HÜTTINGER to TRUMPF. Od 1990 r.

Mikroprocesory, kolorowe wyświetlacze i ogniwa fotowoltaiczne − to wyroby powstałe przy zastosowaniu innowacyjnej technologii plazmowej. Wiele produktów high-tech, których warunkiem są cienkie warstwy w skali nanometrycznej, można wyprodukować jedynie dzięki specjalnemu procesowi powlekania i obróbki ubytkowej. Nie ma jednak technologii plazmowej bez plazmy. Zasilacze TRUMPF Hüttinger mają szeroki zakres mocy i częstotliwości i zapewniają bezpieczne zapalanie i stabilne palenie się plazmy.

Nagrzewanie indukcyjne to rozwiązanie do zaawansowanej obróbki cieplnej i najwydajniejsza technologia nagrzewania. Użytkownik zyskuje niezwykle dużą elastyczność w zakresie temperatur, gdyż ich spektrum przy nagrzewaniu indukcyjnym jest niemal nieograniczone. Zasilacze TRUMPF Hüttinger obsługują procesy tradycyjne, np. indukcyjne hartowanie lub uszczelnianie, jak również zastosowania specjalne np. wyciąganie kryształów.

Dzięki swojej modułowej konstrukcji falowniki znajdują zastosowanie w rozwiązaniach magazynowania energii o różnym poziomie mocy – od kilowatów aż po megawaty. Innowacyjny koncept technologiczny umożliwia obsługę systemu akumulatorów w optymalnym punkcie pracy z zachowaniem najwyższej wydajności w przypadku każdego zastosowania, począwszy od zasilania prądowego, przez zastosowania przemysłowe, aż po domowe systemy magazynowania.

Do zastosowań przemysłowych idealnie nadaje się laser CO2 wykorzystujący jako aktywne medium dwutlenek węgla w stanie gazowym. Intensywne wiązki lub impulsy świetlne są w stanie natychmiast stopić albo odparować nawet bardzo twarde tworzywa. Jednak do emisji światła laser CO2 wymaga wzbudzenia za pomocą dopływu energii. Wymaganą energię do lasera CO2 firmy TRUMPF dostarczają wydajne zasilacze wysokiej częstotliwości marki TRUMPF Hüttinger.