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Technologiebild DC Plasmagenerator

Plasmageneratoren

Die Plasmageneratoren von TRUMPF Hüttinger liefern die notwendige Prozessenergie für viele Hightech-Industrien und ermöglichen so die funktionale Beschichtung von Solarzellen und Mikrochips, die Großflächenbeschichtung von Architekturglas und die Herstellung von Halbleiterbauelementen und Flachbildschirmen. Dank ihrer herausragenden Präzision, ihrer Energieeffizienz und der hohen Prozessstabilität gehören sie zu den Spitzenreitern auf dem Markt.

MF-Plasmageneratoren

Dank der herausragenden Präzision und Produktivität die ideale Lösung für zahlreiche Anwendungen in der Plasmaanregung.

DC-gepulste Plasmageneratoren

DC-gepulste Plasmageneratoren von TRUMPF Hüttinger eignen sich ideal für den Einsatz in zahlreichen reaktiven Prozessen.

DC-Plasmageneratoren

DC-Plasmageneratoren von TRUMPF Hüttinger sind die Klassiker der Plasmaanregung.

HF-Plasmageneratoren

Die erste Wahl für anspruchsvolle Anwendungen wie die Herstellung von Halbleiterbauelementen, Mikrochips, Solarzellen oder Flachbildschirmen.

MW-Plasmageneratoren

Neu

TruPlasma MW Serie 1000 / 3000 / 5000

Die Solid-State-basierten Plasmageneratoren der TruPlasma MW Serie bestehen aus einem innovativen Plattform-Konzept und erzeugen höchste Plasmadichten für anspruchsvolle Prozessanforderungen. Durch die Nano-Pulse lassen sich vielfältige Plasmaparameter für die gewünschte Anwendung optimal einstellen.

MF-Plasmageneratoren

TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1)

Die Prozessstromversorgungen der TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) liefern mit flexibel formbaren Ausgangssignalen und einem ausgefeilten Arc-Management exzellente Ergebnisse bei der Herstellung von Solarzellen und Halbleitern, bei der Aufbringung dekorativer und verschleißfester Schichten sowie bei der Beschichtung von Architekturglas. Die Generatoren der neuesten Generation sind hervorragend für anspruchsvolle Plasmaprozesse wie reaktives Sputtern, PVD und PECVD geeignet.

TruPlasma MF Serie 7000 (G2)

Mit den MF-Generatoren der TruPlasma Serie MF 7000 (G2) haben Sie stets volle Kontrolle über Ihren Prozess – das Ergebnis sind herausragende Schichtqualitäten und höchste Produktivität auch bei anspruchsvollen, großflächigen Beschichtungsanwendungen. Mit Spitzenwirkungsgraden von über 90 % sind diese Stromversorgungen der neuesten Generation zugleich äußerst wirtschaftlich im Betrieb.

DC-gepulste Plasmageneratoren

TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2)

Die Prozessstromversorgungen der TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) liefern besonders korrosionsbeständige und verschleißfeste Hartstoffbeschichtungen und sind die erste Wahl für HIPIMS-Anwendungen. In Kombiniert mit polarisierten Substraten kann die TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) auch Halbleiterapplikationen wie z.B. Trench-Filling, Vorbehandlung von Oberflächen und Ätzen, bedienen.

TruPlasma DC Serie 4000 (G2)

Die TruPlasma DC Serie 4000 (G2) vereint die exzellente Arc-Behandlung von TRUMPF Hüttinger mit den Vorzügen der DC-Pulstechnologie. So erzielen Sie bessere Beschichtungsergebnisse mit weniger Defekten bei zugleich höherer Abscheidungsrate. Das Ergebnis sind brillante Oberflächen und eine hohe Produktionsleistung.

DC-Plasmageneratoren

TruPlasma DC Serie 3000 (G2)

Als neue Generation von Gleichstrom-Generatoren ist die TruPlasma DC Serie 3000 (G2) für eine Vielzahl von DC-Sputter-Prozessen geeignet. Dank ihres fortschrittlichen Arc-Managements und der integrierten Wasserkühlung sind die DC-Generatoren auch als kostengünstige Alternative zu gepulsten DC-Generatoren interessant. Die sehr kompakte Bauweise ermöglicht zudem eine einfache Integration in bestehende Anwendungen.

TruPlasma Arc Serie 3000

Die Generatoren der TruPlasma Arc Serie 3000 bestechen vor allem bei Hartstoff- und dekorativen Beschichtungen. Durch ihre kompakte Bauweise und die Luftkühlung wird eine optimale Ausnutzung wertvoller Nutzfläche gesichert und die Integration in neue oder vorhandene Systeme erleichtert.

RF-Plasmageneratoren

TruPlasma RF 1000 Air Serie

Der luftgekühlte HF-Generator TruPlasma RF 1001 Air liefert bis zu 1000 Watt hochgenaue, reproduzierbare HF-Energie mit extrem feiner Auflösung – in 100-mW-Schritten – und ist damit für unterschiedlichste Plasma-Anwendungen geeignet. Ob bei der Herstellung von Halbleitern, Solarzellen oder Displays – die patentierte TRUMPF Hüttinger Technology garantiert überall höchste Verfügbarkeit und beste Prozessergebnisse dank moderner Prozessfunktionen.

TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13)

Die TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) sind HF-Generatoren der neuesten Generation. Dank innovativer Funktionen wie der patentierten CombineLine-Kopplungstechnologie oder der Echtzeitmessung aller Prozessparameter ist eine sichere Stromversorgung auch in anspruchsvollen Plasmaprozessen garantiert – optimale Voraussetzungen für reproduzierbare Ergebnisse und hohe Produktivität.

TruPlasma RF Serie 3000

Die leistungsstarken HF-Generatoren der TruPlasma RF Serie 3000 zeichnen sich durch höchste Effizienz und Prozessstabilität aus. Sie eignen sich daher ideal für anspruchsvolle Plasmaprozesse, wie sie z.B. bei der Herstellung von Flachbildschirmen, Solarzellen oder Halbleitern zur Anwendung kommen. Genau auf den Generator abgestimmte Matchboxen zur Impedanzanpassung sorgen jederzeit für einen optimalen und stabilen Leistungstransfer vom Generator zum Plasma.

TruPlasma VHF Serie 3000

Höchstleistung für Ihren Prozess: Die Generatoren der TruPlasma VHF Serie 3000 basieren auf einem innovativen Plattform-Konzept, das selbst anspruchsvollste Prozessanforderungen erfüllt. Der modulare und rein wassergekühlte Aufbau der VHF-Generatoren ermöglicht eine Skalierung der Ausgangsleistung auf bis zu 80 kW – und dies auf kleinstem Raum.

TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13)

Für die optimale Führung eines Plasmaprozesses kommt es auf die exakte Anpassung der Ausgangsimpedanz des HF-Generators an. Dies leisten die Matchboxen der TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) als Bindeglied zwischen Generator und Prozess. Auf diese Weise entsteht eine ganzheitliche Lösung für Ihre Prozessstromversorgung – das TRUMPF RF-System.

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Nikolas Hunzinger
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