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TruPlasma RF Serie 3000

HF-Technologie ohne Kompromisse

Garanten für exzellente Prozessergebnisse

Mit diesen HF-Generatoren gehen Sie auf Nummer sicher: Die TruPlasma RF Serie 3000 zeichnet sich durch eine robuste Bauweise und hohe Effizienz aus. Damit ist sie bestens geeignet für stabile, reproduzierbare Plasmaprozesse, wie sie beispielsweise bei der Herstellung von Flachbildschirmen, Solarzellen oder Halbleitern zur Anwendung kommen. In tausenden von Anwendungen weltweit installiert, garantieren diese Generatoren eine hohe Produktivität und herausragende Prozessergebnisse.

Effizienz und Wirtschaftlichkeit

Wirkungsgrade bis zu 80 % ermöglichen eine Reduktion der Energiekosten um bis zu 50 %.

Exzellentes RF-Arc-Management

Sichere Führung auch von anspruchsvollen und neuartigen Prozessen.

Hohe Robustheit und Prozessstabilität

CombineLine-Technologie: zuverlässiger Schutz gegen reflektierte Leistungen bei Fehlanpassung.

Maximale Flexibilität

Kontinuierliche oder gepulste Leistungsabgabe, daher sehr vielseitig einsetzbar.

Ätz- und Beschichtungsprozesse

Die Hochfrequenzgeneratoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich insbesondere für Ätz- und Beschichtungsprozesse, z.B. Plasmaätzen, reaktives Ionenätzen, ALD und PECVD.

Beschichtung von Metallwerkstücken

Mittels Plasmaprozessen kann sowohl Material auf Oberflächen aufgebracht als auch abgetragen werden, beispielsweise bei der Beschichtung von Metallwerkstücken mit einer Verschleißschutzschicht oder bei der Strukturierung elektronischer Bauelemente mittels Plasmaätzen oder Fotolack-Plasmaveraschung.

Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen

Die HF-Generatoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich ideal für Plasmaprozesse wie RIE, ALD, PECVD und RF-Sputtern. Diese Verfahren kommen unter anderem bei der Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen zur Anwendung.

TruPlasma RF 3012
TruPlasma RF 3020
TruPlasma RF 3024
RF-Ausgang      
Nennleistung 12 kW 20 kW 24 kW
Ausgangsleistung 12 kW 20 kW 24 kW
Nennlastimpedanz 50 Ω 50 Ω 50 Ω
Ausgangsfrequenz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
RF-Ausgang 7/8 1 5/8 1 5/8
Netzanschlussdaten      
400 V 400 V 400 V
480 V 480 V 480 V
Netzfrequenz 50 Hz 50 Hz 50 Hz
Netzfrequenz 60 Hz 60 Hz 60 Hz
Leistungsfaktor 0,93 0,93 0,93
Netzaufnahmeleistung 16,6 kVA 28,1 kVA 33,3 kVA
Arc-Management

Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und die Anlage.

TruControl Power

Die anwenderfreundliche Steuerungssoftware TruControl Power ermöglicht eine komfortable Inbetriebnahme und sichere Überwachung des HF-Generators bzw. des gesamten TRUMPF RF-Systems im laufenden Prozess.

Alle Komponenten des TRUMPF RF-Systems sind optimal aufeinander abgestimmt.

TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)
TruPlasma Match Anpassnetzwerke sorgen für einen optimalen Leistungstransfer vom Generator in die Plasmaentladung. Der Betrieb der Matchbox kann eigenständig oder über eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, erfolgen.
Masteroszillatoren
Mittels Masteroszillatoren lassen sich kritische synchrone Plasmaprozesse stabilisieren und optimieren. Ein integrierter digitaler Frequenz- und Phasensynthesizer sorgt für eine hohe Frequenz- und Phasenstabilität und ermöglicht die Einstellung der Phasenlage mit sehr kleiner Schrittweite. Es stehen verschiedene Ausführung von Masteroszillatoren für die Frequenz 13,56 MHz sowie verschiedene Frequenzkombinationen zur Auswahl.
HF-Umschalter
Ein HF-Umschalter erlaubt die Mehrfachnutzung eines HF-Generators an verschiedenen Plasma-Prozessstationen, beispielsweise zur Stromversorgung sequenzieller Prozesse oder an Systemen mit verschiedenen Einspeisepunkten. Es sind verschiedene HF-Umschalter in zwei Leistungsklassen sowie mit 2, 3 oder 4 Ausgängen verfügbar.
Koaxialkabel
Für die HF-Leistungsübertragung bietet TRUMPF Hüttinger Koaxialkabel an, die speziell für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen ausgelegt sind.

Perfekt aufeinander abgestimmt: Generator und Matchbox

Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.

Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.

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Nikolas Hunzinger
Sales TRUMPF Hüttinger
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