Innowacyjna, modułowa, skalowalna: nowa platforma zasilacza TRUMPF Hüttinger
Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 oparte są na innowacyjnej koncepcji platformy, która umożliwia najwyższe gęstości mocy i spełnia najbardziej rygorystyczne wymagania procesowe. Modułowa, chłodzona wodą konstrukcja umożliwia skalowanie mocy wyjściowej do 80 kW. Ponadto kompaktowe zasilacze VHF oferują wysoką rentowność i solidną konstrukcję.
Zapewnia to najlepszą kontrolę procesów plazmowych dla pulsowania jedno- i wielopoziomowego.
Umożliwia to elastyczną kontrolę zapłonu plazmy.
Automatyczna regulacja częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowującą.
Doskonałe, powtarzalne wyniki procesu przy użyciu wysoce precyzyjnej, cyfrowej modulacji częstotliwości.
Krótkie czasy przezbrojenia systemu dzięki brakowi konieczności regulacji długości kabla HF przy zmianach procesowych.
Niezawodne działanie zasilacza nawet przy niedopasowaniu dzięki technologii CombineLine.
Produkcja ogniw fotowoltaicznych
W obszarze ogniw fotowoltaicznych istnieje wiele aplikacji o zróżnicowanym zapotrzebowaniu na energię procesową. Do nanoszenia lub usuwania powłok stosuje się różne procesy plazmowe, na przykład rozpylanie, PECVD lub trawienie. Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 można optymalnie dostosować do danego procesu a szybki system detekcji łuków zapewnia stabilność plazmy. W ten sposób zagwarantowane są doskonałe wyniki procesu i wysoka produktywność.
Produkcja półprzewodników
W produkcji półprzewodników stosuje się różne procesy plazmowe, począwszy od procesów ablacji, przez suche trawienie, aż po ciągnienie strefowe przy wytwarzaniu czystego krzemu. Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 dzięki stabilnemu zasilaniu prądowemu optymalnie dostosowanemu do danego procesu zapewniają uzyskanie doskonałych, powtarzalnych wyników.
Idealne do powlekania płaskich ekranów
Zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 doskonale sprawdzają się w procesach plazmowych, takich jak RIE, ALD, PECVD i rozpylania RF. Procesy te są stosowane między innymi w produkcji urządzeń półprzewodnikowych i układów mikromechanicznych (MEMS), jak również do pokrywania płaskich ekranów i paneli słonecznych.
Elastyczne dopasowanie do procesu
Modułowa koncepcja platformy TruPlasma VHF Serii 3000 umożliwia skalowanie mocy wyjściowej do 80 kW. Dzięki zaimplementowanej technologii CombineLine zasilacz jest bardzo wytrzymały nawet w przypadku niedopasowania. Jego szeroki zakres częstotliwości, zmienne napięcie zasilania sieciowego oraz długość kabla pozwalają na elastyczne dostosowanie do różnych aplikacji w różnych krajach.
Najwyższa wydajność i produktywność
Generatory HF TruPlasma VHF serii 3000 zbudowane są w całości w najnowocześniejszej technologii półprzewodnikowej z tranzystorami mocy LDMOS. Wysoce zintegrowana technika płaskiej konstrukcji umożliwia wysoką gęstość mocy w połączeniu z wysoką efektywnością energetyczną i odpowiednio obniżoną wydajnością chłodzenia. To sprawia, że w tym zakresie częstotliwości rodzina tych produktów oferuje niezrównaną wydajność i obniża rynkowe koszty eksploatacji.
TRUMPF SystemPort
SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania. Zasilacz RF ma dostęp do wszystkich zmierzonych wartości. Dzięki temu można lepiej monitorować parametry procesu, chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku. Kompletnym systemem RF można sterować poprzez jeden interfejs zasilacza.
Różnorodność opcji konfiguracji pozwala na optymalne dopasowanie zasilaczy VHF do wielu aplikacji.
Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjna detekcja łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.
Elastyczne kształtowanie impulsu: kształt sygnału wyjściowego może być dostosowany do szczególnych wymagań procesowych.
Opatentowane rozwiązanie Auto Frequency Tuning umożliwia symultaniczną i szybką regulację częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowywania. Dzięki tej opatentowanej technice lokalne minimum nie stanowi już przeszkody: system RF pracuje optymalnie i umożliwia uzyskanie najlepszych wyników procesu i dużą powtarzalność.
TruControl Power
Łatwe w obsłudze oprogramowanie sterujące TruControl Power pozwala na wygodne uruchomienie i stabilne monitorowanie pracy zasilacza HF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.
Wybierając odpowiednie komponenty systemu można optymalnie dostosować zasilacz VHF do potrzeb danej aplikacji.
Idealne dopasowanie: system TRUMPF RF
Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.
