Udostępniając tę stronę internetową, używamy plików cookie w celu zapewnienia jej funkcjonalności. Jeżeli chcą Państwo zezwolić na używanie przez nas plików cookie również do innych celów, należy kliknąć tutaj. Informacje dotyczące wyłączenia plików cookie i ochrony danych osobowych
TRUMPF Laser Amplifier do wytwarzania czipów wysokiej mocy
TRUMPF Laser Amplifier do wytwarzania czipów wysokiej mocy
Laser CO2

TRUMPF Laser Amplifier

Impuls lasera jest podstawą wytwarzania mikroczipów przyszłości.

Litografia EUV jako warunek umożliwiający przejście do ery cyfrowej

Litografia w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV) jest wiodącą metodą wytwarzania mikroczipów przyszłości. Przedstawiciele branży półprzewodnikowej przez wiele lat poszukiwali efektywnego i prostego w zastosowaniu masowym procesu, który umożliwiałby oświetlanie jeszcze mniejszych struktur na waflach krzemowych. Współpracujące ze sobą firmy ASML, Zeiss i TRUMPF opracowały technologię, która pozwala korzystać ze światła w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV) o długości fal 13,5 nm na skalę przemysłową: w komorze próżniowej generator kropel uwalnia 50 000 najdrobniejszych kropel cyny na sekundę. Z każdą kroplą styka się jeden z 50 000 impulsów lasera i powstaje plazma. Powstaje przy tym światło z zakresu ekstremalnego ultrafioletu, które jest prowadzone do naświetlanego wafla za pośrednictwem zwierciadeł. Impuls stosowany w uzyskiwaniu plazmy jest dostarczany przez impulsowy system lasera CO2 – TRUMPF Laser Amplifier.

Od kilku watów do 40 kW

Wzmacniacz TRUMPF Laser Amplifier sekwencyjnie wzmacnia impuls lasera nawet ponad 10 000 razy.

Efektywnie i bezpiecznie

Wysłanie impulsu wstępnego i głównego pozwala na pełne wykorzystanie mocy wzmacniacza laserowego i przesłanie jej do kropelek cyny.

Nowe zastosowanie lasera CO₂

Podstawą systemu laserowego wysokiej mocy jest laser CO₂ w trybie impulsu ciągłego. W ten sposób firma TRUMPF opracowała nowe zastosowanie technologii.

Wielka sieć specjalistów

Długoletnia, bliska współpraca firm TRUMPF, ASML oraz ZEISS pozwoliła na wprowadzenie do przemysłu dojrzałej technologii EUV.

457.329

części

…obejmuje wzmacniacz laserowy.

7 322

m

…kabli zabudowano w systemie.

17 090

kg

… to masa całkowita.

Centralne komponenty wzmacniacza TRUMPF Laser Amplifier

Aktualne oferty pracy

1

Projektleiter (w/m/d) / Projektingenieur (w/m/d)

Badania/rozwój, Produkcja/zarządzanie jakością | Ditzingen / Niemcy

2

Project leader / project engineer (f/m/d)

Badania/rozwój, Produkcja/zarządzanie jakością | Ditzingen / Niemcy

3

Systemingenieur (w/m/d) CO2-Lasersysteme EUV

Badania/rozwój | Ditzingen / Niemcy

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Serwis i kontakt

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Poland. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Poland
United States

Or, select a country or a region.