You have selected Polska. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

Generatory plazmowe | TRUMPF
Obraz technologii – generator plazmowy DC

Generatory plazmowe

Generatory plazmowe firmy TRUMPF dostarczają konieczną energię procesu w wielu zaawansowanych technicznie branżach i umożliwiają funkcjonalne wykonywanie powłok ogniw fotowoltaicznych i mikroczipów, wielkopowierzchniowych powłok szkła architektonicznego i produkcję elementów z półprzewodników i płaskich ekranów. Dzięki znakomitej precyzji wydajności energetycznej i wysokiej stabilności procesu należą do wiodących produktów na rynku.

Generatory plazmowe MF

Dzięki wyjątkowej precyzji i produktywności to idealne rozwiązanie do licznych zastosowań w generacji plazmy.

Impulsowe generatory plazmowe DC

Impulsowe generatory plazmowe DC TRUMPF Hüttinger są idealne do szerokiego zastosowania w procesach reaktywnych.

Generatory plazmowe DC

Generatory plazmowe DC TRUMPF Hüttinger to klasyk w dziedzinie wzbudzania plazmowego.

Generatory plazmowe HF

Pierwszy wybór w wymagających zastosowaniach, takich jak wytwarzanie elementów półprzewodnikowych, mikroczipów, ogniw fotowoltaicznych czy płaskich ekranów.

Generatory plazmowe MF

Generator Bipolar TruPlasma Bipolar 4040

TruPlasma Bipolar serii 4000 (G2.1)

Zasilacze TruPlasma Bipolar serii 4000 (G2.1) dzięki elastycznie formowanym sygnałom wyjściowym i zaawansowanemu systemowi detekcji łuków zapewniają doskonałe rezultaty w produkcji półprzewodników i ogniw fotowoltaicznych przy powlekaniu szkła architektonicznego oraz nanoszeniu warstw dekoracyjnych i odpornych na ścieranie. Zasilacze najnowszej generacji są idealnym rozwiązaniem dla wymagających procesów plazmowych, takich jak reaktywne rozpylanie magnetronowe, PVD i PECVD.

TruPlasma MF serii 7000 (G2)

TruPlasma MF serii 7000 (G2)

Zasilacze MF TruPlasma Seria MF 7000 (G2) umożliwiają pełną kontrolę nad procesem − wynikiem tego są doskonałej jakości powłoki i wysoka produktywność nawet przy wymagających powłokach wielkopowierzchniowych. Dzięki maksymalnej sprawności wynoszącej ponad 90% zasilacze najnowszej generacji są również bardzo ekonomiczne w eksploatacji.

Impulsowe generatory plazmowe DC

Generator TruPlasma Highpulse serii 4000

TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2)

Zasilacze procesu TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) są doskonałym wyborem dla zastosowań HIPIMS. Umożliwiają uzyskanie twardych powłok odpornych na korozję i ścieranie. W połączeniu z polaryzowanymi surowcami urządzenia TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) mogą również obsługiwać aplikacje półprzewodnikowe, na przykład wytrawianie, wstępną obróbkę powierzchni i trench-filling.

Zasilacz TruPlasma Highpulse Seria 4000

TruPlasma Highpulse Seria 4000

Zasilacze TruPlasma Highpulse Serii 4000 są doskonałym wyborem dla zastosowań HIPIMS, ich użycie umożliwia uzyskanie twardych warstw odpornych na korozję i ścieranie. W połączeniu z polaryzacją substratu TruPlasma Highpulse Serii 4000 może również znaleźć zastosowanie w aplikacjach półprzewodnikowych, takich jak: trawienie plazmowe, wstępna obróbka ubytkowa powierzchni oraz "trench-filling”.

TruPlasma DC 4000 (G2)

TruPlasma DC Seria 4000 (G2)

TruPlasma DC Serii 4000 (G2) łączy w sobie doskonałą procedurę detekcji łuków TRUMPF Hüttinger z zaletami technologii impulsowej DC. Pozwala to osiągnąć lepsze rezultaty procesu przy mniejszej liczbie wad i jednocześnie większej szybkości osadzania. Efektem są perfekcyjne powierzchnie i wysoka efektywność produkcyjna.

