협력과 다른 시장

Dira 레이저 시리즈는 피코초 동안 작동하고 펄스 에너지가 최대 200 mJ인 펄스를 제공합니다. 이 값은 현재 재생식 증폭기를 이용해 생성할 수 있는 가장 높은 펄스 에너지 비율입니다.

광학적 매개변수 방식의 증폭기는 광대역 라이트 펄스를 짧은 주기로 생성하는 강력한 툴입니다. 이 방식은 현재 이러한 펄스를 멀티 mj 레벨에서 생성할 수 있는 유일한 방식입니다.

펨토초 펄스 동기화, 고객별 레이저 헤드 컨트롤, 제동 발전기 또는 광학 컴포넌트 - TRUMPF Scientific Laser사에서는 고객에게 레이저 시스템을 통합하고 최적화하기 위한 다양한 툴을 제공합니다.

초단 레이저 펄스는 유전체를 제거하기에 이상적인 공구입니다. AMPHOS 레이저 시스템의 높은 전력 출력이 바로 높은 어블레이션 비율을 보장합니다. 조사 결과 어블레이션 비율은 전력 출력과 함께 선형으로 구분되어 표시됩니다.

투명한 부품의 3D 컨스트럭션을 위한 혁신적인 절차를 "선택적 레이저 에칭"(ISLE - In Volume Selective Laser Etching)이라고 합니다. 첫 번째 단계에서는 재료가 fs 레이저 방사를 통해 변형됩니다. 두 번째 단계에서는 변경된 용량이 기본 에칭 프로세스를 통해 제거됩니다.

AMPHOS 레이저 시스템은 복합 소재 가공에 적합합니다. 비선형으로 진행되는 흡수 프로세스로 인해 다양한 유형의 소재를 높은 품질로 균일하게 제거할 수 있습니다. 이를 통해 CFRP 또는 GFK 재료를 2 ~ 3 mm² / s의 최고 어블레이션 비율과 150 W 출력으로 가공할 수 있습니다.

Access Laser사의 고성능 산업용 레이저 제품은 전 세계에서 산업용 절단, 용접, 라벨링 및 코딩 작업에 사용되고 있습니다. 또한 치과와 피부 복원 부문에서도 이 레이저는 자신의 역량을 입증했습니다.

업종 분야에서 선도적인 안정화 레이저 제품군은 높은 출력과 2% 정확도의 파장을 제공하여 팬 냉각식 및 수랭식 구조에서 사용하기에 모두 적합합니다. 이를 통해 Access Laser사는 키스 커팅(선택적 깊이), 박판 어블레이션 및 유리섬유 생산 시 그 누구도 도달할 수 없는 퍼포먼스를 제공합니다.

안정화된 Access Laser사의 레이저는 다양한 과학적 용도에 사용하기에 적합합니다. 분광, 가스 흔적 및 호흡 분석 또는 환경 모니터링 등과 같은 분야를 위해 레이저가 연구 및 개발 분야에 있어 다양한 가능성을 제공합니다.