-Plasmaveraschung.
Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen
Die HF-Generatoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich ideal für Plasmaprozesse wie RIE, ALD, PECVD und RF-Sputtern. Diese Verfahren kommen unter anderem bei der Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen zur Anwendung.
Höchste Effizienz und Prozessstabilität
Halbierung der Verlustleistung und Senkung des Kühlwasseraufwands durch den exzellenten Wirkungsgrad – so minimieren Sie Ihre Betriebskosten. Die sehr robuste Bauweise der Generatoren erlaubt längere Betriebszeiten selbst bei kritischen Prozessen und damit höhere Beschichtungsraten. Plasmaschwankungen werden wirksam verhindert durch die CombineLine-Technologie mit echter 50-Ohm-Ausgangsimpedanz – so werden absolut stabile Prozesse ermöglicht.
Sicherheit unter allen Umständen
Die robuste Bauweise sorgt für maximale Zuverlässigkeit und Produktivität Ihres Prozesses. Ein 100 %-Fehlanpassungsschutz gewährleistet einen sicheren Betrieb auch bei kritischen Lasten. Die wahlweise kontinuierliche oder gepulste Leistungsabgabe unterstützt eine große Bandbreite von Prozessanforderungen. Weltweit sind bereits über 20.000 Einheiten installiert – mehr als von jeder anderen Plasma-Stromversorgung.
TRUMPF SystemPort
Der SystemPort ermöglicht einen geschlossenen Regelkreislauf durch das Messen des RF-Signals direkt am Eingang und Ausgang der Matchbox. Dem RF-Generator stehen sämtliche Messwerte zur Verfügung. Somit können Prozessparameter besser überwacht, die Matchbox geschützt und eine frühzeitige Arc-Erkennung gewährleistet werden. Das komplette RF-System kann also über eine einzelne Generatorschnittstelle gesteuert werden.
Verschiedene Optionen ermöglichen Ihnen eine optimale Anpassung des HF-Generators an Ihre Anwendung.
Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und die Anlage.
TruControl Power
Die anwenderfreundliche Steuerungssoftware TruControl Power ermöglicht eine komfortable Inbetriebnahme und sichere Überwachung des HF-Generators bzw. des gesamten TRUMPF RF-Systems im laufenden Prozess.
Alle Komponenten des TRUMPF RF-Systems sind optimal aufeinander abgestimmt.
TruPlasma Match Anpassnetzwerke sorgen für einen optimalen Leistungstransfer vom Generator in die Plasmaentladung. Der Betrieb der Matchbox kann eigenständig oder über eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, erfolgen.
Mittels Masteroszillatoren lassen sich kritische synchrone Plasmaprozesse stabilisieren und optimieren. Ein integrierter digitaler Frequenz- und Phasensynthesizer sorgt für eine hohe Frequenz- und Phasenstabilität und ermöglicht die Einstellung der Phasenlage mit sehr kleiner Schrittweite. Es stehen verschiedene Ausführung von Masteroszillatoren für die Frequenz 13,56 MHz sowie verschiedene Frequenzkombinationen zur Auswahl.
Ein HF-Umschalter erlaubt die Mehrfachnutzung eines HF-Generators an verschiedenen Plasma-Prozessstationen, beispielsweise zur Stromversorgung sequenzieller Prozesse oder an Systemen mit verschiedenen Einspeisepunkten. Es sind verschiedene HF-Umschalter in zwei Leistungsklassen sowie mit 2, 3 oder 4 Ausgängen verfügbar.
Für die HF-Leistungsübertragung bietet TRUMPF Hüttinger Koaxialkabel an, die speziell für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen ausgelegt sind.
Perfekt aufeinander abgestimmt: Generator und Matchbox
Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.
Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.
