Extreem ultraviolette straling (EUV) voor het belichten van wafers is zonder twijfel het onderwerp van de toekomst voor de chipindustrie. Geen wonder dat niet alleen de vakpers maar ook de algemene pers hier regelmatig over bericht en de ontwikkeling van deze technologie op de voet volgt. Op deze pagina vindt u een verzameling van enkele interessante nationale en internationale artikelen.

Het 5-nm-EUV-proces van Samsung is klaar

In dit artikel op Golem.de meldt auteur Marc Sauter dat Samsung Foundry de ontwikkeling van het 5-nm-proces met extreem ultraviolette straling (EUV) heeft voltooid en nu opdrachten van klanten aanneemt. Met dit nieuwe proces kan de dichtheid van transistoren met 25% worden verhoogd en tegelijkertijd verbruiken de chips 20% minder stroom en hebben ze 10% meer rekenkracht.

Bron: www.golem.de
Auteur: Marc Sauter
Publicatiedatum: 04/2019
Link: naar het artikel

Samsung maakt chips van 7 nanometer met EUV-belichters

Heise.de bericht in dit artikel dat Samsung in het najaar van 2018 is gestart met de productie in zijn eerste 7nm-fabriek en daar wafers belicht met het EUV-lithografiesysteem van ASML. Bron: www.heise.de
Auteur: Nico Ernst
Publicatiedatum: 10/2018
Link: naar het artikel

Voor de tijd

Het TRUMPF jaarverslag 2017/2018 belicht hoe de beheersing van het licht – en daarmee ook de laser en EUV-lithografie – de basis vormt voor de technologieën van de toekomst, zoals kunstmatige intelligentie, autonoom rijden en slimme fabrieken.

Bron: TRUMPF jaarverslag 2017/2018
Auteur: TRUMPF GmbH + Co. KG
Publicatiedatum: 10/2018
Link: naar het artikel

Beschikbaarheid van EUV-scanners gestegen tot 85 procent

Het artikel op golem.de kondigt aan dat ASML zijn NXW:3400B-systemen zo ver heeft verbeterd dat kosten- en tijdefficiënte serieproductie met extreem ultraviolette straling binnen handbereik komt te liggen. Bron: www.golem.de
Auteur: Marc Sauter
Publicatiedatum: 07/2018
Link: naar het artikel

Het geheim achter EUV-generatie

LaserFocusWorld schetst in dit artikel de meer dan twintigjarige ontwikkeling van de EUV-technologie en beschrijft de talrijke hordes en uitdagingen die tot aan de doorbraak in 2015 overwonnen moesten worden.

Bron: LaserFocusWorld
Auteur: Andreas Thoss
Publicatiedatum: 11/2017
Link: naar het artikel

TRUMPF consolideert EUV-lithografieactiviteiten door deal met Access Laser

Dit bericht in het vaktijdschrift "Produktion" gaat over het verworven meerderheidsbelang van TRUMPF in Access. Als producent van Low Power CO₂-lasers is Access Laser een van de belangrijkste partners van TRUMPF op het gebied van EUV. Bron: www.optics.org
Auteur: N.N.
Publicatiedatum: 10/2017
Link: naar het artikel

TRUMPF wil de chipindustrie een nieuwe impuls geven

De Stuttgarter Zeitung bericht hoe TRUMPF met zijn Laser Amplifier als toeleverancier zijn intrede doet in de halfgeleiderindustrie en hiervoor een nieuwe dochtermaatschappij heeft opgericht. Bron: Stuttgarter Zeitung
Auteur: Michael Heller
Publicatiedatum: 05/2017
Link: naar het artikel

EUV heeft zijn weg gevonden naar IC-productie

Het artikel in de weekkrant voor elektronica "Markt&Technik" vat huidige en geplande omzet- en afzetcijfers van ASML samen die bewijzen dat EUV-lithografie nu definitief zijn weg heeft gevonden naar de industrie. Bron: Markt&Technik
Auteur: Heinz Arnold
Publicatiedatum: 07/2017
Link: naar het artikel

Deze onderwerpen vindt u misschien ook interessant

TRUMPF Laser Amplifier

Der TRUMPF Laser Amplifier liefert Laserpulse, die Grundlage für die Fertigung künftiger Mikrochips sind. Erfahren Sie mehr über das hochtechnologische CO₂-Lasersystem.

Naar het product

Chips geproduceerd met TRUMPF Laser Amplifier

EUV-lithografie

Zonder extreem ultraviolet licht geen moderne computerchips. Welke rol krachtige CO₂-lasersystemen van TRUMPF bij de productie van halfgeleiderstructuren spelen, leest u hier.

Meer informatie

CO2-lasers

Extreem betrouwbaar, ook als het wat zwaarder wordt: de TruFlow CO2-laser van TRUMPF snijdt en last in fabriekshallen wereldwijd.

Meer informatie