You have selected România. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Pulverizare pasivă (procedeu PVD) | TRUMPF
Durch Zerstäubung Neues schaffen

Pulverizare pasivă (procedeu PVD)

Inovare prin atomizare

Tehnologia de depunere fizică sub formă de vapori (Physical Vapor Deposition - PVD) permite aplicarea unor straturi subțiri de dimensiuni micrometrice pe materiale de calitate diversă. În cadrul acestui proces, are loc vaporizarea fizică în vid a unui bloc de material, constând din materialul de acoperire care trebuie aplicat. Particulele atomice din amestecul de gaz rezultat se depun pe substrat. În cazul proceselor PVD asistate de plasmă, are loc pulverizarea unui catod prin bombardare cu ioni. Acest așa-numit procedeu de atomizare are loc la temperatura camerei. Procesul PVD cuprinde trei faze: atomizare, difuzie și dezvoltarea stratului.