Voor de beschikbaarstelling en functionaliteit van deze website maken wij gebruik van cookies. Klik hier als wij ook cookies voor andere doeleinden mogen gebruiken. Informatie over het deactiveren van cookies en gegevensbescherming
TRUMPF Laser Amplifier zur Herstellung von Hochleistungschips
TRUMPF Laser Amplifier zur Herstellung von Hochleistungschips
CO2-laser

TRUMPF Laser Amplifier

Vormt samen met de laserimpuls de basis voor de productie van toekomstige microchips.

EUV-lithografie als enabler voor het digitale tijdperk

EUV-lithografie wint de wedloop om de toekomstige methode voor het maken van microchips. Jarenlang heeft de halfgeleiderindustrie gezocht naar een kostenefficiënte en voor massaproductie geschikte methode waarmee nog kleinere structuren op siliciumwafers kunnen worden belicht. ASML, Zeiss en TRUMPF hebben nu samen een technologie ontwikkeld om extreem ultraviolet (EUV) licht met een golflengte van 13,5 nanometer voor industrieel gebruik in te zetten: In een vacuümkamer produceert een druppelgenerator 50.000 ultrakleine tindruppels per seconde. Elk van deze druppels wordt getroffen door een van de 50.000 laserimpulsen, waardoor deze in plasma veranderen. Daardoor ontstaat EUV-licht dat met behulp van een spiegel op de te belichten wafers wordt gericht. De laserimpuls voor de plasmastraling wordt geleverd door een door TRUMPF ontwikkeld, pulserend CO2-lasersysteem: de TRUMPF Laser Amplifier.

Van een paar watt naar 40 kilowatt

De TRUMPF Laser Amplifier versterkt een laserimpuls sequentieel met meer dan het 10.000-voudige.

Efficiënt en procesveilig

Door het uitzenden van een voor- en een hoofdimpuls kan het volledige vermogen van de Laser Amplifier op de tindruppels worden overgedragen.

Nieuwe toepassing voor CO2-lasers

De basis van het krachtige lasersysteem is een CO2-laser met continuwerking. Daarmee creëert TRUMPF een nieuwe toepassing voor de technologie.

Uitgebreid netwerk van specialisten

Door jarenlange nauwe samenwerking hebben TRUMPF, ASML en ZEISS de EUV-technologie geschikt gemaakt voor toepassing in de industrie.

457.329

onderdelen

... bevat een Laser Amplifier.

7.322

meter

... kabel is in het systeem ingebouwd.

17.090

kilo

... bedraagt het totale gewicht.

Centrale componenten van de TRUMPF Laser Amplifier

Actuele vacatures

1

Systemingenieur (w/m/d) CO2-Lasersysteme EUV

Onderzoek/ontwikkeling | Ditzingen / Duitsland

2

Leiter (w/m/d) Elektrokonstruktion EUV

Onderzoek/ontwikkeling | Ditzingen / Duitsland

3

Projektleiter (w/m/d) / Projektingenieur (w/m/d)

Onderzoek/ontwikkeling, Productie/kwaliteitsmanagement | Ditzingen / Duitsland

Deze onderwerpen vindt u misschien ook interessant

Contact
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Service & contact

Close

Country/region and language selection

Please take note of

You have selected Netherlands. Based on your configuration, United States might be more suitable. Would you like to keep or change the selection?

Netherlands
United States

Or, select a country or a region.