Kompleksowe rozwiązanie systemowe RF z jednego źródła
Nowe układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) są idealnym uzupełnieniem zasilaczy wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger. Całościowe rozwiązanie powstaje dzięki inteligentnemu algorytmowi dopasowania i cyfrowej platformie kontroli do monitorowania procesów. Optymalna współpraca wszystkich komponentów - system TRUMPF RF.
Szybkie, stabilne i powtarzalne dopasowanie impedancji do 50 omów, nawet w krytycznych procesach.
Zaawansowane oprogramowanie i ulepszona komunikacja między zasilaczem a siecią dopasowywania.
Szybkie śledzenie każdej zmiany impedancji sieci dopasowywania i obciążenia.
Optymalne monitorowanie parametrów procesu oraz system wczesnego rozpoznawania łuku.
Graficzny interfejs użytkownika i wydajne narzędzia (wykres Smitha, oscyloskop czasu rzeczywistego).
Produkcja półprzewodników, ogniw słonecznych i płaskich ekranów
W produkcji półprzewodników, ogniw słonecznych i płaskich ekranów kluczowa jest stabilność procesów plazmowych. We współpracy z zasilaczami wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger, układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) zapewniają kompleksowe rozwiązanie dla maksymalnej stabilności i wydajności procesu.
Nanoszenie warstw utwardzających i warstw odpornych na ścieranie
Dzięki zastosowaniu funkcjonalnych powłok bardzo obciążone przedmioty obrabiane zyskują zwiększoną twardość mechaniczną oraz lepszą stabilność termiczną i chemiczną. Sieci dopasowywania TruPlasma Match Seria 1000 (G2/13) w połączeniu z zasilaczem wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger zapewniają doskonałą jakość warstw.
Obróbka ubytkowa i powlekanie powierzchni
Układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) znajdują zastosowanie we wszystkich typowych procesach plazmowych do powlekania lub obróbki ubytkowej powierzchni - na przykład: trawienie plazmowe, reaktywne trawienie jonowe, ALD, PECVD, rozpylanie lub spopielanie w plazmie. W połączeniu z zasilaczem wysokiej częstotliwości (HF) TRUMPF Hüttinger można osiągnąć optymalne wyniki procesu.
Doskonała kontrola procesu w każdej chwili
Kontrola wszystkich parametrów
TRUMPF SystemPort
Precyzyjny pomiar prądu AC do wykrywania anomalii plazmowych umieszczony w układzie dopasowującym w pobliżu procesu, bezpośrednio przy komorze.
Opcjonalnie do wyboru są interfejsy analogowy / cyfrowy, PROFIBUS i EtherCAT. Standardardowo są to EtherNet, SystemPort i RS232/485.
Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjna detekcja łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.
Graficzne oprogramowanie do obsługi
Kompleksowe wykresy umożliwiają kontrolę wszystkich istotnych parametrów procesowych. Impedancja obciążenia i układu dopasowującego może być wizualizowana za pomocą wykresu Smith, moc wejściowa i wyjściowa HF wraz z położeniem częstotliwości i fazy za pomocą oscyloskopu, w czasie rzeczywistym.
TruControl Power
Łatwe w obsłudze oprogramowanie sterujące TruControl Power pozwala na wygodne uruchomienie i stabilne monitorowanie pracy zasilacza HF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.
Kompleksowe wykresy umożliwiają kontrolę wszystkich istotnych parametrów procesowych. Impedancja obciążenia i układu dopasowującego może być wizualizowana za pomocą wykresu Smitha, moc wejściowa i wyjściowa HF wraz z położeniem częstotliwości i fazy za pomocą oscyloskopu. Dane przedstawiane są w czasie rzeczywistym.
Oscylatory matrycowe pozwalają ustabilizować i zoptymalizować krytyczne synchroniczne procesy plazmowe. Zintegrowany cyfrowy syntezator częstotliwości i fazy zapewnia wysoką częstotliwość i stabilność fazową i umożliwia regulację położenia faz o bardzo małej wielkości kroku. Istnieją różne wersje oscylatorów wzorcowych do wyboru dla częstotliwości 13,56 MHz oraz różne kombinacje częstotliwości.
Przełącznik HF pozwala na wielokrotne użycie generatora HF na różnych stacjach obróbki plazmowej, na przykład do zasilania prądowego procesów sekwencyjnych lub systemów o różnych punktach zasilania. Dostępne są różne przełączniki HF w dwóch poziomach mocy oraz z 2, 3 lub 4 wyjściami.
Do przesyłu energii HF TRUMPF oferuje kabel koncentryczny Hüttinger specjalnie zaprojektowany do eksploatacji w systemach 50-omowych.
Optymalne sterowanie procesem plazmowym
Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort, uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.
