Kompleksowa obsługa złożonych procesów
TruPlasma DC serii 4000 (G2) została zaprojektowana specjalnie dla reaktywnego rozpylania DC trudnych materiałów. Zasilacze impulsowego prądu stałego sprawdziły się szczególnie w krytycznych procesach PVD i PECVD, w których wymagane są zarówno wysoka jakość powłoki, jak i produktywność. Kompaktowe zasilacze TruPlasma DC Serii 4000 (G2) mogą być stosowane zarówno w trybie impulsowym do zasilania magnetronu jak i bias do polaryzacji podłoża - można powiedzieć, że są to dwa urządzenia w jednej obudowie!
Cyfrowa obróbka sygnału zapewnia stabilność procesu i minimalne opóźnienia wynikające z obsługi detekcji łuku.
Szybka detekcja łuku w połączeniu z technologią impulsową DC minimalizuje uszkodzenia podłoża.
Dzięki szerokiemu spektrum częstotliwości pracy i konfigurowalnemu napięciu rewersu
Zintegrowane chłodzenie wodne oszczędza miejsce i ogranicza koszty konserwacji.
Powłoki utwardzane
Dzięki zastosowaniu funkcjonalnych powłok bardzo obciążone narzędzia do obróbki zyskują większą twardość powierzchni oraz lepszą stabilność termiczną i chemiczną. Zasilacze impulsowe TruPlasma DC Serii 4000 (G2) dbają o stabilność procesu plazmowego, a tym samym zapewniają optymalną jakość powłoki.
Metalizacja
W procesach PVD można nanosić ultracienkie warstwy materiału na różne elementy w celu nadania im wymaganych właściwości optycznych i elektrycznych. Zasilanie prądowe optymalnie dostosowane do parametrów procesu umożliwia osadzanie całkowicie jednorodnych, pozbawionych uszkodzeń warstw.
Produkcja ogniw fotowoltaicznych
W celu modyfikacji właściwości elektrycznych ogniw fotowoltaicznych, podobnie jak ekrany płaskie oraz ekrany dotykowe, powleka się je materiałami przewodzącymi prąd elektryczny. Ze względu na bardzo niską energię resztkową łuku zasilacze TruPlasma DC Serii 4000 (G2) nadają się do tego najlepiej.
Szkło architektoniczne
Powlekanie dużych powierzchni szkła architektonicznego w procesie plazmowym PVD stawia wysokie wymagania dla mocy procesowej. Zasilacze pulsowe TruPlasma DC Serii 4000 (G2) zapewniają idealne warunki spełniające rygorystyczne wymagania dla nanoszonych warstw.
|
TruPlasma DC 4010 (G2)
|
TruPlasma DC 4020 (G2)
|
TruPlasma DC 4040 (G2)
|
|
|---|---|---|---|
| Wyjście | |||
| Moc znamionowa | 10 kW | 20 kW | 40 kW |
| Maks. prąd wyjściowy | 33 A eff | 67 A eff | 133 A eff |
| Maks. napięcie wyjściowe | 1200 V eff | 1200 V eff | 1200 V eff |
| Znamionowa częstotliwość robocza | 0 kHz - 100 kHz | 0 kHz - 100 kHz | 0 kHz - 100 kHz |
| Parametry łuku | |||
| Maks. charakterystyka łuku | 20000 1/s | 20000 1/s | 20000 1/s |
| Energia arc | <0,3 mJ/kW | <0,3 mJ/kW | <0,3 mJ/kW |
| Czas obróbki łukiem | <0,1 µs | <0,1 µs | <0,1 µs |
| Napięcia w układzie wzbudzania | |||
| ze wspomaganiem zapłonu | 1750 V | 1750 V | 1750 V |
| bez wspomagania zapłonu | 1250 V | 1250 V | 1250 V |
| Dane przyłącza sieciowego | |||
| Napięcie sieciowe | 3x 360 V - 528 V | 3x 360 V - 528 V | 3x 360 V - 528 V |
| Częstotliwość sieciowa | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz | 50 Hz - 60 Hz |
| Złącza komunikacyjne | |||
| Analogowe/cyfrowe | Tak | Tak | Tak |
| RS 232 / RS 485 | Tak | Tak | Tak |
| PROFIBUS | Tak | Tak | Tak |
| EtherCAT | Nie | Nie | Nie |
| DeviceNet | Tak | Tak | Tak |
| Obudowa | |||
| Masa | 65 kg | 75 kg | 150 kg |
| Stopień ochrony IP | 40 | 40 | 40 |
| Wymagania dot. chłodzenia | |||
| Medium chłodzące | Woda | Woda | Woda |
| Maks. ciśnienie wody | 7 bar | 7 bar | 7 bar |
| Min. różnica ciśnień | 3 bar | 3 bar | 3 bar |
| Min. natężenie przepływu | 8 l/min | 8 l/min | 16 l/min |
| Temperatura medium chłodzącego | 20 °C - 35 °C | 20 °C - 35 °C | 20 °C - 35 °C |
| Parametry przyłączowe DC | |||
| Liczba terminali | 3 | 3 | 3 |
| Prąd znamionowy/terminal | 25 A | 45 A | 85 A |
| Informacje ogólne | |||
| Sprawność łączna | 90 % | 90 % | 90 % |
| Certyfikaty/standardy | CE | CE | CE |
| Warunki otoczenia | |||
| Temperatura zewnętrzna | 5 °C - 45 °C | 5 °C - 45 °C | 5 °C - 45 °C |
| Wilgotność powietrza | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % | 5 % - 85 % |
| Ciśnienie barometryczne | 86 kPa - 106 kPa | 86 kPa - 106 kPa | 86 kPa - 106 kPa |
Dane techniczne wszystkich wariantów produktu do pobrania.
Wysoka jakość powłoki i produktywność
Połączenie szybkiej detekcji łuków i technologii pulsowej DC powoduje obniżenie prawdopodobieństwa powstawania makrocząsteczek i wywołanych ich obecnością uszkodzeń podłoża. Przerwy procesowe związane z obsługą łuków są zminimalizowane, szybkość osadzania jest znacząco zwiększona.
Elastyczne dopasowanie do procesu
Częstotliwość pulsowania może być regulowana w szerokim zakresie. Ponadto dostępny jest tryb pracy do polaryzacji podłoża (Bias) zasilacza DC. Dzięki temu można wykorzystywać to samo urządzenie dla różnych zastosowań. Zaawansowane narzędzia do monitorowania wspierają użytkownika w optymalizacji procesu.
Różnorodność opcji konfiguracji pozwala na dostosowanie zasilaczy pulsowych DC do wielu procesów plazmowych.
Wiele zasilaczy TruPlasma DC Serii 4000 (G2) może pracować synchronicznie. Tryb ten pozwala na synchronizację detekcji łuków w wielu zasilaczach, także w przypadku ich pracy na różnych materiałach katody. Synchronizacja jest również dostępna w trybie pracy pulsowej.
PVDPower
Przyjazne dla użytkownika, wielojęzyczne oprogramowanie PVDPower oferuje różne możliwości obsługi, konfiguracji i diagnostyki w celu optymalizacji jakości procesu i skutecznego rozwiązywania problemów; wyświetlanie rzeczywistych wartości wszystkich istotnych parametrów procesu, jak również ostrzeżeń i alarmów, ustawienie żądanej wartości przez operatora.
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.
