Länder-/Regionen- und Sprachauswahl
Hochfrequenzgeneratoren TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006
Hochfrequenzgeneratoren TruPlasma RF 3024 / 3012 / 3006
Plasmaanregungen
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma RF Serie 3000

HF-Technologie ohne Kompromisse

Garanten für exzellente Prozessergebnisse

Mit diesen HF-Generatoren gehen Sie auf Nummer sicher: Die TruPlasma RF Serie 3000 zeichnet sich durch eine robuste Bauweise und hohe Effizienz aus. Damit ist sie bestens geeignet für stabile, reproduzierbare Plasmaprozesse, wie sie beispielsweise bei der Herstellung von Flachbildschirmen, Solarzellen oder Halbleitern zur Anwendung kommen. In tausenden von Anwendungen weltweit installiert, garantieren diese Generatoren eine hohe Produktivität und herausragende Prozessergebnisse.

Effizienz und Wirtschaftlichkeit

Wirkungsgrade bis zu 80 % ermöglichen eine Reduktion der Energiekosten um bis zu 50 %.

Exzellentes RF-Arc-Management

Sichere Führung auch von anspruchsvollen und neuartigen Prozessen.

Hohe Robustheit und Prozessstabilität

CombineLine-Technologie: zuverlässiger Schutz gegen reflektierte Leistungen bei Fehlanpassung.

Maximale Flexibilität

Kontinuierliche oder gepulste Leistungsabgabe, daher sehr vielseitig einsetzbar.

Ideal geeignet für Ätz- und Beschichtungsprozesse

Ätz- und Beschichtungsprozesse

Die Hochfrequenzgeneratoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich insbesondere für Ätz- und Beschichtungsprozesse, z.B. Plasmaätzen, reaktives Ionenätzen, ALD und PECVD.

Ideal zur Beschichtung von Metallwerkstücken

Beschichtung von Metallwerkstücken

Mittels Plasmaprozessen kann sowohl Material auf Oberflächen aufgebracht als auch abgetragen werden, beispielsweise bei der Beschichtung von Metallwerkstücken mit einer Verschleißschutzschicht oder bei der Strukturierung elektronischer Bauelemente mittels Plasmaätzen oder Fotolack-Plasmaveraschung.

Stromversorgung der Spitzenklasse zur Beschichtung von Flachbildschirmen

Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen

Die HF-Generatoren der TruPlasma RF Serie 3000 eignen sich ideal für Plasmaprozesse wie RIE, ALD, PECVD und RF-Sputtern. Diese Verfahren kommen unter anderem bei der Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen zur Anwendung.

RF Ausgang            
Ausgangsleistung 6 kW 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
Nennleistung 6 kW 12 kW 20 kW 24 kW 40 kW 50 kW
Nennlastimpedanz 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω 50 Ω
Ausgangsfrequenz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz 13,56 MHz
Netzanschlussdaten            
Netzspannung 200 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V 400 - 480 V
Netzfrequenz 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz 50-60 Hz 50/60 Hz 50/60 Hz
Netzaufnahmeleistung 7,9 kVA 16,6 kVA 28,1 kVA 33,3 kVA 80 kVA 100 kVA
Leistungsfaktor 0,95 0,93 0,93 0,93 - -
Kommunikationsschnittstellen            
Sync Schnittstellen Ja Ja Ja Ja Ja Ja
Analog/Digital Ja Ja Ja Ja Ja Ja
RS 232 / RS 485 Ja Ja Ja Ja Ja Ja
PROFIBUS Ja Ja Ja Ja Ja Ja
EtherCAT Ja Ja Ja Ja Nein Nein
DeviceNet Ja Ja Ja Ja Ja Ja
Gehäuse            
Gewicht 38 kg 57 kg 117 kg 117 kg 1000 kg 1200 kg
Schutzart IP 30 20 20 20 54 54
Kühlungsanforderungen            
Max. Wasserdruck 7 bar 7 bar 7 bar 7 bar 6 bar 6 bar
Min. Druckdifferenz 1,1 bar 2 bar 2 bar 2 bar 2,5 bar 2,5 bar
Min. Durchflussmenge 8 l/min 10 l/min 20 l/min 20 l/min 46 l/min 56 l/min
Temperatur Kühlmedium 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 1 5 °C - 35 °C 5 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1 10 °C - 35 °C 1
Allgemein            
Gesamtwirkungsgrad 80 % 78 % 75 % 75 % - -
Zertifikate / Standards Semi S2, SEMI F47,UL, CSA,CE, RoHs SEMI F47,CE, RoHs SEMI F47,CE, RoHs SEMI F47,CE, RoHs CE, SEMI F47 CE, SEMI F47
Umgebungsbedingungen            
Außentemperatur 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C 5 °C - 40 °C
Luftfeuchte 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 % 5 % - 85 %
Barometrischer Druck 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa 79,5 kPa - 106 kPa
Integrierte CombineLine-Technologie

Höchste Effizienz und Prozessstabilität

Halbierung der Verlustleistung und Senkung des Kühlwasseraufwands durch den exzellenten Wirkungsgrad – so minimieren Sie Ihre Betriebskosten. Die sehr robuste Bauweise der Generatoren erlaubt längere Betriebszeiten selbst bei kritischen Prozessen und damit höhere Beschichtungsraten. Plasmaschwankungen werden wirksam verhindert durch die CombineLine-Technologie mit echter 50-Ohm-Ausgangsimpedanz – so werden absolut stabile Prozesse ermöglicht.

