바이폴라 발진기 TruPlasma Bipolar 4040
바이폴라 발진기 TruPlasma Bipolar 4040
플라즈마 여기
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bipolar 4000 시리즈(G2)

유연한 파형의 고출력

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플라즈마 여기
TRUMPF Hüttinger

TruPlasma Bipolar 4000 시리즈(G2)

고성능 바이폴라 기술

프로세스 전원 공급 장치 TruPlasma Bipolar 4000 시리즈(G2)는 PVD, PECVD 및 반응성 스퍼터링 공정과 같은 플라즈마를 이용한 코팅작업을 위해 개발되었습니다. 유연한 파형의 출력과 정교한 아크 관리로 인하여 TruPlasma Bipolar 4000 시리즈(G2)는 매우 광범위하게 사용될 수 있습니다. 반도체 및 솔라셀의 제조 또는 건축 유리의 코팅, 어느 경우에도 최고 성능의 코팅 품질 및 코팅율을 기대할 수 있습니다.

매우 낮은 아크 에너지

최고의 층 품질 및 생산성을 위한 완전 디지털화된 아크 관리

조정 가능한 파형

출력 신호의 변경으로 인해 상이한 프로세스에 대해 간단한 조정

하나의 발진기, 많은 어플리케이션

직류, 펄스 직류 및 바이폴라: 다양한 설정 옵션 덕분에 비용 절감

내장형 워터 쿨링

외부 컴포넌트가 필요하지 않기 때문에 매우 적은 공간만 필요

국가에 따라 이 제품 분류 및 기재 사항이 다를 수 있습니다. 기술, 사양, 가격 및 액세서리 제공 품목이 변경될 수 있습니다. 제품이 귀하의 국가에서 사용 가능한지에 대한 여부는 현지 담당자에게 문의하십시오.

Whitepaper

PDF - 683 KB
중요한 것은 형태입니다: 양극 스퍼터링
이 논문에서는 바이폴라 전원공급장치의 두 가지 기능을 소개합니다. (i) 최대 100 kHz의 넓은 펄스 주파수 범위 및 (ii) 전류 및 전압의 직사각형 파형의 양의 반파와 음의 반파 사이의 추가 제동 시간(brake time).
PDF - 942 KB
사인 또는 직사각형
고절연층을 위한 이중 마그네트론 스퍼터링(Dual-Magnetron-Sputterns (DMS))이 도입된 이후 사각파형 펄스와 파동 전원공급장치 중에서 선택할 수 있게 되었습니다.

본 주제에 흥미를 가질 수 있습니다.

대면적 코팅에 이상적
플라즈마 프로세스에 대한 전원 공급

TRUMPF Hüttinger의 플라즈마 발진기는 광범위한 출력과 주파수 스펙트럼을 제공합니다. 이 제품에 대한 정보를 여기서 확인하세요.

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제품에 관심이 있거나 컨설팅이 필요하십니까? 여기에서 전 세계 담당자를 찾을 수 있습니다.

Gleichstrom-Generator TruPlasma DC 3040
고도 요건의 스퍼터링 프로세스를 위한 특별한 디자인

TruPlasma DC 3000 시리즈(G2)의 발진기는 태양전지 제조 코팅 절차 건축 유리 코팅에 매우 적합합니다.

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