You have selected Türkiye. Based on your configuration, United States might be more appropriate. Do you want to keep or change the selection?

EUV litografiyle ilgili yazılar | TRUMPF
EUV litografiyle ilgili yazılardan bir derleme

Medya araçlarına yansıyan EUV litografi

Wafer pozlanması işleminde ekstrem ultraviyole ışın (EUV) kullanımı, kuşkusuz çip endüstrisinin geleceğiyle ilgili en önemli konulardan biri. Sadece uzmanlık yayınlarında değil, genel yayınlarda da düzenli aralıklarla konuyla ilgili yazıların çıkıyor, teknolojideki gelişmelerin takip ediliyor olması şaşırtıcı bir durum değil. Ulusal ve uluslararası yayınlarda çıkmış önemli yazıları, sizin için bu sayfada derledik.

Samsung'un 5-nm-EUV işlemi hazır

Golem.de internet sayfasında yayınlanan bu yazıda yazar Marc Sauter, Samsung Foundry'nin aşırı ultraviyole ışınım (EUV) ile  5-nm yöntemini geliştirme aşamasını  tamamladığını ve bugünden itibaran müşterilerden siparişleri kabul edebileceklerini belirtiyor. Bu yeni yöntem ile transistör yoğunluğu %25 oranında arttırılabilmekte ve aynı anda çipler %20 oranında daha az enerji tüketmekte veya %10 daha yüksek işleme hızına sahip olabilmektedir.

Kaynak: www.golem.de
Yazar: Marc Sauter
Yayınlanma tarihi: 04/2019
Bağlantı: yazıya gitmek için

Samsung, EUV pozlama üniteleriyle 7 nanometre'lik çip üretiyor

"Heise.de" sayfasındaki yazıda, Samsung şirketinin 2018 sonbaharında ilk 7-nm fabrikasında üretime başladığı ve wafer'lerin fabrikada, ASML EUV litografi sistemiyle pozlandığı aktarılıyor. Kaynak: www.heise.de
Yazar: Nico Ernst
Yayınlanma tarihi: 10/2018
Bağlantı: yazıya gitmek için

Vaktinden Önce

TRUMPF 2017/2018 Faaliyet Raporu'nda, ışık ve ışıkla beraber lazer ve EUV litografi alanlarındaki hakimiyetin, yapay zeka, sürücüsüz ulaşım ve bir ağa bağlanmış fabrikalar gibi gelecek teknolojilerinin temelini nasıl oluşturduğu anlatılıyor.

Kaynak: TRUMPF 2017/2018 Faaliyet Raporu
Yazar: TRUMPF GmbH + Co. KG
Yayınlanma tarihi: 10/2018
Bağlantı: yazıya gitmek için

EUV tarayıcılarının kullanılabilirliği yüzde 85'e yükseldi

"golem.de" sayfasındaki yazıda, ASML'in NXW:3400B-sistemlerini önemli ölçüde iyileştirmiş olduğu ve bu sayede de ekstrem ultraviyole ışının kullanıldığı, maliyet ve zaman açısından daha etkin bir seri üretimin artık ulaşılabilir bir gelecekte yer aldığı ifade ediliyor. Kaynak: www.golem.de
Yazar: Marc Sauter
Yayın tarihi: 07/2018
Bağlantı: yazıya gitmek için

EUV neslinin sırrı

LaserFocusWorld'deki yazıda EUV teknolojisinin yirmi yılı aşan gelişim tarihçesi hakkında bilgi veriliyor, 2015 yılındaki dönüm noktasına gelinene kadar aşılması gereken sayısız engel ve güçlükler anlatılıyor.

Kaynak: LaserFocusWorld
Yazar: Andreas Thoss
Yayınlanma tarihi: 11/2017
Bağlantı: yazıya gitmek için

Access Laser anlaşmasıyla TRUMPF, EUV litografi tedarik zincirini güçlendirdi

"Produktion" (Üretim) uzmanlık dergisindeki rapor, Access firması hisselerinin çoğunluğunun TRUMPF tarafından satın alınmasıyla gerçekleşen devirle ilgili. Low-Power-CO2 lazerleri üreticisi olan Access Laser şirketi, TRUMPF'ın EUV alanındaki en önemli ortaklarından biri. Yazar: www.optics.org
Yazar: belirtilmemiş
Yayın tarihi: 10/2017
Bağlantı: yazıya gitmek için

TRUMPF çip endüstrisini hareketlendirmek istiyor

"Stuttgarter Zeitung" gazetesindeki haberde, TRUMPF'ın "Laser Amplifier" ürünüyle nasıl yarı iletken endüstrisine ara mal tedarikçisi olarak giriş yaptığı ve bu iş alanı için bir alt firma kurduğu aktarılıyor. Kaynak: "Stuttgarter Zeitung" Gazetesi
Yazar: Michael Heller
Yayın tarihi: 05/2017
Bağlantı: yazıya gitmek için

EUV, entegre devre üretiminde

Haftalık elektronik dergisi "Markt&Technik" yayınındaki yazıda, ASML şirketinin güncel ve planlanan ciro ve satış rakamları sunuluyor ve bu sayılara dayanarak EUV litografinin artık endüstride sağlam bir yerinin olduğu ifade ediliyor. Kaynak: Markt&Technik
Yazar: Heinz Arnold
Yayınlanma tarihi: 07/2017
Bağlantı: yazıya gitmek için

İlginizi çekebilecek diğer konular

İletişim
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-posta
Servis ve iletişim