Bu Web sitesini sunmak ve sitenin işlevselliğini sağlamak için çerezlerden yararlanıyoruz. Çerezleri başka amaçlar için kullanmamıza izin vermek istiyorsanız, lütfen burayı tıklayın. Çerezlerin devre dışı bırakılması ve gizliliğe ilişkin bilgiler
TRUMPF Laser Amplifier zur Herstellung von Hochleistungschips
TRUMPF Laser Amplifier zur Herstellung von Hochleistungschips
CO2 lazer

TRUMPF Laser Amplifier

Sunduğu lazer palsiyle geleceğin mikro çip üretiminin temelini sağlıyor.

Dijital çağı mümkün kılan yöntem: EUV litografi

Geleceğin mikro çiplerinin üretim yöntemi yarışında, EUV litografi büyük bir atağa geçmiş durumda. Yarı iletken endüstrisi, yıllardır, silisyum wafer üzerinde daha da küçük yapıların ışınla oluşturulmasını mümkün kılacak, uygun maliyetli, seri üretime uygun olan bir yöntem arayışı içindeydi. ASML, Zeiss ve TRUMPF şirketleri ortaklaşa gerçekleştirdikleri çalışmalarla, 13,5 nanometrelik dalga boyuna sahip ekstrem ultraviyole (EUV) ışının endüstriyel kullanım için elde edilebildiği bir teknoloji ortaya koydu: Bir damla jeneratörü bir vakum haznesi içine saniyede 50.000 küçük kalay damlası gönderiyor. Bu damlalardan her birine 50.000 lazer palsinden biri isabet ediyor ve böylece plazma oluşumu sağlanıyor. Bu sayede ortaya çıkan EUV ışın, bir ayna üzerinden, pozlanacak wafer'e yönlendiriliyor. Plazma radyasyonu için gerekli olan lazer palsini, TRUMPF tarafından geliştirilmiş, palslı lazer sistemi CO2 - yani TRUMPF Laser Amplifier sağlıyor.

Birkaç Watt'dan 40 Kilowatt'a

TRUMPF Laser Amplifier, bir lazer palsini seri halde 10.000 kattan daha fazla güçlendirebiliyor.

Etkin ve süreç güvenliği sağlanmış

Bir ön ve bir ana pals gönderilerek Laser Amplifier'ın eksiksiz gücü kalay damlasına transfer edilebiliyor.

CO2 lazer için yeni bir uygulama alanı

Yüksek performanslı lazer sisteminin temelini, sürekli çalışma modundaki CO2 lazeri oluşturuyor. Bu sayede TRUMPF, teknolojide yeni bir uygulama alanı yaratıyor.

Muazzam bir uzmanlar ağı

Uzun yıllara dayanan sıkı bir işbirliğiyle TRUMPF, ASML ve ZEISS, EUV teknolojisini endüstride kullanılabilecek bir seviyeye getirmeyi başardı.

457.329

parça

bir Laser Amplifier içindeki parça sayısı

7.322

metre

sistemde döşenmiş olan kablo uzunluğu

17.090

kilo

sistemin toplam ağırlığı

TRUMPF Laser Amplifier'ın merkezi bilişenleri

Güncel iş ilanları

1

Systemingenieur (w/m/d) CO2-Lasersysteme

Araştırma/geliştirme | Ditzingen / Germany

2

Leiter (w/m/d) Elektrokonstruktion EUV

Araştırma/geliştirme | Ditzingen / Germany

3

Projektleiter (w/m/d) / Projektingenieur (w/m/d)

Araştırma/geliştirme, Üretim/kalite yönetimi | Ditzingen / Germany

İlginizi çekebilecek diğer konular

İletişim
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-posta
Servis ve iletişim

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Turkey. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Turkey
United States

Or, select a country or a region.