Hochfrequenzgenerator TruPlasma RF 3012

Sicherheit unter allen Umständen

Die robuste Bauweise sorgt für maximale Zuverlässigkeit und Produktivität Ihres Prozesses. Ein 100 %-Fehlanpassungsschutz gewährleistet einen sicheren Betrieb auch bei kritischen Lasten. Die wahlweise kontinuierliche oder gepulste Leistungsabgabe unterstützt eine große Bandbreite von Prozessanforderungen. Weltweit sind bereits über 20.000 Einheiten installiert – mehr als von jeder anderen Plasma-Stromversorgung.

TruPlasma RF_Systemport

TRUMPF SystemPort

Der SystemPort ermöglicht einen geschlossenen Regelkreislauf durch das Messen des RF-Signals direkt am Eingang und Ausgang der Matchbox. Dem RF-Generator stehen sämtliche Messwerte zur Verfügung. Somit können Prozessparameter besser überwacht, die Matchbox geschützt und eine frühzeitige Arc-Erkennung gewährleistet werden. Das komplette RF-System kann also über eine einzelne Generatorschnittstelle gesteuert werden.

Verschiedene Optionen ermöglichen Ihnen eine optimale Anpassung des HF-Generators an Ihre Anwendung.

Arc-Management

Das durchdachte Arc-Management ist das ideale Modul für beste Plasmaprozesskontrolle. Eine gezielte Arc Erkennung garantiert die höchstmögliche Produktivität und schützt gleichzeitig das Produkt und die Anlage.

Bedienungsfreundliche Software TruControl Power

TruControl Power

Die anwenderfreundliche Steuerungssoftware TruControl Power ermöglicht eine komfortable Inbetriebnahme und sichere Überwachung des HF-Generators bzw. des gesamten TRUMPF RF-Systems im laufenden Prozess.

Alle Komponenten des TRUMPF RF-Systems sind optimal aufeinander abgestimmt.

RF-Systemlösung: Matchbox für höchste Prozessstabilität
TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

TruPlasma Match Anpassnetzwerke sorgen für einen optimalen Leistungstransfer vom Generator in die Plasmaentladung. Der Betrieb der Matchbox kann eigenständig oder über eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, erfolgen.

Masteroszillator zur Stabilisierung kritischer synchroner Plasmaprozesse
Masteroszillatoren

Mittels Masteroszillatoren lassen sich kritische synchrone Plasmaprozesse stabilisieren und optimieren. Ein integrierter digitaler Frequenz- und Phasensynthesizer sorgt für eine hohe Frequenz- und Phasenstabilität und ermöglicht die Einstellung der Phasenlage mit sehr kleiner Schrittweite. Es stehen verschiedene Ausführung von Masteroszillatoren für die Frequenz 13,56 MHz sowie verschiedene Frequenzkombinationen zur Auswahl.

HF-Umschalter zur Nutzung eines HF-Generators an flexiblen Plasmasystemen
HF-Umschalter

Ein HF-Umschalter erlaubt die Mehrfachnutzung eines HF-Generators an verschiedenen Plasma-Prozessstationen, beispielsweise zur Stromversorgung sequenzieller Prozesse oder an Systemen mit verschiedenen Einspeisepunkten. Es sind verschiedene HF-Umschalter in zwei Leistungsklassen sowie mit 2, 3 oder 4 Ausgängen verfügbar.

Koaxialkabel zur Übertragung der spezifizierten Leistung
Koaxialkabel

Für die HF-Leistungsübertragung bietet TRUMPF Hüttinger Koaxialkabel an, die speziell für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen ausgelegt sind.

Generator und Matchbox: eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung

Perfekt aufeinander abgestimmt: Generator und Matchbox

Plasmaprozesse verhalten sich wie eine komplexe, variable Last, der die Stromversorgung durch den Generator kontinuierlich nachgeführt werden muss. Dies leisten aktive Anpassnetzwerke, sogenannte Matchboxen, die eine präzise Anpassung an die optimale Impedanz von 50 Ohm zu jeder Zeit sicherstellen. So entsteht eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, das TRUMPF RF-System. Über diverse Schnittstellen, u.a. EtherCAT, können Sie den Generator und die Matchbox sehr einfach in Ihre bestehende Prozessumgebung integrieren und durch eine intelligente Generator-Matchboxverbindung, den sogenannten SystemPort, eine optimierte Systemlösung erzielen.

Je nach Land sind Abweichungen von diesem Produktsortiment und von diesen Angaben möglich. Änderungen in Technik, Ausstattung, Preis und Zubehörangebot sind vorbehalten. Bitte setzen Sie sich mit Ihrem Ansprechpartner vor Ort in Verbindung, um zu erfahren, ob das Produkt in Ihrem Land verfügbar ist.

Fußnoten
  • Die Kühlwassertemperatur muss den Taupunkt der Raumtemperatur überschreiten, um Kondensation zu vermeiden.

Diese Themen könnten Sie auch interessieren

TRUMPF Hüttinger Worldwide
Ihr Kontakt bei TRUMPF Hüttinger

Sie interessieren sich für ein Produkt oder benötigen eine Beratung? Hier finden Sie Ihre Ansprechpartner weltweit.

TRUMPF Hüttinger Service goes IoT

Unsere IoT-Services maximieren Ihre Anlagen-Verfügbarkeit und machen den Service-Support noch vorausschauender und planbarer.

 

VHF Generator Serie 3000
Hohe Wirtschaftlichkeit in robustem Design

Innovativ, modular, skalierbar: Die neuen kompakten VHF-Generatoren von TRUMPF Hüttinger überzeugen durch hohe Wirtschaftlichkeit und robustes Design.

Kontakt
Nikolas Hunzinger
Sales TRUMPF Hüttinger
E-Mail
Downloads
Service & Kontakt