Generatory plazmowe DC

Zasilacz prądu stałego TruPlasma DC 3040 (G2)

TruPlasma DC Seria 3000 (G2)

Nowa generacja zasilaczy prądu stałego TruPlasma DC Serii 3000 (G2) została zaprojektowana do stosowania w wielu różnych procesach rozpylania DC wymagających materiałów. Dzięki zaawansowanemu systemowi detekcji łuków i zastosowaniu układu chłodzenia wodą, zasilacze prądu stałego są idealne jako ekonomiczna alternatywa dla zasilaczy pulsowych DC. Bardzo zwarta konstrukcja pozwala na łatwą integrację w istniejących systemach.

Zasilacz TruPlasma Arc Seria 3000

TruPlasma Arc Seria 3000

Zasilacze TruPlasma Arc Serii 3000 sprawdzają się przede wszystkim w przypadku nanoszenia warstw utwardzających i powłok dekoracyjnych Kompaktowa konstrukcja i chłodzenie powietrzem pozwala na optymalne wykorzystanie cennej powierzchni użytkowej i ułatwia integrację nowych lub istniejących systemów.

Generatory plazmowe RF

TruPlasma RF Air Seria 1000

Chłodzony powietrzem zasilacz wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 1001 Air o mocy do 1000 W dostarcza energię w zakresie wysokiej częstotliwości z wysoką precyzją i powtarzalnością przy niezwykle wysokiej rozdzielczości – 100 mW – i dzięki temu jest dedykowany przeróżnym zastosowaniom plazmowym. Niezależnie od tego, czy wytwarzane są półprzewodniki, ogniwa fotowoltaiczne czy wyświetlacze, opatentowana technologia TRUMPF Hüttinger dzięki nowoczesnym funkcjom procesu gwarantuje sumarycznie najwyższą dostępność i najlepsze wyniki procesu.

Zasilacz wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3006

TruPlasma RF Seria 1000 / 3000 (G2/13)

TruPlasma RF Seria 1000 / 3000 (G2/13) to zasilacze wysokich częstotliwości najnowszej generacji. Dzięki innowacyjnym funkcjom, takim jak opatentowana technologia sprzężenia CombineLine lub pomiar w czasie rzeczywistym wszystkich parametrów procesu zasilanie jest zapewnione także w trudnych procesach plazmowych - optymalne warunki dla powtarzalnych wyników i wysokiej produktywności.

Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 3024/3012/3006

TruPlasma RF Seria 3000

Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF Serii 3000 charakteryzują się wysoką wydajnością i stabilnością procesów. Dlatego są one idealnym rozwiązaniem dla wymagających procesów plazmowych, stosuje się je do wytwarzania płaskich ekranów, kolektorów słonecznych lub elementów półprzewodnikowych. Układy dopasowujące dokładnie dostosowane do generatora dla dopasowania impedancji w każdej chwili zapewniają optymalne i stabilne przenoszenie mocy z generatora do plazmy.

Zasilacz VHF Seria 3000

TruPlasma VHF Seria 3000

Maksymalna moc dla procesu: zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 oparte są na innowacyjnej koncepcji platformy, która spełnia nawet najwyższe wymagania procesowe. Modułowa, chłodzona wodą konstrukcja zasilaczy VHF umożliwia uzyskiwanie mocy wyjściowej do 80 kW - i to przy zachowaniu kompaktowych rozmiarów.

Rozwiązanie systemowe RF : układ dopasowujący dla zapewnienia najwyższej stabilności procesu

TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13)

Optymalne sterowanie procesu plazmowego wymaga dokładnego dopasowania impedancji wyjściowej zasilacza wysokiej częstotliwości (HF). Dbają o to układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) jako łączniki między zasilaczem a procesem. W ten sposób powstaje całościowe rozwiązanie dla mocy procesowej - system TRUMPF RF.

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Kontakt
TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.
Faks +48 22 761 38 01
E-mail
Serwis i kontakt