TruPlasma Match 시리즈 1000(G2/13)

Matchbox를 통해 임피던스는 언제나 50 Ohm으로 빠르고 직접적으로 정합되므로 프로세스 중 고주파 발진기의 최대 출력이 항상 보증됩니다. Matchbox와 발진기 간의 끊김 없는 통신은 최적의 프로세스 모니터링 및 조기 아크 인식을 가능하도록 합니다.

고주파 전력 입출력의 실시간 측정을 통해 역동적인 임피던스가 나타나고 냉각 센서를 통해 손실 전력을 정확하게 예상할 수 있습니다. 복잡한 그래프 옵션이 있는 운영 소프트웨어(스미스 차크, 실시간 오실로스코프)를 통해 언제든지 모든 관련 파라미터를 살펴 볼 수 있습니다.

SystemPort는 Matchbox의 입출력 단에서 직접 RF 신호를 측정하여 제어 가능하게 합니다. RF 발진기에서 모든 측정값을 사용할 수 있습니다. 이를 통해서 공정 파라미터의 모니터링이 향상될 수 있으며, Matchbox가 보호될 수 있으며, 조기 아크 인식을 보장할 수 있습니다. 전체 RF 시스템은 개별적인 발진기 인터페이스를 통해 제어될 수 있습니다.

플라즈마 공정은 발진기를 통해 전원 공급을 지속적으로 추적해야 하는 복잡하고 가변적인 부하와 같이 작동합니다. 플라즈마 공정은 최적화된 임피던스를 항상 50 Ohm으로 정확하게 조정하는 소위 매칭 Matchbox 라 하는 활성화된 조정 네트워크를 제공합니다. 이렇게 TRUMPF RF 시스템은 완벽한 상호 조화를 이루는 시스템 솔루션입니다. EtherCAT 등의 다양한 인터페이스를 통해 발진기와 MatchBOX는 매우 간단하게 사용자의 프로세스 환경에 통합될 수 있으며, 지능형 발진기 MatchBOX는 연결, 이른바 SystemPort를 통해서 최적화된 시스템 솔루션을 달성합니다.